「atom」に関連した英語例文の一覧と使い方(37ページ目) - Weblio英語例文検索

In the formulae, R_1, R_2, R_3, R_4, R_5, R_6, R_7 and R_8 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group or the like.例文帳に追加

（式中、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５、Ｒ_６、Ｒ_７、Ｒ_８はそれぞれ独立して水素原子、アルキル基等を表わす。） - 特許庁

To provide a method of enhancing uptake of an atom, a molecule or a particle smaller than 10 μm by a living cell.例文帳に追加

生細胞による、原子、分子、または10μｍよりも小さな粒子の取り込みを促進する方法を提供する。 - 特許庁

SAMPLE HOLDER-ELECTRODE HOLDER INTEGRATED UNIT, POSITIONING BASE, ATOM PROBE, AND ASSEMBLY METHOD OF SAMPLE AND ELECTRODE ONTO DEVICE例文帳に追加

試料ホルダ電極ホルダ一体化ユニット、位置調整台、アトムプローブ、並びに試料及び電極の装置への組付方法 - 特許庁

The decahydrocarbaldehyde derivative is represented by formula (1) (R is hydrogen atom or a hydroxy protecting group).例文帳に追加

下記一般式（１）（式中、Ｒは水素原子、または水酸基の保護基を表す。）で示されるデカヒドロカルバルデヒド誘導体。 - 特許庁

The total of the ratios of the cobalt alloy particles of the elements having the atomic number of 1-26, 28-38 is ≤8 atom%.例文帳に追加

原子番号が１〜２６，２８〜３８の各元素のコバルト合金粒子中の比率の合計は８原子％以下である。 - 特許庁

The vinyl-based polymer produced by the atom transfer radical polymerization is purified by using a centrifugal separator.例文帳に追加

原子移動ラジカル重合により製造されるビニル系重合体を遠心分離装置を用いることにより精製する。 - 特許庁

The outermost layer is composed of aluminum nitride or aluminum carbonitride and contains over 0 and up to 0.5 atom% of chlorine.例文帳に追加

最外層は、窒化アルミニウム又は炭窒化アルミニウムからなり、最外層中に塩素を0超0.5原子％以下含有する。 - 特許庁

The outermost layer is composed of aluminum nitride or aluminum carbonitride and contains over 0 and up to 0.5 atom% of chlorine.例文帳に追加

最外層は、窒化アルミニウム、又は炭窒化アルミニウムからなり、最外層中に塩素を0超0.5原子％以下含有する。 - 特許庁

the action of forming a chelate or other stable compound with an ion or atom or molecule so that it is no longer available for reactions 例文帳に追加

それ以上反応ができないように、キレートや、イオン、原子または分子との安定化合物を形成する働き - 日本語WordNet

Such a bonding film 3 is a film into which leaving groups each consisting of a metal atom and an organic component are introduced.例文帳に追加

このような接合膜３は、金属原子と、有機成分で構成される脱離基が導入された膜である。 - 特許庁

This microcrystalline compound optical semiconductor includes a microcrystalline compound of 50% or more in its structure, which contains hydrogen, Ga, and a nitrogen element in a range from 0.5 atom% or more to 40 atom% or less, and the size of microcrystal is 0.1 μm or larger to 100 μm or smaller.例文帳に追加

０．５原子％以上４０原子％以下の水素とＧａとチッ素元素とを含有する微結晶化合物を構造内に５０％以上有し、微結晶の大きさが０．１μｍ以上１００μｍ以下であることを特徴とする。 - 特許庁

When a photoresist film is formed of the above composition, a ratio (F_1)/(C_1) of a fluorine content rate (F_1 (atom%)) to a carbon content rate (C_1 (atom%)), measured and calculated by the following surface element analysis, ranges from 0.01 to 0.6.例文帳に追加

フォトレジスト膜を形成した場合に、下記表面元素分析により測定及び算出される、フォトレジスト膜のフッ素含有率（Ｆ_１（ａｔｏｍ％））と炭素含有率（Ｃ_１（ａｔｏｍ％））との比が、（Ｆ_１）／（Ｃ_１）＝０．０１〜０．６となるものである。 - 特許庁

The steel material superior in weather resistance having an adhesive rust layer on the surface, is characterized in that a peak ratio R (the third peak/the first peak) of radial distribution around an iron atom and/or a chromium atom in the adhesive rust is 0.3 or more.例文帳に追加

密着さび層を表面に有する鋼材であって、密着さび中の鉄原子および／またはクロム原子の周りの動径分布のピーク比Ｒ（第３ピーク／第１ピーク）が、Ｒ：０．３以上であることを特徴とする耐候性に優れた鋼材。 - 特許庁

The present invention relates to the organic light-emitting material containing complex of gold expressed by formulas (2) and (6) in which gold atom links with at least one atom selected from carbon, oxygen and sulfur, and the organic light-emitting devices including the materials in its light-emitting layer.例文帳に追加

式（２）及び式（６）等に代表される、金が炭素、酸素及び硫黄から選ばれる少なくとも一つの原子と結合している金錯体を含む有機発光素子材料、及びその有機発光素子材料を発光層に含む有機発光素子。 - 特許庁

Then, the protective film 4 and the thin-film sample 2 located on a lower surface of the protective film 4 are set to be samples 5 to be sampled that are to be sampled for performing an analysis using the three-dimensional atom probe, thus making the sample for atom probe observation.例文帳に追加

そして、保護膜４および保護膜４の下面にある薄膜試料２は、三次元アトムプローブを用いた解析を行なうために採取される対象である採取対象試料５とされ、アトムプローブ観察用の試料が作製される。 - 特許庁

The thermoplastic resin composition comprises (A) a thermoplastic resin (100 pts.wt.), (B) a vinyl polymer having a silicon atom-bonding hydrogen atom in its molecule (0.01-50 pts.wt.) and (C) an inorganic powder (0.01-200 pts.wt.).例文帳に追加

（Ａ）熱可塑性樹脂（１００重量部）、（Ｂ）分子中にケイ素原子結合水素原子を有するビニル系重合体（０．０１〜５０重量部）および（Ｃ）無機粉体（０．０１〜２００重量部）からなることを特徴とする、熱可塑性樹脂組成物。 - 特許庁

The manufacturing method of the separation membrane comprises a step of performing the discharge treatment in atmosphere in which perfluorocarbon (A), and an oxygen-containing substance (B) having an oxygen atom exist and not having both of a C-H bond and any halogen atom exist on the surface of a porous membrane.例文帳に追加

多孔質膜の表面を、（Ａ）パーフルオロカーボンと、（Ｂ）酸素原子を有し、Ｃ−Ｈ結合およびハロゲン原子のいずれも有しない酸素含有物質とが存在する雰囲気中で放電処理する工程を有する分離膜の製造方法。 - 特許庁

The emitter layers 5 and 6 are formed by a first InGaP layer 5 where In and Ga in a III-family atom layer surface are arranged regularly, and a second InGaP layer 6 where In and Ga in the III-family atom layer surface are arranged irregularly.例文帳に追加

エミッタ層５，６は、ＩＩＩ族原子層面内のＩｎとＧａが規則的に配列している第１ＩｎＧａＰ層５と、ＩＩＩ族原子層面内のＩｎとＧａが不規則に配列している第２ＩｎＧａＰ層６とから形成されている。 - 特許庁

To provide a method for producing an ether compound represented by formula (3) (R^1 is a benzyl group which may be substituted with a halogen atom, a 3,3-dihalo-2-propenyl group or the like; R^2 is a hydrogen atom or the like) in a high yield.例文帳に追加

式（３） （式中、Ｒ^1はハロゲン原子で置換されていてもよいベンジル基又は３，３−ジハロ−２−プロペニル基等を表し、Ｒ^2は水素原子等を表す。）で示されるエーテル化合物を収率よく製造する方法を提供すること。 - 特許庁

Fluorine atom of 0.2-3 atom.% is introduced to the uppermost surface of a film of hydrogen containing amorphous carbon or hydrogen containing amorphous silicon carbide (having 5-50% hydrogen content) by treating the surface of a head protecting film in the plasma formed by using a fluorine based gas as a raw material.例文帳に追加

ヘッド保護膜表面フッ素系ガスを原料としたプラズマ中で処理することにより、含水素非晶質炭素または、含水素非晶質炭化珪素（水素含有量５〜５０％）膜の最表面にフッ素原子を０．２〜３原子％導入する。 - 特許庁

This cold cathode device emits electrons by applying electric field, made of amorphous carbon film containing Cs is range of 0.1 atom %≤Cs≤1.08 atom %, and XPS half value width w of Cs is w≥1.75 eV.例文帳に追加

電界を印加されることにより電子を放出する冷陰極素子であって，Ｃｓ含有量が０．１原子％≦Ｃｓ≦１．８原子％である非晶質炭素膜より構成され，ＣｓのＸＰＳ半値幅ｗはｗ≧１．７５ｅＶである。 - 特許庁

This substrate to be used is an oligosaccharide derivative having such a linkage that glucose or a glucose residue and the glucoside linkage thereof undergoes no hydrolysis by α-amylase, for example, a linkage wherein another atom is substituted for the O-atom in an O-glucoside linkage.例文帳に追加

グルコース若しくはグルコース残基とグルコース若しくはグルコース残基のグルコシド結合がα−アミラーゼにより水解されない結合、例えばＯ−グルコシド結合のＯが他の原子に置換されたオリゴサッカライド誘導体を基質として使用する。 - 特許庁

In the formula, M is a metal element selected from metals of the fourth to seventh period of the periodic table; and X^11 to X^26 are each independently a hydrogen atom or a substituent, provided that at least one of X^11 to X^26 is a halogen atom.例文帳に追加

（式（１）中、Ｍは、周期表の第４〜７周期の金属から選ばれる金属元素である。Ｘ^１１〜Ｘ^２６は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表すが、Ｘ^１１〜Ｘ^２６のうち少なくとも１つはハロゲン原子である。） - 特許庁

The color filter ink, which is used to produce such a color filter by using an inkjet method, includes: C.I. pigment yellow 150; and a sulfonated pigment derivative represented by formula (1), where n represents an integer of 1-5, and X^1-X^8 each independently represent a hydrogen atom or a halogen atom.例文帳に追加

本発明のカラーフィルター用インクは、インクジェット方式によるカラーフィルターの製造に用いられるカラーフィルター用インクであり、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０と、下記式（１）に示されるスルホン化された顔料誘導体とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

An olefin is polymerized by using an olefin polymerization catalyst comprising a specific organotransition metal compound whose (substituted) cyclopentadienyl group includes a substituent having an unsaturated carbon atom or a substituent having a silicon atom and an activation cocatalyst.例文帳に追加

（置換）シクロペンタジエニル環に、不飽和の炭素原子を有する置換基、またはケイ素原子を有する置換基を有することを特定の有機遷移金属化合物、活性化助触媒からなるオレフィン重合用触媒を用いてオレフィンを重合する。 - 特許庁

A spacer 19 with a thickness of about ≤50 μm is installed between the single crystal SiC substrate 5 and the C atom-supplying substrate 17 to control the thickness of the single crystal SiC grown between the single crystal SiC substrate 5 and the C atom-supplying substrate 17.例文帳に追加

前記単結晶SiC基板5と前記C原子供給基板17との間に約５０μｍ以下の厚さのスペーサ19を設け、前記単結晶SiC基板5と前記C原子供給基板17との間に成長される単結晶SiCの厚みを制御する。 - 特許庁

The abrasive for the CMP for polishing a polished surface in manufacturing the semiconductor device contains oxide fine particles, pullulan, water, and an antiseptic agent with a heterocyclic ring structure having a nitrogen atom and a sulfur atom in the ring.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において被研磨面を研磨するためのＣＭＰ用研磨剤であって、酸化物微粒子とプルランと水と環内に窒素原子および硫黄原子を有する複素環構造を備える防腐剤とを含有する研磨剤。 - 特許庁

Furthermore, the inventors have found that detection sensitivity is improved by adding a nonionic surfactant and a vinyl-based water-soluble polymer having a polar group containing oxygen atom and nitrogen atom, to a developer for use in immunochromatography.例文帳に追加

さらに、本発明者らは、イムノクロマトグラフ法で用いる展開液に非イオン性界面活性剤及び酸素原子及び窒素原子含有極性基を有するビニル系水溶性ポリマーを添加することにより、検出の感度が高められることも見出した。 - 特許庁

To provide a new method for producing a compound having a structure in which a hydrogen atom and a functional group are bonded through a hetero atom to a lactone ring structure and a cyclic unsaturated compound having an ether structure etc., obtained by the production method.例文帳に追加

ラクトン環構造にヘテロ原子を介して水素原子や官能基が結合した構造を有する化合物を製造する新たな方法、及び該製造方法によって得られるエーテル構造等を有する有用な環状不飽和化合物の提供。 - 特許庁

The compound is represented by formula (1) (wherein R^1 is a hydrogen atom, optionally substituted 1-20C hydrocarbon group, cyano group, carboxy group, alkoxycarbonyl group or alkenyloxycarbonyl group; and X^1 and X^2 are each independently a halogen atom).例文帳に追加

下記式（１）（式（１）中、Ｒ^1は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の炭化水素基、シアノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基またはアルケニルオキシカルボニル基を示し、Ｘ^1およびＸ^2はそれぞれ独立にハロゲン原子を示す。 - 特許庁

The discharging electrode 20 includes: a substrate for discharging electrode 1; and a surface layer 12 which is arranged on the surface of the substrate for discharging electrode 1 and contains oxygen and gallium and in which the content of oxygen is ≥15 atom% and ≤55 atom%.例文帳に追加

放電電極用基体１と、前記放電電極用基体１の表面に設けられた、酸素とガリウムとを含み酸素の含有量が１５原子％以上５５原子％以下である表面層１２と、を有する放電電極２０である。 - 特許庁

Disclosed are the catalyst composition containing a specific neutral metal pair complex containing a first metal atom M^1 and a second metal atom M^2 which have a through-space internuclear distance of at least 1.5 Å and at most 20 Å, and a manufacturing method thereof.例文帳に追加

少なくとも１．５オングストロームかつ２０オングストローム以下のスルースペース核間距離を有する第一金属原子Ｍ^１、および第二金属原子Ｍ^２を含む、特定の中性金属対錯体を含む触媒組成物とその製造法が開示される。 - 特許庁

(In formula, R denote a hydrogen atom, a hydroxyl group, an amino group, a mercapto group, or a 1-10C hydrocarbon group, which may be the same to each other or different from each other and N^1 and N^2 each denotes a nitrogen atom.).例文帳に追加

（式（Ｉ）中、Ｒは、同一若しくは異なって、水素原子、水酸基、アミノ基、メルカプト基、又は炭素数１〜１０の炭化水素基を表し、該炭化水素基は、ヘテロ原子及び／又はハロゲン原子を有してもよい。Ｎ^１及びＮ^２は、窒素原子を表す。） - 特許庁

A monomer for photoresists, represented by formula (I) [wherein, R^a represents H, a halogen atom or a (halogen atom-containing) 1-6C alkyl group; R^1 represents a methyl group; and A represents a methylene group, O or S] is provided.例文帳に追加

下記式（Ｉ） （式中、Ｒ^ａは水素原子、ハロゲン原子、又はハロゲン原子を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｒ^１はメチル基を示し、Ａはメチレン基、酸素原子、又は硫黄原子を示す。）で表されるフォトレジスト用単量体。 - 特許庁

When the total amount of all the atoms other than oxygen atoms contained in the protective layer 2 is taken as 100 atom%, the total amount of atoms of Cr, Zn, Ga, In, Sn, Sb, Bi, and Te in the protective layer 2 is at least 70 atom%.例文帳に追加

保護層２に含まれる酸素原子以外の全原子の合計を１００原子％とした場合に、保護層２におけるＣｒ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｂｉ及びＴｅの原子数割合の合計は、７０原子％以上である。 - 特許庁

As the coating comprises the resin bearing the oxygen atom in the main skeleton, it can form a film, to which sebum as the main component of the fingerprint has a small contact angle, and can wet and spread the fingerprint wide owing to the highly electronegative oxygen atom.例文帳に追加

主骨格に酸素原子を有する樹脂を含有するので、電気陰性度の高い酸素原子によって、指紋の主成分である皮脂の接触角が小さい被膜を形成することができ、指紋を大きく濡れ広がらせることができる。 - 特許庁

The magnetic sheet includes a matrix material and the Fe-based amorphous magnetic alloy which is contained in the matrix material and contains the low temperature annealing-enabling element M of 5 atom% or less and Ni of 10 atom% or less.例文帳に追加

また、本発明の磁気シートは、マトリクス材料と、このマトリクス材料に含まれる、５原子％以下の低アニール化促進元素Ｍと、１０原子％以下のＮｉとを含有するＦｅ基非晶質磁性合金とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

In the formula, R^1 represents hydrogen atom, halogen atom, substitutional or non-substitutional alkyl group, aryl group or heterocyclic ring group, alkoxyl group, carbonyl group, nitro group, amino group, or cyano group, R^2 represents substitutional or non-substitutional aromatic amine, and n is an integer of not less than 2.例文帳に追加

（式中、Ｒ^1は水素原子、ハロゲン原子、置換又は未置換のアルキル基、アリール基又は複素環基、アルコキシ基、カルボニル基、ニトロ基、アミノ基、シアノ基を表し、Ｒ^2は置換又は未置換の芳香族アミンを表す。ｎは２以上である。） - 特許庁

When the nano-carbon is manufactured, silicon carbide is heated to 800-2,000°C that is a silicon atom losing temperature while a decomposed gas generated at silicon atom losing is removed from the environment of the silicon carbide.例文帳に追加

本製造方法は、炭化珪素を、珪素原子が失われる温度（８００〜２０００℃）で加熱してナノカーボンを製造する方法であって、上記珪素原子が失われる際に発生する分解ガスを炭化珪素の周辺より除去しながら加熱する。 - 特許庁

The dryer preferably comprises an organic acid metal salt represented by general formula (1): B(OMR)_3, wherein M is a cobalt atom or a manganese atom; and R is an organic acid group, and three R's in the molecule may be the same or different.例文帳に追加

好適例として、一般式（１） Ｂ（ＯＭＲ）_３ （１）（式中、Ｍはコバルト原子又はマンガン原子を表し、Ｒは有機酸基を表し、分子中の３つのＲは同一でもよく又は異なっていてもよい。）で表される有機酸金属塩を包含する。 - 特許庁

The coating film (24) has an average aluminum content of 14 to 30 atom% and an average platinum-group metal content of at least 1 to less than 10 atom%, the balance of the coating (24) being nickel, incidental impurities, and optionally hafnium.例文帳に追加

本皮膜（２４）は、１４〜３０原子％の平均アルミニウム含有量と、少なくとも１〜１０未満の原子％の平均白金族金属含有量とを有し、本皮膜（２４）の残部は、ニッケルと、随伴不純物と、随意的にハフニウムとである。 - 特許庁

The polyester resin is mainly composed of an aromatic dicarboxylic acid component and a glycol component and contains 100-10,000 ppm, in terms of the phosphorus atom, of a phosphorous compound, and has an Fe atom content of at most 30 ppm.例文帳に追加

主と して芳香族ジカルボン酸成分とグリコール成分とからなり、リン化合物をリン原子として１００〜１００００ｐｐｍの量含有するポリエステル樹脂であって、Ｆｅ原子の含有量が３０ｐｐｍ以下であることを特徴とする。 - 特許庁

In the formula, R^1 and R^2 individually represent a hydrogen atom, an alkyl group, a heterocycle group, or an aryl group, and R^3 and R^4 individually represent a hydrogen atom, or an alkyl group or an aryl group containing a carboxyl group, etc.例文帳に追加

下記一般式（Ｉ）中、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、ヘテロ環基またはアリール基を表し、Ｒ^３およびＲ^４はそれぞれ独立に水素原子、または、カルボキシ基などを有するアルキル基またはアリール基を表す。 - 特許庁

This is a method for manufacturing a platinum complex catalyst by adding a low molecular chainlike or ringlike vinyl siloxane which is indicated in a general formula (1) or (2) to a platinum-vinyl siloxane complex so that a ration of vinyl group/platinum atom becomes 0.5-10 mol/atom.例文帳に追加

白金−ビニルシロキサン錯体に下記一般式（１）又は（２）で示される低分子量の鎖状又は環状のビニルシロキサンをビニル基／白金原子の比が０．５〜１０ｍｏｌ／ａｔｏｍになるように添加する白金錯体触媒の製造方法。 - 特許庁

The compound represented by general formula (17) where R^1 and R^5 are each independently a hydrogen atom or a carboxy group, and R^2 and R^6 are each independently a hydrogen atom or a hydroxy group, or a pharmaceutically acceptable salt thereof is provided.例文帳に追加

下記一般式（１７）（式中、Ｒ^1およびＲ^5は、独立して、水素原子またはカルボキシル基を表し、Ｒ^2およびＲ^6は、独立して、水素原子または水酸基を表す。）で表される化合物、またはその薬学上許容される塩。 - 特許庁