| 意味 | 例文 |
bridge patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 88件
To detect bridge failure, without having to use additional test pattern for detecting bridge failure and reduce omissions of bridge failure detection.例文帳に追加
ブリッジ故障検出用の追加的なテストパタンを用いることなくブリッジ故障の検出を可能とし、また、ブリッジ故障の検出漏れを減らす。 - 特許庁
A wiring pattern 11 is formed in a predetermined pattern so that distortion detecting elements 4A to 4D comprise a Wheatstone bridge circuit.例文帳に追加
配線パターン11は、歪み検出素子4A〜4Dがホイートストンブリッジ回路を構成するように所定のパターンに形成されている。 - 特許庁
A closed circuit is formed through the first short circuit pattern 104a, a short circuit bridge 110 and the second short circuit pattern 104b, as a result thereof.例文帳に追加
その結果、第一ショートパターン104a,ショートブリッジ110、第二ショートパターン104bを経由する閉回路が形成されることになる。 - 特許庁
An antenna radiator according to one embodiment of the present invention includes a plurality of antenna pattern radiators each of which includes an antenna pattern portion receiving or transmitting an external signal, a bridge provided to connect the antenna pattern portions, and a cutting assistance part formed in a connection portion between the bridge and the antenna pattern portions and facilitating detachment of the bridge from the antenna pattern portions.例文帳に追加
本発明の一実施例によるアンテナ放射体は、外部信号を送信または受信するアンテナパターン部をそれぞれ備える複数のアンテナパターン放射体と、上記アンテナパターン部を連結するように提供されるブリッジと、上記ブリッジと上記アンテナパターン部の連結部に形成され、上記アンテナパターン部とブリッジ間の分離を容易にする切断補助部を含むことができる。 - 特許庁
Since this bridge 63 is in a shape narrower than the resolution, it is not left in the transferred pattern.例文帳に追加
このブリッジ63は解像度以下の細い形状であるので、転写されたパターンに残ることはない。 - 特許庁
To improve the quality of testing by generating a test pattern which detects bridge failures of LSI, with high accuracy.例文帳に追加
LSIのブリッジ故障を高精度に検出するテストパターンを作成し、テストの品質を向上する。 - 特許庁
Or a resistance layer 15a may be formed at a cut section 31 of the wiring pattern 30 in a bridge- shape.例文帳に追加
また配線パターン30の切断部31にブリッジ状に抵抗層15aを形成してもよい。 - 特許庁
An integrated wire mesh pattern (62) is located in the damper cavity (42) on each side of the damper bridge (36).例文帳に追加
一体式ワイヤメッシュダンパー(62)がダンパーブリッジ(36)の各々の側のダンパー空洞(42)内に位置する。 - 特許庁
As a result, generation of a bridge phenomenon between the first photoresist pattern 28 and the fall-down phenomenon of the first photoresist pattern 28 can be prevented.例文帳に追加
これにより、第1フォトレジストパターン28の間のブリッジ現象及び第1フォトレジストパターン28の倒れ現象を防止することができる。 - 特許庁
To provide a test pattern preparation device, a test pattern preparation method, a failure detection rate calculation device, and a failure detection rate calculation method for preparing a test pattern for highly precisely detecting the bridge failure of an LSI.例文帳に追加
LSIのブリッジ故障を高精度に検出するテストパターンを作成できるテストパターン作成装置、テストパターン作成方法、故障検出率算出装置故障検出率算出方法を提供する。 - 特許庁
To conduct precoating by soldering on a fine-pitched pattern without generating a solder bridge or a non-soldered section.例文帳に追加
ファインピッチ化されたパターン上に、はんだブリッジ及び未はんだ領域を発生させることなくはんだプリコートを行う。 - 特許庁
To provide a pattern forming method using an organic solvent-based developing solution, by which a pattern with reduced bridge defects can be formed, and to provide a rinsing liquid for use in the above method.例文帳に追加
ブリッジ欠陥が低減されたパターンを形成できる有機溶剤系現像液を用いたパターン形成方法及び該方法で用いられるリンス液を提供すること。 - 特許庁
According to this method, the bridge of the resist pattern is not generated whereby the yield and reliability of the semiconductor manufacturing device can be improved.例文帳に追加
これにより、レジストパターンのブリッジを発生せず、半導体製造装置の歩留り及び信頼性を向上することができる。 - 特許庁
A second wiring layer 120 has a bridge wiring line 30, which electrically connects the first via 70 to the second via 72, and a conductor pattern 50 which is formed around a bridge wiring line 30 and has outer edges at positions beyond the outer edges of a first wiring pattern and a second wiring pattern in the first wiring layer 110.例文帳に追加
第2配線層120は、第1ビア70および第2ビア72を電気的に接続するブリッジ線路30と、ブリッジ線路30の周囲に設けられて、第1配線層110における第1配線パターンおよび第2配線パターンの外縁を越えた位置に外縁をもつ導体パターン50とを有する。 - 特許庁
The second wiring layer 120 comprises a bridge line 30 for electrically connecting the first via 70 and the second via 72 together, and a conductor pattern 50 which is provided around the bridge line 30 and has an outer edge at the position beyond the outer edge of the first wiring pattern and second wiring pattern of the first wiring layer 110.例文帳に追加
第2配線層120は、第1ビア70および第2ビア72を電気的に接続するブリッジ線路30と、ブリッジ線路30の周囲に設けられて、第1配線層110における第1配線パターンおよび第2配線パターンの外縁を越えた位置に外縁をもつ導体パターン50とを有する。 - 特許庁
The cuts 18 and 19 are for electrically connecting the other end of the pattern 15 to the other end of the pattern 15 by passing the tip part of a folded bridge part from the reverse surface side to the top surface side.例文帳に追加
切り込み18,19は、該折り曲げたブリッジ部20の先端部を裏面側から表面側に通して該パターン15の他端とパターン16の他端とを電気的に接続するものである。 - 特許庁
When solder paste of a continued straight pattern is printed on the narrow pattern and allowed to reflow, melted solder is allowed to flow in a pattern direction of large heat capacity, so that an inexpensive solder mounting board having no solder bridge can be provided.例文帳に追加
狭いパターン部に連続した直線パターンのはんだペーストを印刷し、リフローすることで、はんだが溶けるとき熱容量の大きいパターン方向へ流れるため、はんだブリッジのない安価なはんだ搭載基板を提供できる。 - 特許庁
To provide a stabilized method for compressing solder by splitting an electrode pattern on a ceramic substrate thereby reducing generation of solder bridge.例文帳に追加
本発明はセラミック基板の電極パターンを分割し、半田ブリッジの発生を低減させ、安定した半田圧着方法を提供する。 - 特許庁
An electric wiring circuit pattern is formed on the board which now has no through-hole since it is filled with the conductive paste, and then a liquid photo resist for bridge footing of the air bridge is applied evenly on the board by spin coating and the air bridge is formed by photoengraving of the photo resist, etc.例文帳に追加
導電性ペーストの充填により貫通穴の無くなった基板に対し、電気配線回路パターンを形成し、次いでエアブリッジ橋脚用の液体フォトレジストをスピンコーティング法により基板上に均一に塗布し、フォトレジスト写真製版などによりエアブリッジを形成した。 - 特許庁
In the GLV 18, a voltage is selectively applied to a part of the bridge parts 18A in response to the film pattern to deform the selected bridge parts 18A, and thereby, the irradiated energy beam is controlled to be diffracted.例文帳に追加
GLV18では、一部の架橋部18Aに対して薄膜パターンに応じて選択的に電圧が印加され、選択された架橋部18Aが変形することによって、照射されたエネルギービームが回折制御される。 - 特許庁
To provide a pattern forming method and a chemically amplified negative resist composition exhibiting a large depth of focus (DOF) and small line width roughness (LWR) and being capable of forming a pattern having a superior pattern shape and reduced bridge defects.例文帳に追加
フォーカス余裕度(DOF)が広く、線幅バラツキ(LWR)が小さく、パターン形状に優れ、更にはブリッジ欠陥が低減されたパターンを形成できるパターン形成方法及び化学増幅型ネガ型レジスト組成物を提供することを課題としている。 - 特許庁
The method includes steps of: consecutively disposing a phase shift layer pattern and a light shielding layer pattern over a transparent substrate to form a photomask and forming a resist layer over the entire surface of the photomask having a defective pattern causing a bridge between neighboring portions of the phase shift layer pattern; exposing the defective pattern by etching the resist layer; and removing the exposed defective pattern.例文帳に追加
透明基板上に位相反転膜パターン及び光遮蔽膜パターンを順次に配置してフォトマスクを形成し、隣接する位相反転膜パターンをブリッジさせる不良パターンの生じたフォトマスク全面にレジスト膜を形成する段階と、レジスト膜をエッチングして不良パターンを露出させる段階と、露出した不良パターンを除去する段階と、を含む構成とした。 - 特許庁
In the IC tester, including the electronic load part connecting a current source on both ends of a diode bridge, the diode bridge and the current source are synchronized with the test pattern signal to be connected via an on/off control switch.例文帳に追加
ダイオードブリッジの両端に電流源を接続した電子負荷部を含むICテスタにおいて、 これらダイオードブリッジと電流源とを、テストパターン信号に同期してオンオフ制御するスイッチを介して接続したことを特徴とするもの。 - 特許庁
A CPU 221 of a check display control section 22 decompresses and outputs a check pattern image data which is compressed and stored in a storage section 222 to a bridge circuit 223.例文帳に追加
チェック表示制御部22のCPU221は記憶部222に圧縮されて記憶されたチェックパターン画像データを伸張してブリッジ回路223に出力する。 - 特許庁
To provide a negative resist composition hardly causing a bridge in forming a pattern and providing a high resolution and a patterning method using the same.例文帳に追加
パターン形成時にブリッジが発生しにくく、高い解像性を与えることができるネガ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
The wiring is made of a same substance as the source/drain regions or different from the source/drain regions, and has an island shaped bridge pattern structure.例文帳に追加
前記配線は、前記ソース/ドレーン電極と同一の物質またはソース/ドレーン電極と異なる物質からなり、島状のブリッジパターン構造を有する。 - 特許庁
To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which improves a pattern shape and exposure latitude and reduces bridge defects, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加
パターン形状及び露光ラチチュード(Exposure Latitude)の改善とブリッジ欠陥の低減との両立を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
In performing the etching, a pattern frame 22 is arranged on the periphery of the plate-shaped dynode substrate 20, and the pattern frame 22 and the edge 20a of the dynode substrate 20 are connected to each other by a bridge part 23.例文帳に追加
このエッチング処理を行うにあたって、板状のダイノード基板20の周囲にパターン枠22を配置させ、このパターン枠22とダイノード基板20の縁部20aとをブリッジ部23によって連結させたものを準備する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a resist composition, restraining the occurrence of a defect in a resist pattern after development, especially fine scum and micro-bridge and having small line edge roughness, and to provide a resist composition and a pattern forming method using the same.例文帳に追加
現像後のレジストパターンのディフェクト、特に微細なスカムやマイクロブリッジの発生を抑制でき、またラインエッジラフネスの小さいレジスト組成物の製造方法、レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁
A pair of MREs 12 and 13 constituting the first MRE bridge 10 form a first V-shaped pattern together, and a pair of MREs 14 and 15 constituting the second MRE bridge form a V-shaped pattern inverted by 180° to the first V-shaped pattern with the direction orthogonal to the center line 4a of the IC chip 4 as the axis.例文帳に追加
第1のMREブリッジ10を構成する一対のMRE12、13は、互いに第1のハの字状パターンを形成しており、第2のMREブリッジ12を構成する一対のMRE14、15は、第1のハの字状パターンに対してICチップ4の中心線4aに直交する方向を軸として180°反転したハの字状パターンを形成している。 - 特許庁
To provide a ceramic circuit board manufacturing method which can form a fine circuit pattern such as an air bridge at an accurate position on the surface of a ceramic board having a through-hole structure and can also improve the quality of the air bridge, and also to provide the ceramic circuit board.例文帳に追加
スルーホール構造を有するセラミック基板表面の正確な位置に、エアブリッジなどの微細回路パターンを形成することができ、かつ、エアブリッジの品質を向上できるセラミック回路基板の製造方法及びセラミック回路基板を得る - 特許庁
To prevent the generation of the bridge of resist pattern and improve the yield and reliability of a semiconductor manufacturing device, in a lithography process employing an organic reflection preventing film.例文帳に追加
有機反射防止膜を使用したリソグラフィー工程において、レジストパターンのブリッジを発生せず、半導体製造装置の歩留まり及び信頼性を向上する。 - 特許庁
To prevent damage to an oxide film for an storage electrode and a bridge phenomenon between contacts by using a hard mask layer pattern and increasing the surface area of a storage electrode region.例文帳に追加
ハードマスク層パターンを利用して格納電極領域の表面積を増加させ、格納電極用の酸化膜の損傷、及びコンタクト間のブリッジ現象を防止する。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin coating device where occurrence of a pattern bridge phenomenon is prevented during an exposure process by preventing contamination of the rear surface of a substrate due to sticking of resin.例文帳に追加
基板の裏面の樹脂付着の汚染を防止し、露光工程の際、パターンブリッジ現象が生じることを防止できる感光性樹脂塗布装置を提供する。 - 特許庁
To provide a pattern forming method, and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which enable formation of a pattern which is superior in the depth of focus (DOF) and in roughness characteristics and having few bridge defects and few chips.例文帳に追加
フォーカス余裕度(DOF)及びラフネス特性に優れ且つブリッジ欠陥及び欠けの少ないパターンを形成可能とするパターン形成方法並びに感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide an active ray sensitive or radiation sensitive resin composition which allows formation of a pattern having good properties of PEBS (post exposure bake sensitivity), MEEF (mask error enhancement factor), coverage dependence and bridge defects, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.例文帳に追加
PEBS、MEEF、被覆率依存性、ブリッジ欠陥のいずれもが良好なパターンを形成することが可能な感活性光線又は感放射線樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive resin composition for a resist film, which can suppress generation of bridge defects and scum, has an excellent LWR (line width roughness) performance and allows formation of a favorable fine pattern, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加
ブリッジ欠陥及びスカムの発生を抑制でき、かつLWR性能に優れ、良好な微細パターンを形成することが可能なレジスト膜用の感放射線性樹脂組成物、及びこれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁
By this setup, the solder left on the dummy pattern 6 is reduced in volume, and solder is restrained from moving to the lands due to a reaction that occurs when the solder attached to the dummy pattern is separated from a solder jet, so that a solder bridge is prevented from being produced between the lands.例文帳に追加
これにより、ダミーパターンに残るはんだの量を減らして、ダミーパターンに付着したはんだがはんだ噴流から分離する際の反動でランド側に移動するはんだの戻りを抑え、よってランド間のはんだブリッジを回避する。 - 特許庁
The evaluation test device of the silicide film manufacturing process provided with a first pattern A comprising the crossing resistance pattern of a polycide layer formed on the field area 500 of the semiconductor board 500 and a second pattern B comprising the bridge resistance pattern of the polycide layer and the silicide layer formed on the active area 500a of the semiconductor board 500 is constituted.例文帳に追加
半導体基板500のフィールド領域500b上に形成されたポリサイド層の交叉抵抗パターンから成る第1パターンAと、半導体基板500のアクティブ領域500a上に形成されたポリサイド層及びシリサイド層のブリッジ抵抗パターンから成る第2パターンBと、を備えたシリサイド膜製造工程の評価試験装置を構成する。 - 特許庁
To provide a resist composition for negative tone development, which reduces line edge roughness, enhances in-plane uniformity of a pattern dimension and shows excellent bridge margin, so as to stably form a high precision fine pattern for manufacturing a highly integrated electronic device with high precision, and to provide a method for forming a pattern using the resist composition.例文帳に追加
高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンを安定的に形成するために、ラインエッジラフネスを低減し、パターン寸法の面内均一性を高め、更にはブリッジマージンに優れたネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a pattern forming method and an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition excellent in limit resolution, roughness characteristics, exposure latitude (EL) and bridge defect characteristics.例文帳に追加
限界解像力、ラフネス特性、露光ラチチュード(EL)、及びブリッジ欠陥特性に優れたパターン形成方法並びに感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a negative resist composition in which a bridge hardly occurs, substrate dependence is low and a pattern with high resolution can be formed, and a patterning process using the same.例文帳に追加
ブリッジが発生しにくく、また、基板依存性が小さく、解像性に優れたパターンを形成することができるネガ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a mounting technique for increasing a permissible amount of warpage by suppressing the occurrence of a bridge defect by releasing excessive solder to a pattern arranged at a periphery of a land.例文帳に追加
余分な半田をランドの周辺に配置されたパターンに逃がすことでブリッジ不良の発生を抑制し、そりの許容量を増大することが可能となる実装技術を提供する。 - 特許庁
A photoresist is formed around the metal layer provided between apertures, and air bridge wiring is plated on the metal layer between the wiring pattern and the aperture.例文帳に追加
開口穴と開口穴間に設けられる金属層の周囲にフォトレジストを形成し、各開口穴下の配線パターンと開口穴間の金属層上にエアブリッジ配線をメッキ形成する。 - 特許庁
This mask is provided with a bridge 63 having a width narrower than the resolution of transfer exposure between two non-exposure patterns 61, 61' without opened holes, which are provided adjacent to each other separated by an exposure pattern 62 with open holes.例文帳に追加
本マスクは、孔の開いた露光パターン62を隔てて隣り合う2つの孔の開いていない非露光パターン61、61′間に、転写露光の解像度より細い幅のブリッジ63が設けられている。 - 特許庁
In an H bridge circuit for motor drive, low side transistors (FET) Tr3, Tr4 are approximated and mounted on a substrate 44, and a copper foil pattern for heat conduction PT is formed on the rear face of the substrate 44.例文帳に追加
モータ駆動用のHブリッジ回路において、ローサイド側のトランジスタ(FET)Tr3,Tr4は、基板44上に近接して実装され、しかも基板44の裏面には熱伝導用の銅箔パターンPTが形成されている。 - 特許庁
The transmission line connection tub 5 connects the I/O terminal of a semiconductor package 1 and a high frequency circuit pattern 3a formed on the surface of a dielectric substrate 3 and transmitting a high frequency signal in bridge.例文帳に追加
伝送線路接続タブ5は、半導体パッケージ1の入出力端子と、誘電体基板3の表面に形成されて高周波信号を伝達する高周波回路パターン3aを橋絡接続する。 - 特許庁
To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that is excellent in resolution such as a critical dimension with no bridge defects, and DOF, as well as a resist film and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加
ブリッジ前寸法等の解像力、DOFに優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
In the magnetic sensor, a full-bridge circuit is constituted by collectively forming (collectively depositing) the artificial lattice type giant magnetoresistive elements R1-R4 of a pattern width of 6 μm on a main surface 15a of a silicon substrate 15.例文帳に追加
磁気センサはパターン幅が6μmである人工格子型巨大磁気抵抗素子R1,R2,R3,R4をシリコン基板15の主面15aに一括形成(一括成膜)することによりフルブリッジ回路を構成した。 - 特許庁
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