「defect S」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a surface defect inspecting device which secures an S/N ratio required for inspection of a surface defect by certainly removing diffracted light.例文帳に追加

回折光を確実に除去して表面欠陥の検査に必要なＳＮ比を確保できる表面欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

In this case, voices are synthesized without defect by using intermediate language data S.例文帳に追加

ここで、音声合成は、中間言語データＳを用いて、良質の音声合成を実現させている。 - 特許庁

A different method for selecting defects for defect analysis includes selecting defects having the greatest diversity of defect characteristic(s) for defect analysis.例文帳に追加

欠陥解析のために欠陥を選択する別の方法は、欠陥解析のために、欠陥特性（１つ又は複数）のうち、もっとも多様なものを有する欠陥を選択することを含む。 - 特許庁

To provide a magnetic defect inspecting method for magnetic disk, capable of carrying out highly accurate defect inspection by correcting the positional shifting of a magnetic head recording/reproducing element for inspecting a defect so as to make a reproducing signal high in S/N.例文帳に追加

磁気ディスクの磁気的欠陥検査用方法に関し、欠陥を検査する磁気ヘッドの記録・再生用素子位置ずれ補正を行うことによって、再生信号を高S/N化し、精度の高い欠陥検査を行うことを可能とする方法を提供する。 - 特許庁

A defect determination part 38 determines the presence/absence of a defect in each of the plurality of detection circuits U according to the detection signal S of each of the detection circuits U.例文帳に追加

欠陥判定部３８は、複数の検出回路Ｕの各々における欠陥の有無を当該検出回路Ｕの検出信号Ｓに応じて判定する。 - 特許庁

An inspector (P) for determining the existence of the formation defect of the resist pattern 12 is positioned on the light source part S side.例文帳に追加

レジスト・パターン１２の形成不良の有無を判定する検査者(Ｐ)は、光源部Ｓ側に位置する。 - 特許庁

The size and depth of the inside defect S of the face part 2 of the panel 1 is detected by using ultrasonic waves.例文帳に追加

パネル１のフェース部２における内部欠点Ｓ大きさと深さとを、超音波を用いて検出する。 - 特許庁

To obtain a cylinder hole inspecting device capable of detecting a defect such as a cavity, a flaw and burr on the inner surface of a hole with a good S/N.例文帳に追加

孔内面の鋳巣、疵、バリ等の欠陥をＳ／Ｎ良く検出できる円筒孔検査装置を得る。 - 特許庁

Ultrasonic waves are transmitted and received by a probe 10, thereby detecting a defect S or flaws of the inspection object 100.例文帳に追加

探触子１０から超音波を送受信することで、試験体１００の欠陥Ｓまたはきずを検出する。 - 特許庁

To improve the extraction accuracy of line defect and enhance the resistance to noise in a TFT array inspection device to precisely specify a cross line defect even in measured data with insufficient S/N.例文帳に追加

ＴＦＴアレイ検査装置において、線欠陥の抽出精度を向上させること、ノイズに強く、Ｓ／Ｎが不十分な測定データにおいても精度良くクロス線欠陥を特定すること。 - 特許庁

To provide a method, an apparatus and a program for evaluating a color display panel, which can detect a defect of the color display panel at a high S/N ratio and also detect the aspect of the defect.例文帳に追加

カラー表示パネルの欠陥を高Ｓ／Ｎで検出するとともに欠陥の態様を検出することを可能にしたカラー表示パネルの評価方法及びその装置並びにプログラムを提供する。 - 特許庁

Namely, a striped peculiar area S is formed of the area having concentrated crystal defect, and its stripe width d is about 50 μm.例文帳に追加

即ち、ストライプ状の特異領域Ｓは、結晶欠陥集中領域で構成されており、そのストライプ幅ｄは約５０μｍである。 - 特許庁

A defect is determined according to the result of comparison between the generated ideal pattern and the unit patterns contained in the inspection image S.例文帳に追加

そして、この生成された理想パターンと被検査画像Ｓに含まれる単位パターンとを比較した結果を用いて欠陥を判定する。 - 特許庁

To precisely detect a defect of a fillet weld part at a high S/N ratio.例文帳に追加

高Ｓ／Ｎ比にて、隅肉溶接部の欠陥を高精度で検出することのできる超音波式探傷方法及び装置を提供すること。 - 特許庁

In the defect inspecting apparatus 1, the inside of a glass substrate S supported by a stage 3 is irradiated with light by a transmission irradiating device 5, and a camera 6 photographs the inside of the glass substrate S.例文帳に追加

欠陥検査装置１においては、ステージ３によって支持されたガラス基板Ｓの内部に透過照明装置５によって光が照射され、ガラス基板Ｓの内部がカメラ６によって撮像される。 - 特許庁

Of the pattern inspection device 1, a comparing inspection part 10 generates a defect candidate area D in an inspected image S by comparing the inspected image S with a reference image R.例文帳に追加

パターン検査装置１において、比較検査部１０は、被検査画像Ｓと参照画像Ｒとを比較して被検査画像Ｓにおける欠陥候補領域Ｄを特定する２値化された欠陥候補画像Ｑを生成する。 - 特許庁

To allow defect detection with a high S/N ratio without using plural magnetizers, and without adding a complicated function.例文帳に追加

複数の磁化器を使用せず、かつ複雑な機能を付加することなく、Ｓ／Ｎ日の高い欠陥検出能を有する漏洩磁束探傷法を提供する。 - 特許庁

Preferably, the ultrasonic waves are oscillated from the side of the outside surface 2a of the face part 2 toward the side of the inside surface thereof, and reflected waves are received on the inside surface 2b side to detect the size of the defect S and the distance of the defect S from the inside surface 2a.例文帳に追加

好ましくは、前記フェース部２の外表面２ａ側から内表面２ｂ側に向かって超音波を発振させ、且つ前記内表面２ｂ側で反射した反射波を受振することにより、前記内部欠点Ｓの大きさと、該内部欠点Ｓの前記内表面２ａからの距離とを検出する。 - 特許庁

The error probability value Er thus obtained represents the degree of defect concerning to each pixel of the image to be inspected S and a decision is made whether a defect of an object to be inspected is presents or not at a position corresponding to each pixel of the image to be inspected S based on the relation of magnitude between the error probability value Er and a specified threshold value.例文帳に追加

得られたエラー確率値Ｅｒは、被検査画像Ｓの各画素に関する欠陥度合いを表しており、このエラー確率値Ｅｒと所定の閾値との大小関係に基づいて、被検査画像Ｓの各画素に対応する位置における被検査対象物の欠陥の有無を判定する。 - 特許庁

This device 1 for inspecting defect is a device equipped with an image processing means 12 for inspecting a defect by imaging an inspection signal acquired from an inspected object S and applying a spatial filter to such an inspection image.例文帳に追加

本発明に係る欠陥検査装置１は、被検査物Ｓから得られた検査信号を画像化し、当該検査画像に空間フィルタを適用することによって欠陥を検査する画像処理手段１２を備えた装置である。 - 特許庁

Accordingly, the amount of light reflected by the top layer can be made larger than that reflected by the base portion, by using the S polarization for the illumination, thereby enabling the defect of the top layer to be inspected with the high S/N ratio.例文帳に追加

従って、Ｓ偏光で照明を行うことにより、表層から反射される光量を、下地で反射される光量より多くすることができ、表層の欠陥をＳ／Ｎ比の良い状態で検査することができる。 - 特許庁

One method for selecting defects for defect analysis includes binning defects into group(s) based on proximity of the defects to each other and spatial signatures formed by the group(s).例文帳に追加

欠陥解析のために欠陥を選択する一方法は、これらの欠陥の互いの近接性、及び、グループ（１つ又は複数）により形成される空間シグネチャに基づいて、欠陥をこのグループ（１つ又は複数）にビン分類することを含む。 - 特許庁

A threshold set when the internal defect of the bandlike body S is detected is set to be varied along a plate thickness direction of the bandlike body S, and a threshold in a surface layer position in the plate thickness direction is thereby made small compared with the center position in the plate thickness direction.例文帳に追加

帯状体Ｓの内部欠陥を検出する際に設定するしきい値を、帯状体Ｓの板厚方向において変化するように設定して板厚中心位置に比べ板厚表層位置でのしきい値を小さくする。 - 特許庁

Since an image of the object to be inspected S is photographed by a photographic device 7 in a condition of free from the dust 3 and the defect is extracted by an image processor 8, the dust merely adhered on the object to be inspected is not mistaken as a defect such as scratch or burr.例文帳に追加

ゴミ３がない状態で被検査物Ｓの映像が撮像装置７により撮像され画像処理装置８により欠陥が抽出されるから、被検査物に付着しているだけのゴミをキズやバリなどの欠陥と誤認することがない。 - 特許庁

To provide an optical surface defect inspection device or an optical surface defect inspection method which can achieve high sensitivity inspection by enabling improvement in S/N by a multiple dividing cell system even without performing an autofocus operation.例文帳に追加

本発明は、オートフォーカス動作を行わなくとも、多分割セル方式によるＳ／Ｎ向上を可能とし、高感度の検査を実現できる光学式表面欠陥検査装置または光学式表面欠陥検査方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide an imaging apparatus that realizes image pickup with high image quality and enhanced S/N at interlace reading without causing a defect of a saturation level reduction of an image at progressive reading.例文帳に追加

プログレッシブ読出し時における画像の飽和レベル低下という不具合を生じることなく、インターレース読み出し時にはＳ／Ｎの向上した高画質な撮像を実現する。 - 特許庁

To provide an image forming device making the image defect caused by the image density lowering or the like when S/D is lowered or even when rotary speed of an electrostatic latent image carrier is accelerated.例文帳に追加

Ｓ／Ｄを下げた時や静電潜像担持体の回転速度を上げた時等でも画像濃度低下等による画像不良が防止される画像形成装置を提供する。 - 特許庁

A noise component contained in two signals in common from the sensors 6a, 6b is cancelled by operating the both signals, so as to realize defect detection excellent is an S/N ratio.例文帳に追加

この２つの信号を演算することにより、両者に共通に含まれるノイズ成分をキャンセルすることができ、Ｓ／Ｎ比の良い欠陥検出が可能となる。 - 特許庁

To attain effective defect correction without substantially causing the deterioration of resolution by effectively utilizing the information on effective pixel thereby minimizing the deterioration of S/N.例文帳に追加

有効画素の情報を無駄無く利用し、従ってＳＮの劣化を最小限にとどめつつ解像度の劣化を事実上生じない効果的な欠陥補正を可能にする。 - 特許庁

To measure a light quantity excellent in an S/N ratio, without being affected by a defect in a picture element of a solid imaging element and refuse, dust or the like deposited on the solid imaging element.例文帳に追加

固体撮像素子の画素の欠陥や固体撮像素子に付着するゴミや塵などの影響を受けることなく、Ｓ／Ｎの良好な光量を測定する。 - 特許庁

The device has a static electricity preventive mechanism 182 which obstructs the occurrence of an image defect by the static electricity of a stimulus phosphor sheet S transported in an arrow A direction when the stimulus phosphor sheet S is irradiated with a laser beam L.例文帳に追加

矢印Ａ方向に搬送される蓄積性蛍光体シートＳにレーザ光Ｌが照射される際、前記蓄積性蛍光体シートＳの静電気により画像欠陥が発生することを阻止する静電気防止機構１８２を備える。 - 特許庁

The probe makes the ultrasonic waves expand and propagate radially inside the inspection object, whereby a defect inspection can be carried out by projecting the ultrasonic waves onto the defect S or the like existing inside the inspection object, even if the surface of the inspection object has irregularities or is made sloped.例文帳に追加

探触子は試験体内で超音波を放射状に拡大伝搬させるので、表面に凹凸や傾きが存在する試験体であってもその内部に存在する欠陥等Ｓへ超音波を照射し、その欠陥検査を行うことが可能である。 - 特許庁

To provide an electron beam device that can prevent damages to the device and can make compatible low aberration, high resolution or high S/N ratio, with easiness of defect classification by obtaining a three-dimensional SEM image.例文帳に追加

デバイス損傷を防止することが可能であり、低収差、高分解能若しくは高Ｓ／Ｎ比と、立体的なＳＥＭ像を得ることによる欠陥分類の容易さと、を両立させる。 - 特許庁

To provide a device for detecting a magnetic flux resulted from a minute defect present in a material to be inspected or a minute iron powder or the like included in the material to be inspected with high sensitivity and high S/N.例文帳に追加

被検査材に存在する微小欠陥や被検査材に混入する微小鉄粉等に起因して発生する漏洩磁束を、高感度・高Ｓ／Ｎで検出する装置を提供する。 - 特許庁

To provide an imprint mold which can manufacture a bit-patterned medium having a high S/N, suppress the occurrence of a pattern defect and manufacture the bit-patterned medium in a comparatively short period of time, and the manufacturing method thereof.例文帳に追加

高Ｓ／Ｎを有するビットパターンドメディアを製造でき、パターン欠陥の発生を抑制でき、製造を比較的短時間で行えるインプリントモールド及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Further, a mask 21 generates a masked image MS wherein the inspected image S is masked with a defect candidate image Q, and a feature extraction part 31 extracts features from the masked image MS.例文帳に追加

また、マスク部２１は、被検査画像Ｓを欠陥候補画像Ｑでマスクした被マスク画像ＭＳを生成し、特徴抽出部３１は、被マスク画像ＭＳにおいて特徴抽出を行う。 - 特許庁

To provide an imaging device that attains effective defect correction where information of effective pixels can be utilized without waste and deterioration in the resolution cannot substantially be caused, while minimizing the deterioration in the S/N.例文帳に追加

有効画素の情報を無駄無く利用し、従ってＳＮの劣化を最小限にとどめつつ解像度の劣化を事実上生じない効果的な欠陥補正を可能にする。 - 特許庁

To provide a magnetic flaw detection method, capable of satisfactorily detecting a flaw with S/N ratio, even if an electrical noise is generated or when something other than the defect exerting an influence on a leakage flux exists.例文帳に追加

電気的ノイズが発生したり、漏洩磁束に影響を与える欠陥以外のものが存在する場合にも、Ｓ／Ｎ比良く欠陥を検出できる磁気探傷方法を提供する。 - 特許庁

The determination is carried out by discriminating an existence of a defect in the measurement position in accordance with whether or not the intensity of the P polarized light component is within the reference intensity range and whether or not the intensity of the S polarized light component is within the reference intensity range and discriminating the type when there is a defect.例文帳に追加

この判定は、Ｐ偏光成分の強度が基準強度範囲外であるか否かとＳ偏光成分の強度が基準強度範囲外であるか否かとに応じて、測定位置での欠陥の有無を判別し且つ欠陥がある場合にはその種類を判別することでなされる。 - 特許庁

The bonding defect detector 1 includes a constant temperature means 3 capable of maintaining the substrate S in a constant temperature state, and a component heating means 5 capable of locally heating the package p2 of the electronic component P.例文帳に追加

接合不良検知装置１は、基板Ｓを恒温状態に維持可能な恒温手段３と、電子部品Ｐのパッケージ部ｐ２を局所的に加熱可能な部品加熱手段５とを備えている。 - 特許庁

A second heat treatment of the wafer 10 in an inert gas atmosphere forms micro-defects 14 inside the wafer 10 as well as changes the wafer 10's surface layer into a defect-free layer 16.例文帳に追加

不活性ガス雰囲気中でウエハ１０に第２の熱処理を施すことによりウエハ１０の内部に微小欠陥１４を形成すると共にウエハ１０の表面層を無欠陥層１６に変化させる。 - 特許庁

Reflected light from the transparent surface layer of the photoreceptor 1 is received by one-dimensional CCD sensor 10 through a polarizer 11 transmitting only an S-polarized light, and it is image-processed to detect a defect in the surface of the photoreceptor 1.例文帳に追加

感光体１の透明表面層からの反射光をＳ偏光のみを透過する偏光子１１を通して１次元ＣＣＤセンサ１０で受光して画像処理し感光体１の表面の欠陥を検出する。 - 特許庁

The imaging device 10 includes: a camera 12 for picking up the image of the surficial defect in the object S to be inspected; and at least one leg part 14 arranged in the camera 12 and extended toward the image pickup direction of the camera 12.例文帳に追加

撮像装置１０は、被検査物Ｓにおける表面欠陥の撮像を行うカメラ１２と、カメラ１２に設けられると共にカメラ１２の撮像方向に向けて延びる、少なくとも一つの脚部１４とを備える。 - 特許庁

To provide a wireless communication system having different zones that eliminates a defect of impossibility of comparing and discriminating base station reception S/N levels among the different zones when base stations of the different zones receive a radio wave from a mobile station at the same time.例文帳に追加

異なるゾーンを有する無線システムにおいて、移動局からの電波を異なるゾーンの基地局が同一に受信したとき、異なるゾーン間の基地局受信Ｓ／Ｎレベルの比較判定ができない欠点を除去する。 - 特許庁

The apparatus 10 uses a cross-scan filter, it filters a signal reflected from the surface S of the workpiece in a cross-scan direction, and it efficiently removes an important noise part in the reflected signal used to detect the defect of the workpiece W.例文帳に追加

該装置１０は、クロススキャン・フィルタを使用して、クロススキャン方向において、該ワークピース表面Ｓから反射された信号をフィルタし、該ワークピースＷの欠陥を検出するために使用される反射信号の重大なノイズ部分を効率的に除去する。 - 特許庁