「deformation pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

Since granules 1 are formed by pressing powder and has definite strength and scarcely causes deformation of the shape, deformation of three-dimensional pattern with passage of time or in the use process can be prevented.例文帳に追加

また、顆粒１は粉体を圧縮して形成され一定強度を備えており形状が崩れにくいため、時間の経過又は使用過程における立体模様の崩れを生じにくくすることができる。 - 特許庁

To obtain a reflection mirror antenna device capable of reducing the expansion of an image by controlling the thermal deformation of the reflection mirror antenna to form into a relatively simple pattern whose correction is easy and correcting generated thermal deformation with actuators.例文帳に追加

複数個の部分鏡材を貼り合わせて作る反射鏡アンテナで、部分鏡材の線膨張係数の不均一性により反射鏡アンテナ全体に不均一な熱変形が生じる。 - 特許庁

To provide a three-dimensional shape measuring apparatus capable of acquiring deformation pattern images of satisfactory contrast in all regions of an object to be measured.例文帳に追加

測定対象物の全ての領域でコントラストのよい変形パターン画像を取得できる３次元形状測定装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method that allows a super-critical process to be conducted after a liquid process for drying with pattern deformation suppressed.例文帳に追加

パターンの変形が抑制された状態で、液処理に引き続いて超臨界処理を行うことによる乾燥処理ができるようにする。 - 特許庁

Thus, a deformation of the 1st thin-film pattern 111 at an end part 111T is suppressed, and an exact patterning is attained.例文帳に追加

これにより、端部１１１Ｔにおける第１薄膜パターン１１１の型くずれを抑制し、より正確にパターニングすることができる。 - 特許庁

By this constitution, the heat shrinkage behavior of the film can accurately be investigated by measuring the deformation way of the pattern 15.例文帳に追加

それにより、模様１５が、どのように変形するかを測定することにより、フィルムの熱収縮挙動を正確に調べることができる。 - 特許庁

To provide a mask for vapor deposition by which the deformation and omission of a vapor deposition pattern generated at the time of removing the mask can be prevented.例文帳に追加

マスク取り外し時に発生する蒸着パターンの変形や欠落を防止することが可能な蒸着用マスクを提供する。 - 特許庁

To provide a screen plate which can effectively inhibit fall in accuracy of a printing pattern caused by deformation of a screen for supporting.例文帳に追加

支持用スクリーンの変形を要因とする印刷パターンの精度低下を効果的に防止することが可能なスクリーン版を提供する。 - 特許庁

To optically inspect the deformation of an object from reflected light from the object even if the inspected object has a pattern.例文帳に追加

検査対象物に柄や模様がある場合にも対象物の変形を物体の反射光から光学的に検査できるようにする - 特許庁

To provide a three-dimensional polygon surface pattern processing system which can reproduce a pattern conforming with deformation of a polygon without increasing the size of data even when the polygon deforms as a result of weighting of line points forming the pattern on the polygon surface.例文帳に追加

ポリゴン表面上の模様を形成するライン点を重み付けすることによりポリゴンが変形した場合でもデータサイズを大きくすることなく変形に合わせた模様を再現することができる３次元ポリゴン表面模様処理方式を提供する。 - 特許庁

Character information is designed and displayed by referring to design parts of constitution elements of a character pattern of the electronic music reproducing device 30, and a skeleton outline pattern deformation processing part 58 generates the font of character information according to position coordinate information and further generates a move pattern for moving and deforming, and displaying the character information according to movement deformation information.例文帳に追加

電子ミュージック再生装置３０の文字図形の各構成要素のデザインパーツを参照して文字情報をデザイン表示するとともに、位置座標情報に基づいて、スケルトン輪郭パターン変形処理部５８が文字情報の書体を生成し、さらに、移動変形情報に基づいて、文字情報を移動変形して表示するムーブパターンを生成する。 - 特許庁

To certainly extract a failure of a wiring pattern, and to increase the yield by enabling determination of a good article when the degree of deformation of the wiring pattern is a degree where a practical problem does not occur.例文帳に追加

配線パターンの不良を確実に抽出し、配線パターンの変形の程度が実用上で問題を生じない程度であるときには良品と判断できるようにして歩留まりを高める。 - 特許庁

To provide a method of forming a fine pattern of a semiconductor device capable of forming a fine pattern having a line thickness of 60 nm or less by preventing the deformation when patterning a hard mask.例文帳に追加

ハードマスクをパターニングする際の変形を防止することにより、線幅が６０ｎｍ以下の微細パターンを形成することができる半導体素子の微細パターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁

After the thin film pattern 14b of the second layer and the thin film pattern 14c of the third layer are joined to each other, when an upper stage 21 is raised, the thin film patter 14c of the third layer causes plastic deformation.例文帳に追加

２枚目の薄膜パターン１４ｂと３枚目の薄膜パターン１４ｃとを接合した後、上部ステージ２１を上昇させると、３枚目の薄膜パターン１４ｃが塑性変形を起こす。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an optical disk capable of preventing generation of deformation, distortion and wrinkles of a sheet-shaped substrate member and a rugged pattern and forming the rugged pattern nearly free from eccentricity.例文帳に追加

シート状基板部材及び凹凸パターンに対する変形、歪み、シワの発生を防止するとともに、偏芯の少ない凹凸パターンを形成することが可能な光ディスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a fabric on which a pattern is formed by using a composition for resin printing and whose pattern is resistant to deformation or discoloration even at the time of pressing under high heat.例文帳に追加

樹脂プリント用組成物によって形成された模様を有する布帛であって、高熱がかかる状態でプレスした際も、前記模様に変形や変色が生じにくい布帛を提供することを課題とする。 - 特許庁

To form an accurate upper electrode extraction line by eliminating deformation of a mask pattern by forming a film forming mask for the upper electrode extraction line in a luminescent display device with a stable pattern shape.例文帳に追加

発光表示装置における上部電極引き出し線の成膜用マスクを安定したパターン形状で構成し、マスクパターンの変形を無くすことで精度の高い上部電極引き出し線を形成する。 - 特許庁

The method inputs the normal pattern data into a storage device of a drawing device and inputs the tendency of the pattern deformation generated dependent upon the condition of the transfer exposure to a storage device of the drawing device.例文帳に追加

正規のパターンデータを描画装置の記憶装置に入力するとともに、転写露光の状況に依存して発生するパターン変形の傾向を描画装置の記憶装置に入力する。 - 特許庁

Therefore, the lost foam pattern M is embedded in the molding sand S while holding the shape at the producing time without causing any deformation and damage.例文帳に追加

従って、消失模型Ｍが変形したり損傷を受けたりすることがなく、製作時の形状を保って鋳砂Ｓ中に埋設される。 - 特許庁

To obtain a woven fabric, in which uneven pattern not causing deformation and loss even by influence due to heat is drawn, having soft touch feeling and suitable for clothing.例文帳に追加

熱の影響を受けても変形したり消失しない凹凸模様が描出され、風合いが柔らかく、衣料品に適した織物を得る。 - 特許庁

A concave part 3 of the printed image copying the pattern or the like of the seal face of the relief printing plate is formed on the blank paper 1 by the plastic deformation of the paper face 2 so as to have the concave shape.例文帳に追加

この紙面２の塑性変形によって、用紙１には、凸版の印面の模様等が象られた印像凹部３が凹設される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device in which pattern deformation is minimized by increasing etching selectivity of a sacrifice hard mask.例文帳に追加

本発明は、犠牲ハードマスクのエッチング選択比を増加させ、パターン変形を最小化できる半導体素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To optically inspect the deformation of a cylindrical object from the reflected light from the object even if the inspected object has a pattern.例文帳に追加

検査対象物に柄や模様がある場合にも、物体の反射光から円筒状対象物の変形を光学的に検査できるようにする。 - 特許庁

To provide a multiple pattern wiring substrate that is prevented effectively from the deformation, such as warpage or the like of a matrix substrate, while being multilayered, thinned and highly functionalized.例文帳に追加

母基板の反り等の変形が効果的に防止された、多層化、薄型化、高機能化された多数個取り配線基板を提供すること。 - 特許庁

To control the deformation of a resist pattern with high accuracy by indirectly measuring the end point of a resist deforming process.例文帳に追加

レジスト変形プロセスにおけるプロセスの終点を間接的な測定によって判断して、レジストパターン変形量の高精度な制御を可能にする。 - 特許庁

To provide a printing method having an accurate image pattern made of ink, in which neither deformation in an image pattern nor omission of printing develops even in a minute solitary pattern, at the manufacturing of a printed material, the image pattern which is formed in a base material by a reversing printing system.例文帳に追加

本発明では、反転印刷方式により基材上に画像パターンを形成し印刷物を製造する場合において、微小な孤立パターンであっても画像パターンが変形したり、印刷抜けが生じないインキからなる正確な画像パターンを有する印刷方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an interposer that improves precision of alignment between a top-surface pattern and a reverse-surface pattern, even if a semiconductor device using an organic substrate as the interposer has a displacement between the top-surface pattern and reverse-surface pattern or a deformation of the substrate itself, and to provide a method of manufacturing the semiconductor device employing the same.例文帳に追加

有機基板をインターポーザとして用いた半導体装置において、表面パターンと裏面パターンの位置ズレや基板自体の変形があっても、表面パターンと裏面パターンの位置合わせ精度を向上させることができるインターポーザ及びそれを用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A pattern selecting part 140 selects a representative rhythm pattern among the representative rhythm pattern selection rule table 130 on the basis of the selection rule, a rhythm-generating part 160 deforms the selected pattern in accordance with the deformation rule and concerning each of parts except for the rhythm change point, rhythm is generated through interpolation.例文帳に追加

パターン選択部１４０は、前記選択規則に基づき代表韻律パタン選択規則テーブル１３０から代表韻律パタンを選択し、韻律生成部１６０が、選択したパタンを前記変形規則に従って変形し、韻律変化点以外の部分については補間によって韻律を生成する。 - 特許庁

This display device is provide with an aperture pattern NAR for dummy pixels, which has a drawing stress absorption hole suppressing pattern precision deterioration due to deformation of an aperture pattern by absorbing stress in a process wherein a mask part MSS is fixed to a frame FLM by applying tension, outside an aperture pattern DRA for pixels.例文帳に追加

マスク部ＭＳＳをテンションを印加してフレームＦＬＭに固定する工程で生じる応力を吸収し、開孔パターンの変形によるパターン精度劣化を抑制する引っ張り応力吸収孔を有するダミー画素用開孔パターンＮＡＲを画素用開孔パターンＤＡＲの外側に設ける。 - 特許庁

This deformation measuring device 10 detects a speckle pattern, stores the detected speckle pattern as an intensity value of scattered light correlated with each time, and calculates an intensity changing period of scattered light on an optional position in a domain of the stored speckle pattern.例文帳に追加

本発明の変形測定装置１０は、スペックルパターンを検出し、検出されたスペックルパターンを、各時刻に対応付けられた散乱光の強度値として記憶し、記憶されたスペックルパターンの領域内の任意の位置で、散乱光の強度変化周期を算出する。 - 特許庁

To provide the pattern recognizing method which is robust to deterioration and deformation by making use of the presence of restrictions on the contiguity relation between characters, etc., when a recognition object is limited.例文帳に追加

認識対象が限られている場合、文字等の隣接関係に制約があることを利用し、劣化や変形にロバストなパターン認識手法を提供する。 - 特許庁

To obtain a good-quality cast product by preventing the deformation and damage of a lost foam pattern at the embedding time.例文帳に追加

埋設時における消失模型の変形や損傷を防いで良好な品質の鋳造品を得ることができる消失模型鋳造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pachinko machine provided with a heat removal mechanism for preventing thermal deformation of a game panel by suppressing temperature rise of a pattern display device or a game panel.例文帳に追加

図柄表示装置又は遊技盤の温度上昇を抑止して遊技盤の熱変形を防止するための除熱機構を備えたパチンコ機を提供する。 - 特許庁

As a result, even when the recognition object is deformed or distorted, the object can be recognized by using the template of the pattern having no deformation or distortion.例文帳に追加

この結果、認識対象に変形やゆがみが生じている場合でも変形やゆがみのないパターンのテンプレートを用いて認識することができる。 - 特許庁

As a result, the distortion of a projected image of a pattern of the first reticle R1 due to the thermal expansion deformation of the first reticle R1 can be corrected.例文帳に追加

これにより、第１レチクルＲ１の熱膨張変形に起因する第１レチクルＲ１のパターンの投影像の歪みを補正することが可能となる。 - 特許庁

The curvature radius of each of the edges 3 and 4 is increased by a method such as substrate sputtering etching, the heat deformation of a resist pattern, ozone etching by ultraviolet-ray irradiation, or the like.例文帳に追加

基板のスパッタエッチング、レジストパターンの加熱変形、紫外線照射によるオゾンエッチング等の方法により、エッジ部３，４の曲率半径を大きくする。 - 特許庁

To restrain thermal deformation impact on the reflecting surface of a reflector assembly contained in a pattern providing means, which is caused by absorbed incidence radiation.例文帳に追加

パターン付与手段に含まれる反射器組立体が入射放射線を吸収して生じる熱による反射面への熱変形影響を抑制する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for producing a helical belt which can prevent the deformation of an uneven pattern during demolding.例文帳に追加

成形体の離型時における凹凸パターンの変形を防止可能な、はす歯ベルトの製造方法、及び、はす歯ベルトの製造装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an antenna device capable of compensating deterioration in radiation pattern performance by detecting deformation even if the antenna device is deformed.例文帳に追加

アンテナ装置が変形した場合であっても、その変形を検知して放射パターン性能の劣化を補償することが可能なアンテナ装置を提供する。 - 特許庁

To prevent fatal deformation in a circuit pattern without lowering throughput even if a connection error occurs between partial irradiation regions.例文帳に追加

部分照射領域同士に接続誤差が生じたとしても、スループットを低下させることなく回路パターンの致命的な変形を防止できるようにする。 - 特許庁

To reduce warp deformation of the entire piezoelectric actuator 20 based on the alternating pattern layers of individual electrode 24 and common electrode 25 at the time of laminating piezoelectric sheets.例文帳に追加

圧電シートを積層したときの個別電極２４とコモン電極２５とのパターンの交互の層に基づく圧電アクチュエータ２０全体の反り変形を少なくする。 - 特許庁

To prevent deformation of edge of required pattern of a stamper when an etched original disk is used in the manufacture of an information recording medium.例文帳に追加

情報記録媒体の製造においてエッチングした原盤を用いる場合、スタンパの所望のパターンのエッジが変形するという問題を解決する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition which prevents deformation of a resist pattern in a high temperature postbaking process and which decreases the degassing amount during high temperature heating.例文帳に追加

高温ポストベーク工程におけるレジストパターンの変形を防止できるとともに、高温加熱時の脱ガス量を低減させることができるようにする。 - 特許庁

To provide a two-color molding in which the deformation of a character pattern to be displayed in the display surface of a secondary molding part is prevented by a primary molding material.例文帳に追加

１次成形材によって２次成形部の表示面内に表示される文字図形の変形が防止された二色成形体を提供する。 - 特許庁

With this structure, the peripheral edge of the barrier rib material layer 61 is protected by a resist extension pattern 62 and the scraping and deformation of the barrier rib material layer 61 by the external force are prevented.例文帳に追加

これにより隔壁材料層の外周縁がレジスト延長パターンにより保護され、外力により削られたり変形したりすることがない。 - 特許庁