「deformation pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a method of forming pattern by which the deformation of a silicon pattern treated with a hydrofluoric acid is suppressed at the time of drying the pattern.例文帳に追加

フッ酸による処理を行ったシリコンのパターンにおける乾燥時の変形が抑制できるようにする。 - 特許庁

To provide a pattern collating device of a line pattern capable of strictly identifying any deformation in the input pattern, a pattern collating method thereof, and a pattern collating program.例文帳に追加

入力図形に変形があっても厳密に識別することのできる、線図形のパターン照合装置とそのパターン照合方法、及びパターン照合プログラムを提供する。 - 特許庁

Moreover, the deformed pitch pattern is set by conducting frequency deformation while holding the approximate shape of the basic pitch pattern without considering a deformation possible range.例文帳に追加

さらに、変形可能範囲に捕われることなく、基本のピッチパターンの概形を保ったまま周波数変形して変形ピッチパターンを設定する。 - 特許庁

To provide a pattern transcription method which enables avoidance of deformation of wafer due to an adhesion of dust and the deformation or breakage of the wafer due to the weight in a pattern transcription.例文帳に追加

ゴミの付着によるウェハの変形と、パターン転写時の加重によるウェハの変形や破損を同時に回避できるパターン転写方法を提供する。 - 特許庁

An image pattern deformation means 140 deforms the image of the correction area.例文帳に追加

画像パターン変形手段１４０は、補正領域の画像を変形させる。 - 特許庁

To provide a method of forming a fine pattern in a semiconductor device, which enables the formation of a narrow pattern by preventing the deformation of a photoresist pattern for ArF.例文帳に追加

ArF用フォトレジストパターンの変形を抑え、狭いパターンの形成が可能な半導体素子の微細パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method for preventing deformation of a photoresist pattern and increase in LWR when spacers are formed on side walls of the pattern.例文帳に追加

フォトレジストパターンの側壁にスペーサーを形成する際のパターンの変形やＬＷＲの増大を防ぐことができるパターン形成方法。 - 特許庁

To suppress or prevent a pattern abnormality such as pattern deformation or misalignment of a semiconductor integrated circuit device.例文帳に追加

半導体集積回路装置のパターンの変形や合わせずれ等のようなパターン異常を抑制または防止する。 - 特許庁

As a result, the dried pattern can be prevented from deformation or crush owing to the pressing force.例文帳に追加

その結果、押圧力による乾燥パターンの変形や潰れが防止される。 - 特許庁

To reduce the deformation of the form of a conductive pattern in a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置における導体パターンの形状の変形を低減させること。 - 特許庁

To provide an electronic component of an electronic circuit pattern without deformation.例文帳に追加

変形のない電子回路パターンの電子部品を提供することを目的とする。 - 特許庁

To fabricate a fine pattern capable of preventing the deformation and collapse of the pattern when a resist pattern is reduced and to manufacture a semiconductor device using the fine pattern.例文帳に追加

レジストパターンを縮小化させる際のパターンの変形や倒壊を防止することが可能な微細パターンを作製し、この微細パターンを用いて半導体装置を製造する - 特許庁

To provide a large mask of high masking accuracy without any thermal deformation of a pattern aperture.例文帳に追加

パターン開口の熱変形がなく、マスク精度の高い大型マスクを提供する。 - 特許庁

To correct the distortion of a pattern- projected image due to the thermal expansion deformation of reticle.例文帳に追加

レチクルの熱膨張変形に起因するパターンの投影像の歪みを補正する。 - 特許庁

The fold-like pattern 24 is of a type formed by waveform deformation of the material of the globe 1.例文帳に追加

前記ひだ状模様２４をグローブ１素材の波形変形による模様とする。 - 特許庁

Consequently, when the green sheets are stacked and baked, deformation by the wiring pattern 41 and deformation by the dummy pattern 60 cancel each other in the sixth-layer green sheet 56.例文帳に追加

そのため、グリーンシートを積層して焼成するとき、第六層グリーンシート５６は配線パターン４１による変形とダミーパターン６０による変形とが互いの変形を相殺する。 - 特許庁

The data preparation section 4 for model deformation, thereafter, reads the pattern data corresponding to the assigned road point from a pattern model storage section 5 and forms the data for model deformation.例文帳に追加

その後、モデル変形用データ生成部４は、指定された道路箇所に対応するパターンデータをパターンモデル格納部５から読み出し、モデル変形用データを生成する。 - 特許庁

Alternatively, the screen processing part 34 deforms the pattern composing the image to match the pattern when no deformation is carried out after deformation by the compensation processing part 35.例文帳に追加

あるいは、スクリーン処理部３４は、画像を構成する絵柄を、補正処理部３５による変形後にその変形が行われなかった場合の絵柄と一致するように変形する。 - 特許庁

To provide an evaluation mask for evaluating by detecting the mask deformation of a thin membrane mask and deformation of a transfer pattern.例文帳に追加

膜厚の薄いメンブレンマスクのマスク変形及び転写パターンの変形を検出し、評価する評価用マスクを提供する。 - 特許庁

To form a narrow pattern by minimizing deformation of the pattern by a forming method for a contact hole of a semiconductor element.例文帳に追加

半導体素子のコンタクト孔形成方法として、パターンの変形を最小限にし、狭いパターン形成を可能にする。 - 特許庁

To provide a mask pattern correcting method which can prevent a shift in a pattern position due to mask deformation due to gravity, and to provide a mask pattern manufacturing method and a mask.例文帳に追加

重力によるマスクの変形によりパターンの位置がずれるのを防止できるマスクパターン補正方法、マスク製造方法およびマスクを提供する。 - 特許庁

The mask pattern and data representative of a motion pattern are encoded and are multiplexed into one data to enable making a special effect pattern accompanied with picture deformation into a library.例文帳に追加

マスクパターンと動きパターンを表すデータを符号化し、一本のデータに多重化ことにより、画像の変形を伴う特殊効果パターンのライブラリ化が可能となる。 - 特許庁

To provide a map deformation pattern-sharing device and method for sharing a map deformation pattern between a plurality of users in order to create a deformed map that suits users' needs; and to provide a device, a system, and a method for creating a deformed map using the map deformation pattern-sharing device and method.例文帳に追加

ユーザのニーズにあったデフォルメ地図を作成するために、複数のユーザで地図デフォルメパターンを共有する地図デフォルメパターン共有装置及び方法並びにその装置及び方法を用いたデフォルメ地図作成装置、システム及び方法を提供すること。 - 特許庁

Therefore, the deformation of a photoresist pattern by reflected light rays from the reflecting pattern can be minimized in a photoetching process.例文帳に追加

これにより、写真蝕刻工程時反射性パターンから反射された反射光によるフォトレジストパターンの変形が最小化される。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition which gives an insulating film having little deformation of a pattern when the composition is thermally cured to form the pattern.例文帳に追加

熱硬化してパターン形成する際にパターンの変形が少ない絶縁膜を与えるポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a cutting device which allow the operator to correctly recognize the deformation of a sheet material so that the sheet material is cut along a cutting pattern corresponding to the deformation of the sheet material, consequently, a pattern piece with little deformation is obtained.例文帳に追加

シート材の歪みを操作者に正確に認識させることができ、したがって、シート材の歪みに対応した裁断パターンに沿ってシート材を裁断でき、その結果、歪みの少ないパターンピースが得られる裁断装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a pattern recognition method and device for stably recognizing a pattern whose features fluctuate due to pattern deformation and a storage medium in which its program is stored.例文帳に追加

パターン変形により特徴が変動したパターンを安定に認識するパターン認識方法及びその装置及びそのプログラムを格納した記憶媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a method and a pattern generating apparatus for writing a pattern on a surface of an object that is independent of any physical deformation that will occur upon writing a pattern.例文帳に追加

パターンを書き込む際に生じるあらゆる物理的変形に無関係に、オブジェクトの表面にパターンを書き込むための方法及びパターン生成装置を提供すること。 - 特許庁

Data indicating a mask pattern and a motion pattern are encoded and are multiplexed into one data, whereby a specific effect pattern followed by the deformation of an image is processed into a library.例文帳に追加

マスクパターンと動きパターンを表すデータを符号化し、一本のデータに多重化することにより、画像の変形を伴う特殊効果パターンのライブラリ化を行う。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a printing mask that can prevent deformation occurring in a metal film pattern corresponding to a print pattern when jointing the metal film pattern to a mesh.例文帳に追加

印刷パターンに対応した金属膜パターンをメッシュに接合するときに該金属膜パターンに生じる変形を防止できる印刷用マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern collation device of linear graphics which can strictly identify input graphics even if deformation exists in the input graphics, its pattern collation method and a pattern collation program.例文帳に追加

入力図形に変形があっても厳密に識別することのできる、線図形のパターン照合装置とそのパターン照合方法、及びパターン照合プログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method that may form a permanent pattern such as a wiring pattern with high fineness and preciseness, and sufficient efficiency due to suppressing deformation of an image formed on a pattern forming material.例文帳に追加

前記パターン形成材料上に結像させる像の歪みを抑制することにより、配線パターン等の永久パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能なパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To measure the deformation state of a surface plate at a high accuracy and to enhance a transfer accuracy of a pattern.例文帳に追加

定盤の変形状態を高精度に計測可能でパターンの転写精度を向上させる。 - 特許庁

To prevent displacement of a deposition pattern or blurring of an edge due to thermal deformation of a substrate during film forming.例文帳に追加

成膜中の基板の熱変形による蒸着パターンの位置ズレやエッジのボケを防ぐ。 - 特許庁

To improve printing accuracy by suppressing the positional errors in pattern transfer caused by deformation of the body.例文帳に追加

ボディの変形に起因するパターンの転写位置誤差を抑制して焼き付け精度を向上する。 - 特許庁

To simulate tire performance with respect to pitch noise while taking three-dimensional deformation of a tread pattern into consideration.例文帳に追加

トレッドパターンの三次元的な変形を考慮したピッチノイズに関するタイヤ性能をシミュレーションする。 - 特許庁

MAP DEFORMATION PATTERN-SHARING DEVICE AND METHOD, AND DEFORMED MAP CREATING DEVICE, SYSTEM AND METHOD例文帳に追加

地図デフォルメパターン共有装置及び方法並びにデフォルメ地図作成装置、システム及び方法 - 特許庁

To provide a mask for suppressing deformation of a pattern caused by radiation heat of illumination light for exposure.例文帳に追加

露光用の照明光の照射熱によるパターンの変形を抑制できるマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method and a fine structure manufacturing method, in which resist pattern deformation can be suppressed.例文帳に追加

本発明は、レジストパターンの変形を抑制することができるレジストパターンの形成方法および微細構造体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for modifying the pattern shape of a photomask by properly correcting a deformation caused in the pattern by a photo-proximity effect.例文帳に追加

光近接効果により生じたパターンの変形を適切に修正し、補正するフォトマスクのパターン形状補正方法を得ること。 - 特許庁

To provide an imprint method by which an irregular pattern is formed in a short period of time without causing deformation and omission of rugged pattern.例文帳に追加

凹凸パターンに変形や欠落を生じさせることなく、しかも短時間で凹凸パターンを形成し得るインプリント方法を提供する。 - 特許庁

To fully suppress the deformation of a membrane mask which is employed for pattern irradiation of charged particle beams, and thereby to improve the precision in pattern irradiation.例文帳に追加

荷電粒子線のパターン照射に用いられるメンブレンマスクの変形を十分に抑え、パターン照射の精度の向上を図る。 - 特許庁

To produce a tolerance including deformation by obtaining an amount of deformation from a picked-up image pattern image and by deforming a reference pattern image which is the basis of the tolerance in accordance with the deformation, and to determine breaks and contacts only as abnormal even if there is deformation in an image pickup pattern, in a defect determination operation using a tolerance that allows a high speed operation.例文帳に追加

高速処理が可能な許容範囲を用いた欠陥判定処理で、撮像パターン画像から変形量を求めて、変形に応じて許容範囲の基になる基準パターン画像を変形させることで、変形を含んだ許容範囲を作成し、撮像パターンの変形がある場合でも、断線，接触のみを異常と判定する。 - 特許庁

The deformation locus of the tread pattern as the belt displacement is obtained for the result (Step 124), a tread pattern model is prepared by using the deformation locus, and the rolling calculation of the tread pattern model and the local analysis for evaluation are performed (Steps 126-134).例文帳に追加

その結果についてベルト変位であるトレッドパターンの変形軌跡を求め（ステップ１２４）、その変形軌跡を用いてトレッドパターンモデルを作成しそのトレッドパターンモデルの転動計算及び評価をする局所解析を行う（ステップ１２６〜１３４）。 - 特許庁

The model deformation data originating part 4 originates model deformation data by reading from a pattern model storage part 5 the pattern data which correspond to the designated portion of the road, and processing the extracted parameter data while consulting the pattern data.例文帳に追加

モデル変形用データ生成部４は、指定された道路箇所に対応するパターンデータをパターンモデル格納部５から読み出し、当該パターンデータを参照しつつ上記抽出されたパラメータデータを加工することで、モデル変形用データを生成する。 - 特許庁