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deformation patternの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 363



例文

To provide a method of forming a pattern using an ArF laser beam, which prevents deformation or the defective shaping of the pattern formed on a photosensitive film.例文帳に追加

感光膜に形成されるパターンの変形や形状不良を抑制できるArFレーザ光を用いるパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To perform the same recognition processing as in a case having no deformation of dot pattern even to a slightly deformed dot pattern.例文帳に追加

多少の変形が生じたドットパターンに対しても、ドットパターンに変形が生じていない場合と同様の認識処理を行えるようにする。 - 特許庁

To provide a method for forming a photosensitive film pattern of a semiconductor device by which the deformation and dimensional change of a fine photosensitive film pattern can be prevented.例文帳に追加

微細な感光膜パターンの崩れや大きさの変動を防止し得る半導体素子の感光膜パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photomask having an island-shaped independent light-shielding pattern, in which deformation of the pattern due to electrostatic damage can be prevented.例文帳に追加

島状に独立した遮光パターンを有するフォトマスクにおいて、静電破壊によるパターンの変形を防ぐことができるフォトマスクを提供する。 - 特許庁

例文

To provide a resist composition for supercritical development process which suppresses pattern deformation due to swelling and pattern collapse and can obtain a pattern having a high aspect ratio, and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

パターンの膨潤による変形及びパターン倒れを抑制するとともに、高アスペクト比のパターンを得ることのできる超臨界現像プロセス用レジスト組成物及び当該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁


例文

A uniform light emission distribution may be produced by utilizing a pattern of a light extracting deformation part.例文帳に追加

光抽出変形部のパターンを利用することによって、均一な光放出分布が生成され得る。 - 特許庁

To provide a paving sheet having water permeability without having any separation/deformation of a pattern by a simple execution.例文帳に追加

施工が簡単で、図柄の剥離・変形が無く、透水性を有した舗道用シートを提供すること。 - 特許庁

To provide an image processor handling deformation of a recognition target pattern or recognition of a pattern different from a model pattern without increasing computational complexity necessary for matching processing.例文帳に追加

マッチング処理に要する計算量を増大させることなく、認識対象パターンの変形や、モデルパターンとは異なるパターンの認識に対応することができる画像処理装置を提供する。 - 特許庁

To make it possible to surely converge an atomized paint by suppressing the deformation of a nearly elliptical pattern and to thereby perform coating both in a circular pattern and in a nearly elliptical pattern.例文帳に追加

略楕円形パターンの変形を抑え且つ微粒化塗料を確実に収束させることを可能にしつつ、円形パターンと略楕円形パターンの両パターンの塗装を行えるようにする。 - 特許庁

例文

To improve deformation of a pattern form due to the roughness and fineness of a pattern by setting optimal pattern density, and enhance reliability and a manufacturing yield of a device, and restrict a reduction in productivity.例文帳に追加

パターンの粗密によるパターン形状の変形を最適なパターン密度を設定することにより改善して、デバイスの信頼性、歩留りの向上を図り、生産性の低下を抑制する。 - 特許庁

例文

To provide a deformation detecting method for a coated concrete surface for accurately detecting the deformation of the coated surface of concrete by forming a coated pattern of a heat releasing pattern and feeding current from only a power source.例文帳に追加

発熱塗料の塗りパターンを形成し、電源からの通電のみにより、被覆されたコンクリート表面の変状を的確に検知することができる被覆されたコンクリート表面の変状の検知方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method capable of reducing deformation of a pattern under an influence of optical proximity effect in a process of manufacturing an integrated circuit.例文帳に追加

集積回路の製造プロセスにおいて光近接効果の影響によるパタンの変形を軽減することができるパタン形成方法を提供する。 - 特許庁

This prevents the pattern immediately after being temporarily formed by discharging from bearing electrical charges, and prevents static electricity from causing deformation in the pattern, abnormality in the discharging, or the like.例文帳に追加

このため、吐出により仮形成された直後のパターンの帯電が抑制され、静電気によるパターンの変形や吐出異常等が抑制される。 - 特許庁

Then, light for controlling the deformation state of the true slime mold 15 is radiated by a predetermined radiation pattern with a projector according to the deformation state of the true slime mold 15.例文帳に追加

そして、その真性粘菌15の変形状態に応じて、プロジェクタにより、真性粘菌15の変形状態を統御する光を所定の照射パターンで照射する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device which can minimize the deformation of a pattern caused by damage to a hard mask.例文帳に追加

ハードマスクの損傷によるパターンの変形を最小化できる半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The static charge and deformation preventing projecting parts 32 are higher than the optical pattern 33 and act as sticking points to a protection film.例文帳に追加

帯電・変形防止凸部32は光学パターン33より高く、保護フィルムとの密着点として作用する。 - 特許庁

WRITING HABIT EXTRACTING DEVICE, DESIGN CHARACTERISTIC EXTRACTING DEVICE, DEFORMATION PATTERN FORMING DEVICE, IDENTIFIER AND CHARACTER RECOGNIZING DEVICE例文帳に追加

筆記癖抽出装置、デザイン的特徴抽出装置、変形パターン生成装置、同定装置、文字認識装置 - 特許庁

To provide a forming method of a wiring pattern wherein a fine wiring pattern having desired dimension, a shape and precision can be formed by restraining deformation of a resist pattern which is caused by heat and stress.例文帳に追加

熱や応力によるレジストパターンの変形を抑制し、所望の寸法、形状および精度を有する微細な配線パターンを形成することができる配線パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide pattern forming processes that may form permanent patterns such as a wiring pattern with high fineness and preciseness, and sufficient efficiency due to suppressing the deformation of images formed on pattern forming materials.例文帳に追加

前記パターン形成材料上に結像させる像の歪みを抑制することにより、配線パターン等の永久パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能なパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide an air spray gun in which a coating of a low viscosity can be atomized at a low atomizing air pressure and can be sprayed thinly and uniformly in a flat spray pattern without causing a pattern cracking and pattern deformation or the like.例文帳に追加

低い霧化空気圧力の基で低粘度の塗料を、より偏平な吹付けパターンで、かつパターン割れやパターン変形等を招くことなく微粒化して薄く均一に吹付けることができる。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern in which thermal flow deformation by heating is given to a temporary resist pattern formed by a photoresist phenomenon to be able to be enlarged by closely resembling the temporary resist pattern.例文帳に追加

ホトレジスト現像により形成される仮レジストパターンに、加熱による熱フロー変形を与えて仮レジストパターンと近似的に拡大することができるレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inkjet recording head preventing the deterioration of patterning precision by the deformation of a discharge port pattern shape, while suppressing the deformation by reflecting light from a base plate surface in the pattern exposition of the discharge port.例文帳に追加

吐出口のパターン露光における基板面からの反射光による吐出口パターン形状の変形を抑制しつつ、その変形抑制によるパターニング精度の低下を防止可能なインクジェット記録ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

A pattern data conversion method is configured to input the image of the pattern data of a photo-mask or wafer, extract the outline of the input pattern data, perform deformation processing so as to more smoothly deform the outline of the pattern data, and extract coordinate data necessary for reproducing the pattern data from the outline, in which the deformation processing is performed, to generate polygon coordinate data.例文帳に追加

フォトマスク又はウェハのパターンデータの画像を入力し、入力したパターンデータの輪郭線を抽出するとともにパターンデータの輪郭線をより滑らかに変形するように変形処理し、変形処理された輪郭線からパターンデータを再現するのに必要な座標データを抽出してポリゴン座標データを生成することを特徴とするパターンデータ変換方法。 - 特許庁

To provide a substrate processing method capable of preventing the occurrence of a pattern defect by suppressing deformation of a resist pattern due to substitution of a solvent atmosphere in a chamber, in reflow processing for dissolving the resist pattern in the chamber to form a desired resist pattern.例文帳に追加

チャンバ内でフォトレジストパターンを溶解し所望のレジストパターンを形成するリフロー処理において、チャンバ内の溶剤雰囲気置換に伴うレジストパターンの変形を抑制し、パターン不良の発生を防止することのできる基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a resist pattern having a prescribed shape by preventing the deformation of the resist pattern, caused by connection errors between partial exposure regions when a charged particle beam is used.例文帳に追加

荷電粒子線を用いる際の部分露光領域間の接続誤差に起因するレジストパターンの変形を防止し、所定の形状を有するレジストパターンを得られるようにする。 - 特許庁

To provide an image recognition method and an image recognition device for improving the robustness or reliability of pattern matching, regardless of the deformation or the positional deviation of a pattern.例文帳に追加

パターンの変形や位置ずれによらずに、パターンマッチングの頑健性や、信頼性を向上させることができる画像認識方法及び画像認識装置を提供する。 - 特許庁

Also, the controller 24 performs control so as to display a character separately from the main pattern and make the character perform the pseudo operation of urging deformation to the main pattern.例文帳に追加

また、制御装置24は主図柄とは別にキャラクタを表示し、そのキャラクタが当該主図柄に対し疑似的に変形を促す動作を行うよう制御する。 - 特許庁

To provide a photoresist composition so excellent in heat resistance that deformation of a resist pattern can be prevented in heating at high temperature.例文帳に追加

高温加熱処理時にレジストパターン形状の変形を防止できる耐熱性に優れたホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To form a drawing pattern with high accuracy by appropriately correcting a drawing position according to deformation of a drawing object such as a substrate.例文帳に追加

基板等の被描画体の変形に応じて描画位置を適切に補正し、精度よく描画パターンを形成する。 - 特許庁

To measure the deformation process of the local area, a soft fabric with a grating pattern thereon is affixed to the object.例文帳に追加

局所領域の変形過程の計測のためには、格子模様が描かれた柔軟な生地を対象に貼り付ける。 - 特許庁

To form a pattern with high accuracy by quickly and properly correcting drawing data to deformation of an exposure object such as a substrate.例文帳に追加

基板などの露光対象の変形に対し、迅速かつ適切に描画データを補正して精度よくパターンを形成する。 - 特許庁

An easily-elastically-deforming part 33 allowing elastic deformation easily compared with another portion is formed in a contact pin 32 of each pattern wiring.例文帳に追加

各パターン配線のコンタクトピン32に、他所よりも弾性変形容易な弾性変形容易部33を形成した。 - 特許庁

To obtain a desirable pattern with high accuracy without causing deformation at an interface between a low k film and a metal mask.例文帳に追加

低k膜と金属マスクとの間の界面に歪みを引き起こすことなく、高い精度の望ましいパターンを得ること。 - 特許庁

To provide a pattern forming method capable of preventing deformation of a photoresist pattern or increase in LWR (line width roughness) when a silicon oxide film is formed on the photoresist pattern in a sidewall spacer method.例文帳に追加

側壁スペーサー法において、フォトレジストパターン上に珪素酸化膜を形成した際のフォトレジストパターンの変形やLWRの増大を防ぐことができるパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To obtain a mask scarecely causes warping or deformation due to heat during the formation of an electrically conductive pattern or an external force during the handling and composes the conductive pattern with high precision, in a mask for forming an electrically conductive pattern for an electrode and the like.例文帳に追加

電極等の導電パターンを形成するためのマスクであって、導電パターン形成時の熱や取り扱い時の外力による反りや変形が生じ難く、高精度に導電パターンを構成し得るマスクを得る。 - 特許庁

To attain the higher speed and more precise deformation analysis of a non-compression Mooney-Rivlin super-elastic body by a sectional pattern finite element method.例文帳に追加

分離型有限要素法による非圧縮Mooney-Rivlin超弾性体の変形解析を、より高速化高精度化して実用化する。 - 特許庁

To efficiently evaluate the deformation amount of a pattern by a shrink process with high accuracy and to evaluate conditions of the shrink process.例文帳に追加

シュリンク処理によるパターンの変形量を高精度で効率よく評価して、シュリンク処理の条件評価を行うこと。 - 特許庁

To provide a glass substrate for a display wherein pattern deviation in lamination is prevented by suppressing substrate deformation occurring in cutting.例文帳に追加

切断した際に発生する基板の変形を抑制し、張り合わせ時のパターンズレを防止するディスプレイ用ガラス基板を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure device capable of projecting a mask pattern image that is adjusted to the utmost to a distortion deformation present on a work substrate.例文帳に追加

ワーク基板に生じている歪み変形に極力対応するマスクパターン像を投影可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a display decorative sheet for pavement of simple execution, causing no peel and deformation of a pattern and superior in water permeability.例文帳に追加

施工が簡単で、図柄の剥離・変形が無く、更には透水性に優れた舗道表示用化粧シートを提供すること。 - 特許庁

An image memory 2 is stored with the display data of respective display dots configuring a sprite pattern and mapping data for instructing deformation quantity.例文帳に追加

画像メモリ2には、スプライトパターンを構成する各表示ドットの表示データと、変形量を指示するマッピングデータが記憶されている。 - 特許庁

To obtain a glass substrate for a display, preventing pattern discrepancy in lamination by suppressing substrate deformation occurring in cutting.例文帳に追加

切断した際に発生する基板の変形を抑制し、張り合わせ時のパターンズレを防止するディスプレイ用ガラス基板を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a plating pattern where, in the case the main magnetic pole of a vertical magnetic recording head is formed using a resist pattern by plating, narrowing and fining of the pattern can be attained without causing the deformation in the widening of the pattern width even when the resist pattern is subjected to hydrophilic treatment.例文帳に追加

レジストパターンを使用してめっきにより垂直磁気記録ヘッドの主磁極を形成するといった場合に、レジストパターンに親水処理を施してもパターン幅が広がったりする変形を生じさせることなく、パターンの狭幅化、微細化を達成することができるめっきパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To solve the problem that the deformation of a conductor pattern becomes significant due to a stress applied to the conductor pattern at the time of printing insulator paste on an insulator layer on which the conductor pattern is formed, or laminating an insulator sheet upon the layer when the film thickness of the conductor pattern becomes thicker, because the conductor pattern is protruded from the surface of the insulator layer.例文帳に追加

導体パターンが絶縁体層表面から突出しているため、導体パターンの膜厚が厚くなると、この導体パターンが形成された絶縁体層上に、絶縁体ペーストを印刷したり、絶縁体シートを積層する際に加わる応力によって、導体パターンの変形が著しくなる。 - 特許庁

This elastic pipe 4 expands to regulate the spacing between the pattern mask 1A and the vacuum frame 3, thereby suppressing the deformation and strain of the pattern mask 1A and the vacuum frame 3 when the pressure in the space M is reduced.例文帳に追加

この弾性管4は、空間M内が減圧される際に膨張し、パターンマスク1Aと真空枠3との間隔を規制し、パターンマスク1Aや真空枠3の変形や歪を抑える。 - 特許庁

The pattern-forming material is discharged in a charged state, but the charge is removed by the ions and deformation, and discharging abnormalities or the like of the pattern-forming material due to static charge is suppressed.例文帳に追加

パターン形成材料は帯電した状態にて吐出されるが、イオンにより電荷が除去され、静電気によるパターン形成材料の変形や吐出異常等の発生が抑制される。 - 特許庁

To prevent local deformation of a minute pattern during manufacturing of a stamper to form a minute pattern of a finally obtained molding corresponding to an original purpose.例文帳に追加

スタンパ製造時における微細パターンの局所的な変形を防止することであって、最終的に得られる成形品における微細パターンを当初の狙い通りに形成すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a multilayer circuit board in which heat resistance is not deteriorated, and deformation and position shifting of a conductor pattern and formation of a gap at a periphery of the conductor pattern are unlikely to occur.例文帳に追加

耐熱性を劣化させることなく、導体パターンの変形や位置ズレおよび導体パターンの周りでの空隙発生が起き難い多層回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern matching method, an image processor and a computer program capable of performing pattern matching with high accuracy without being influenced by deformation of an edge or fluctuations of contrast.例文帳に追加

本発明は、エッジの変形、或いはコントラストの変動等に依らず、高精度にパターンマッチングを行うパターンマッチング方法,画像処理装置、及びコンピュータプログラムの提供を目的とする。 - 特許庁

例文

Pattern width or height of the structure which subdivides the electric discharge space is decreased locally in order to realize proper thermal deformation without deviation of three-forked pattern portions of the structure.例文帳に追加

放電空間を細分化する構造体のパターン幅または高さを、当該構造体の三叉パターン部分の熱変形が偏りのない適正なものになるように、局部的に小さくする。 - 特許庁




  
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