「deformation pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

Hot press work is applied to the rubber base material 10 by a hot press to form a hot press pattern on the bottom layer 12 by plastic deformation and the rubber layer 11 is drawn by the bottom layer 12 to form the pattern on the surface of the rubber layer 11.例文帳に追加

ホットプレス装置でゴム基材１０にホットプレス作業を施すことで、底層１２に可塑性変形によるホットプレスパターンを形成し、ゴム層１１が底層１２に引っ張られ、その表面にパターンが形成される。 - 特許庁

To provide a method of forming a conductive circuit pattern that is used for forming the precise and superiorly conductive circuit, has excellent deformation resistance and superior workability, and is used for forming a conductive circuit pattern inexpensively.例文帳に追加

高精度で導電性に優れた導電回路を形成することができ、耐変形性や加工性にも優れ、低コストで導電回路パターンを形成することができる導電回路パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a flexible molding die useful for manufacturing a microstructure body such as a PDP rib of a lattice pattern and capable of manufacturing in high accuracy without generating bubbles and without entailing any defects such as a pattern deformation.例文帳に追加

格子パターンのＰＤＰリブやその他の微細構造体を製造するのに有用で、気泡の発生、パターンの変形等の欠陥を伴わないで高精度に製造できる可とう性成形型を提供すること。 - 特許庁

To provide an image recognition method, which includes the creation of a master pattern to realize high-speed and high-precision search of an image pattern regardless of deformation variation of a test object or variation on assembling.例文帳に追加

被検対象物の変形バラツキ又は組み付け上のバラツキに拘わらず、高速且つ高精度に画像パターンのサーチを実現するためのマスタパターンの生成を含む画像認識方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a patterning process without causing a deformation of a resist pattern and an increase in LWR (line width roughness) in forming a silicon oxide film on a photoresist pattern, in a sidewall spacer method.例文帳に追加

側壁スペーサー法において、フォトレジストパターン上に珪素酸化膜を形成したときのフォトレジストパターンの変形やＬＷＲの増大を防ぐことができるパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Accordingly, the top end part 41a of the spring piece 41 touches the circuit pattern is compliance with the height of a joint surface 11a even when the joint surface 11a does not touch the circuit pattern due to the deformation of the joint part 11.例文帳に追加

したがって、接合部１１の変形により接合面１１ａが回路パターンに当接していない場合にも、バネ片４１の先端部４１ａが接合面１１ａの高さに応じて回路パターンに当接する。 - 特許庁

Thus a body deceleration pattern of compression deformation higher in the initial stage of collision than after the middle stage of collision can be realized because the lead in the initial stage of collision is received with compression deformation of relatively high stress, the load after the middle stags of collision is received with bending deformation of relatively law stress, and the bend starting load can be regulated by the bending deformation checking means 6.例文帳に追加

これによれば、応力が比較的高い圧縮変形で衝突初期の荷重を受けると共に、応力が比較的低い屈曲変形で衝突中盤以降の荷重を受け、かつ屈曲変形阻止手段で屈曲開始荷重を規定することができるので、衝突中盤以降よりも衝突初期が高くなる車体減速度パターンを実現し得る。 - 特許庁

Namely, the second stamp portion 10b is made gradually narrower in accordance with the elastic deformation becoming gradually larger toward in the X direction, thereby the elastic deformation near the intersection portion 10g can be made to be deformation along two first extension lines E1, so that a pattern having the width W1 can be formed.例文帳に追加

つまり、第２スタンプ部１０ｂを、Ｘ方向に向かって徐々に大きくなる弾性変形に応じて、徐々に狭くすることにより、交差部１０ｇ近辺の弾性変形を、２本の第１の延長線Ｅ１に沿って変形させることができ、幅が幅Ｗ１となるパターンを形成することができる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a letterpress with superior printing properties at a low cost by forming a high definition printing pattern required for an organic EL element, then preventing the printing pattern from being eluted from a surface resin, and curbing the breaking of a letterpress pattern or its deformation attributed to external causes such as dust and impact.例文帳に追加

有機ＥＬ素子に必要とされる高精細な印刷パターンを形成し、表面樹脂からの溶出を防ぎ、塵、衝撃などによる外部起因による凸版パターンの破壊や変形を改善し、印刷特性に優れた凸版を安価に製造する方法を見出すこと。 - 特許庁

To provide a wiring board provided with metal foils, a metal foil and a pattern conductor layer, or pattern conductor layers which are provided adjacent to each other through the intermediary of an insulating layer and electrically connected together with a bump (projection) that is formed by the plastic deformation of the metal foil or the pattern conductor layer itself.例文帳に追加

配線基板において、絶縁層を介して隣接する金属箔同士が、又は金属箔とパターン導体層とが、あるいはパターン導体層同士が、金属箔又はパターン導体層自体の塑性変形で形成されたバンプ（突起）にて電気的に導通可能な配線基板の提供。 - 特許庁

To prevent a position of a pattern formed on a work by projection exposure from being deviated from a position of a pattern formed by previous exposure processing and a position of a mask pattern for screen printing or the like to be executed in the next step, even in the case of the occurrence of telescopic deformation on the work.例文帳に追加

ワークに伸縮変形が生じても、投影露光によりワークに形成するパターンの位置を、それ以前の露光処理により形成されているパターンの位置と、次の工程で行うスクリーン印刷等のマスクパターンの位置との間に大きなずれを生じさせないようにすること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a ceramic thick film printed circuit board which can print a superior printing pattern with a high density, and has no problem in a film peeling of a printed matter after being sintered, a deformation of the pattern, a pin hole, or the like.例文帳に追加

焼成後の印刷物の膜剥がれやパターンの変形やピンホールなどの問題のない良好な印刷パターンを高密度に印刷可能なセラミック厚膜印刷回路基板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a wiring board that suppresses collapse of a through conductor pattern during application of ceramic slurry, and deformation of the through conductor pattern including a hot-melt composition due to melting, and to provide the wiring board.例文帳に追加

貫通導体パターンがセラミックスラリーを塗布する際に倒れるのを抑制し、ホットメルト組成物を含む貫通導体パターンが溶融によって変形するのを抑制する配線基板の製造方法および配線基板を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a display device capable of suppressing deformation such as deflection of an insulating substrate even when a semiconductor film with a desired pattern is formed on the insulating substrate.例文帳に追加

絶縁基板に所定パターンの半導体膜を形成した際でも、絶縁基板の反りなど変形を抑制した表示装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device that can prevent the deformation of a pattern or contact failure due to optical proximity effect, and to provide a mask for exposure used for the same.例文帳に追加

光近接効果によるパターンの変形や配線間のコンタクト不良を防止しうる半導体装置の製造方法、並びにこれに用いる露光用マスクを提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a printed-circuit board capable of precisely realizing arranging of a conductive pattern and of preventing the deformation of the printed-circuit board.例文帳に追加

導体パターンの精密な配置を実現できるとともに、配線回路基板の変形を防止することのできる、配線回路基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method and a manufacturing apparatus which prevent the deformation and peeling of a desired electric circuit pattern, and enable easy and complete elimination of punching residue.例文帳に追加

所望の電気回路パターンの変形や剥がれを防止すると共に、抜きかすを容易にかつきれいに除去することができる製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁

Thereby mechanical adverse influence (i.e., deformation and damages to pattern) exerted on an upper surface of a wafer which is caused by ultrasonic vibration of the chemical liquid by the megasonic mechanism is eliminated.例文帳に追加

これにより、メガソニック機構による薬液の超音波振動がウェーハ上面に与える機械的な悪影響（即ち、パターンの変形や損傷）を除去する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam exposure system which can prevent thermal deformation of a reticle mark to the utmost and a mark part on a reticle stage and form a more accurate pattern.例文帳に追加

レチクルマークやレチクルステージ上のマーク部の熱変形を極力防止し、より高精度なパターン形成を行うことができる荷電粒子ビーム露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a material capable of easily forming a sheet which is resistant to deformation and has a highly precisely arranged pattern of at least two kinds of phases having different turbidity.例文帳に追加

変形に対する耐性をもち、かつ少なくとも２種類の濁度の異なる相が高精細に配列したパターンを有するシートを容易に形成できる材料。 - 特許庁

To provide a method of designing a printed board wherein a disposition design of a dummy pattern for restricting warpage deformation of a multilayered wiring board can be performed in a short time.例文帳に追加

多層配線基板の反り変形を抑制するダミーパターンの配置設計を、短時間で行えるプリント基板の設計方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To form a via hole with a smallest possible number of shots without having a resin residual in the via hole and generating deformation and penetration of an inner layer circuit pattern exposed in the via hole.例文帳に追加

ビアホール内の樹脂残り及びビアホール内に露出する内層回路パターンの変形・貫通を起こさずに、可及的に少ないショット数でビアホールを形成する。 - 特許庁

To produce Kintaro candy (R) type 2D type transparent soap free from foam in a product, deformation, shape collapse or color bleeding of the product and having the same pattern even wherever it is cut.例文帳に追加

製品に気泡が入ったり、変形、型崩れ、あるいは色にじみの無い、どこで切断しても同じ模様になる所謂金太郎飴型の2D型透明石鹸を製造する。 - 特許庁

Thereby, without influence of a correction error due to heat deformation of the reticle, the target pattern can be precisely aligned to the target layer on the wafer.例文帳に追加

これにより、レチクルの熱変形に起因する補正誤差に影響を受けることなく、目標パターンをウエハ上のターゲット層に正確に位置合わせすることが可能となる。 - 特許庁

To obtain a synthetic wood-coated metal pipe excellent in thermal deformation resistance and enhanced in weatherability while keeping a woody feeling and a grain pattern.例文帳に追加

合成木材被覆金属管に係り、特に、耐熱変形に優れ、木質感、木目模様を維持しつつ耐候性を向上させた合成木材製金属管を供給する。 - 特許庁

To provide a contact exposure device which can improve the exposure accuracy of patterns to a plate to be exposed by suppressing the deformation of a pattern plate, frame or base plate.例文帳に追加

パターン板や枠体または基台の変形を抑えることで、被露光板へのパターンの露光精度を向上させることが可能な密着露光装置を提供する。 - 特許庁

To prevent deterioration of the performance of an element or a decrease in yield due to a decrease in an pattern overlapping accuracy caused by deformation of the shape of an exposure region.例文帳に追加

露光領域の形状の歪みに起因するパターンの重ね合わせ精度の低下による素子性能の劣化又は歩留まりの低下等を防止できるようにする。 - 特許庁

To prevent deformation of a pattern after sewing is completed, when sewing with a workpiece having a curved face (for example, a hat) set on a retaining frame at an inclination angle δ.例文帳に追加

曲面を有する被縫製物（例えば帽子）を傾き角δを付けて保持枠にセットして縫いを行う場合に、縫い上がりの柄模様に変形が生じないようにする。 - 特許庁

An overlapping error accompanying reticle thermal deformation due to the exposure is corrected by using the corrected model, and then a pattern is transferred to a wafer to be exposed.例文帳に追加

修正された前記モデルを用いて露光によるレチクル熱変形に伴う重ね合わせ誤差を補正し、その上で次の露光対象のウエハにパターンを転写する。 - 特許庁

To provide a laser beam machining equipment which suppresses the generation of thermal lens effect due to a homogenizer, and avoids the deformation of an imaging pattern on an object to be machined or the reduction of resolution.例文帳に追加

ホモジナイザに起因する熱レンズ効果の発生を抑えて、加工対象上の結像パターンの歪みや解像度の低下を回避することのできるレーザ加工装置。 - 特許庁

To suppress the variation of the shape of a resist pattern caused by the deformation of a pellicle film in a scanning exposing device while realizing the long life of the pellicle film at a photomask.例文帳に追加

フォトマスクにおけるペリクル膜の長命化を実現しつつ、走査型露光装置において、ペリクル膜の変形によって生じるレジストパターンの形状の変動を抑える。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for magnetic character recognition that can accurately perform magnetic character recognition, even when there exists deformation in a magnetic waveform pattern.例文帳に追加

磁気波形のパターンの変形がある場合であっても、精度良く磁気文字認識を行うことが可能な磁気文字認識方法及び磁気文字認識装置を提供する。 - 特許庁

To prevent occurrence of an image defect by suppressing deformation of a screen pattern when an image processing is applied to compensate misalignment for an image which is already screen processed.例文帳に追加

スクリーン処理済みの画像に対してレジずれを補正するための画像処理を施した場合におけるスクリーンパターンの変形を抑制し、画質欠陥の発生を防止する。 - 特許庁

To provide a substrate laminating method that has superior productivity, causes no deformation of channel patterns, even if a fine channel pattern is formed on a substrate, and to provide a manufacturing method of microchips, and microchips with the deformation of a fluid circuit controlled.例文帳に追加

生産性がよく、基板に微細な流路パターンが形成されている場合であっても、該流路パターンの変形を生じない基板の貼り合わせ方法およびマイクロチップの製造方法、ならびに流体回路の変形が抑制されたマイクロチップを提供する。 - 特許庁

Subsequently, actual print processing is performed using a correction printing plate 18 with a pattern region PT2 which is corrected to contract in fan-shape in the reverse direction based on the deformation ratio so that the pattern enlarged in fan-shape is corrected.例文帳に追加

そして、当該扇状に拡大したパターンを補正するように、変形の割合に基づいて逆方向の扇状に縮小修正されたパターン領域ＰＴ２を備える修正印刷版１８を用いて実際の印刷処理が行われる。 - 特許庁

Thus, the true slime mold 15 is deformed in a process of a feedback loop that the radiation pattern of the light changes according to the deformation state of the true slime mold 15 and the true slime mold 15 is further deformed by the radiation pattern of the light.例文帳に追加

これにより、真性粘菌１５の変形状態に応じて光の照射パターンが変わり、その光の照射パターンによってさらに真性粘菌１５が変形する、というフィードバックループの過程で、真性粘菌１５を変形させることができる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a casting pattern which can implement the correct alignment of sand molds to each other in manufacturing them, suppress the deformation of the casting pattern itself in manufacturing the molds, and prevent the breakage in manufacturing the casting pattern for manufacturing the sand molds in manufacturing castings.例文帳に追加

鋳造品製造のための砂型等を製作するための鋳造用模型の作製において、砂型等の製作の際の型同士の正確な位置合わせを可能とし、また型の製作時における鋳造用模型自体の変形を抑制する共に破損をも防止しうるような鋳造用模型の作製方法を提案する。 - 特許庁

A watermark image input part 200 is provided with a watermark information extracting part 220 for detecting the superimposed position of a superimposed pattern from a pattern superposition image obtained by superimposing an discriminative pattern on an original image and an input image deformation part 230 for preparing the corrected image of the pattern superimposed image 260, on the basis of the detected superimposed position information.例文帳に追加

透かし画像入力部２００は，元画像に識別可能なパターンを重畳したパターン重畳画像から，重畳したパターンの重畳位置を検出する透かし情報抽出部２２０と，検出した重畳位置情報を元にして，パターン重畳画像２６０の補正画像を作成する入力画像変形部２３０とを備えたことを特徴とする。 - 特許庁

This manufacturing method of the imprinting mold for transferring a pattern to the sol-gel material includes a process for measuring the deformation quantity due to the curing shrinkage of the sol-gel material, a process for performing the simulation of the pattern shape of the material transferred from the mold using the measured deformation quantity and a process for forming the pattern shape of the mold calculated by simulation.例文帳に追加

本発明は、パターンをゾルゲル材料へ転写するためのインプリント用モールド製造方法であって、ゾルゲル材料の硬化収縮による変形量を測定する工程と、前記測定した変形量より、モールドから転写される材料のパターン形状のシミュレーションを行う工程と、前記シミュレーションより算出されたモールドのパターン形状を形成する工程とを行うことを特徴とするインプリント用モールド製造方法である。 - 特許庁

To easily form a correction pattern effective for preventing the deformation of a gate size occurring in the level difference portion consisting of a boundary between the diffusion region and element separation region of a transistor(TR).例文帳に追加

トランジスタの拡散領域と素子分離領域との境界からなる段差部分に起因したゲート寸法の変形を防止する有効な補正パターンを簡便に生成できるようにする。 - 特許庁

To provide a transfer apparatus which can improve transfer efficiency and, at the same time, can realize high-accuracy pattern formation and can suppress the thermal deformation of a transferred product.例文帳に追加

転写能率を向上することができるとともにパターンの形成を精度よく行うことができ、製品の熱による変形を抑制することができる転写装置を提供する。 - 特許庁

To provide a mask in which the deformation of a pattern opening part formed in a unit mask due to a tensile force applied to the unit mask is suppressed, and to provide a mask assembly having the mask.例文帳に追加

単位マスクに加えられる引張力によって単位マスクに形成されたパターン開口部の形状が変形することを抑制したマスク、及びこれを含むマスク組立体を提供する。 - 特許庁

To provide a planer heater equipped with a surface member containing a coloring layer which does not generate wrinkles and cracks in a pattern, even if elastic deformation is generated in a local portion of the planer heater, or the planer heater is folded.例文帳に追加

弾性変形、もしくは折り畳むことがあったとしても、模様に皺や割れを生じさせることがない染色層を含む表面材を備えた面状採暖具を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a mold facilitating duplicating a relief pattern in a high aspect ratio without deformation, and particularly, a method for manufacturing an embossing mold for a relief hologram and a hologram.例文帳に追加

高アスペクト比のレリーフ形状を変形させることなく複版することができる金型の製造方法，特にレリーフホログラム用エンボス金型およびホログラムの製造方法を提供する。 - 特許庁

To make it possible that a uniform film pattern having even a large area is formed, by preventing ununiformity of mechanical pressing power, deformation of a substrate itself and the like in a step of heating and pressing for junction.例文帳に追加

接合のための加熱加圧工程における機械的加圧力の不均一性や基板自体の変形などを防止し、大面積であっても均一な膜パターンの形成を可能とする。 - 特許庁