「deformation pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

An L/S pattern with a pitch P2 is formed which is subjected to deformation of the shape due to optical proximity effect in an exposure device A which is a reference device used in the creation of the OPE rule.例文帳に追加

ＯＰＥルールの作成に使用した基準装置である露光装置Ａにおいて、光近接効果による形状変形が生じるピッチＰ２のＬ／Ｓパターンを形成する。 - 特許庁

To prevent deterioration and deformation of a mask due to forces applied to the mask from an exposure apparatus at accelerating, when a mask is moved at high speed for transferring a pattern by exposing with an electron beam.例文帳に追加

電子線露光によるパターン転写を行う場合に、マスクを高速移動すると、加速時に露光装置からマスクに加わる力によってマスクが劣化、変形するため、これを防止する。 - 特許庁

A die 30 is pressed on a laminated body 10 formed by superimposing the workpiece material 14 and the auxiliary material 12, and a fine pattern is formed on the material 14 by causing plastic deformation on the auxiliary material 12.例文帳に追加

被加工材１４と補助材１２とが重ね合わせられた積層体１０に型３０を押し付け、補助材１２を塑性変形させつつ被加工材１４に微細パターンを形成する。 - 特許庁

To obtain an antenna system capable of preventing a current distribution on a rear mirror plane from being disordered and suppressing deformation of a radiation pattern and a decrease in gain without spoiling the strength of a ring-shaped supporter.例文帳に追加

リング状支持具の強度を損なうことなく、後鏡面上の電流分布の乱れを防ぎ、放射パターンの変形や利得の低下を抑制することのできるアンテナ装置を得る。 - 特許庁

Then the distortion of a pattern-projected image due to the thermal expansion of the reticle can be corrected by modulating the illumination light IL according to the thermal expansion deformation of the reticle R.例文帳に追加

ここで、レチクルＲの熱膨張変形に応じて照明光ＩＬを変調することにより、レチクルの熱膨張に起因するパターンの投影像の歪みを補正することが可能になる。 - 特許庁

The correlation with deformation of the pattern of the phase shift mask due to the difference in light intensity between a shifter part and a non-shifter part of the phase shift mask by waveguide effect is stored in a rule base.例文帳に追加

導波路効果による位相シフトマスクのシフタ部と非シフタ部との間の光強度の違いに起因する位相シフトマスクのパターンの変形との相関関係をルールベース化する。 - 特許庁

Consequently, the deformation and the crushing of the stack body 32 caused by the shrinkage of the vacuum packing bag 35 are suppressed to improve the working precision of the pattern.例文帳に追加

その結果、この減圧包装工程において、真空包装袋３５の収縮による積層体３２の変形や潰れは抑制され、パターンの加工精度を向上させることができる。 - 特許庁

Correction is added to the normal dimension of the electrode pattern to be formed in the electrode forming process by considering the deformation of the plastic film after the an alignment film calcining film.例文帳に追加

配向膜焼成工程後のプラスチックフィルムの変形を考慮して、電極形成工程によって形成される電極パターンに関して予め正規寸法から補正を加えておく。 - 特許庁

Regarding the code pattern image, the transparent toner image is formed around the dot D, the deformation of the dot D due to toner dispersion is suppressed, regardless of properties of recording paper.例文帳に追加

このコードパターン画像によれば、ドットＤの周囲に透明トナー像が形成されているから、記録用紙の性質によらず、トナーの拡散によるドットＤの変形が抑制される。 - 特許庁

Utilizing an inorganic photoresist capable of generating protrusions according to physical deformation by exposure, the master disk having a concave-convex pattern is prepared by the concavoconvex by the protrusions.例文帳に追加

無機フォトレジストが、露光によって物理的変形による突起を発生させることができることを利用して、この突起による凹凸をもって凹凸パターンを有する原盤を作製する。 - 特許庁

To provide a mask for a charged particle beam exposure system, in which deformation of a circuit pattern can be limited to a range without problems related to transfer accuracy, even when inside tensile stress is applied to a mask.例文帳に追加

マスクに内部引っ張り応力を与えても、回路パターンの変形が、転写精度上問題のない範囲に収まるような荷電粒子線露光装置用マスクを提供する。 - 特許庁

To provide a printing device for manufacturing a liquid crystal display element capable of minimizing the deformation of a blanket attached to the surface of a printing roll, and a pattern forming method using the device.例文帳に追加

印刷ロールの表面に付着されたブランケットの変形を最小化できる液晶表示素子の製造用印刷装置及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Regarding the code pattern image, the dot D itself never come in contact with the surface of the recording paper, then, the deformation of the dot D due to toner dispersion is suppressed, regardless of properties of recording paper.例文帳に追加

このコードパターン画像によれば、ドットＤ自体が記録用紙の表面に接触しないから、記録用紙の性質によらず、トナーの拡散によるドットＤの変形が抑制される。 - 特許庁

To provide a roll forming machine capable of forming a precise pattern by avoiding generation of twisting phenomena caused by offset between two rolls and elastic deformation caused by the lack of rigidity.例文帳に追加

２個のロール間のオフセットに起因するこじり現象の発生と剛性不足による弾性変形を回避して、高精度な賦形成形を行うことができる成形ロール装置を提供する。 - 特許庁

To prevent deterioration and deformation of a mask due to forces applied to the mask from an exposure apparatus at accelerating, when the mask is moved at a high speed for transferring a pattern by an electron beam exposure.例文帳に追加

電子線露光によるパターン転写を行う場合に、マスクを高速移動すると、加速時に露光装置からマスクに加わる力によってマスクが劣化、変形するため、これを防止する。 - 特許庁

To provide a fine resist pattern forming method and device which is capable of forming a fine resist patter having a high aspect ratio without causing collapse and deformation and by which formed resist residue can be removed.例文帳に追加

レジストパターンの倒壊や変形を起こすことなく高アスペクト比の微細レジストパターンを形成でき、またレジスト残渣を除去できる微細レジストパターン形成方法および装置を得る。 - 特許庁

Consequently, the surface deformation of the substrate 100 which occurs when the substrate 100 is held by suction can be put in order at every working area and the correction of the coordinate error, shape error, etc., of a pattern caused by the surface deformation of the substrate can be made easier by improving the reproducibility of the error between the working areas.例文帳に追加

これにより、吸着保持に伴なう基板表面の変形を各加工領域毎に揃えることが可能となり、基板表面の変形に起因するパターンの座標誤差や形状誤差等の加工領域間の再現性を向上させ、その補正を容易にする。 - 特許庁

To provide a composition for print which is used to give a pattern to textile products such as cloth, and in which also when pressed in the status that high temperature is given, which can give a decoration pattern on cloth which hardly generates neither deformation nor discoloration.例文帳に追加

布帛などの繊維製品に模様を付すために用いられるプリント用組成物であって、高熱がかかる状態でプレスした際も、変形や変色が生じにくい加飾模様を布帛上に付与できる樹脂プリント用組成物を提供することを課題とする。 - 特許庁

A slit-like dummy pattern 7 is provided at the cell plate ends of a DRAM having a CUB(capacitor under bit line) structure with inner wall type cylinders, and the same material as that of stacked electrodes 8 is buried in the slit-like dummy pattern 7 as dam blocks for preventing the cylinder deformation at the cell plate ends.例文帳に追加

内壁型シリンダーを持つＣＵＢ（Ｃａｐａｃｉｔｏｒ ＵｎｄｅｒＢｉｔｌｉｎｅ）構造のＤＲＡＭのセルプレート端にスリット状のダミーパターン７を設け、このスリット状のダミーパターン７には、スタック電極８と同種の材質を埋め込んで、セルプレート端のシリンダー変形を防ぐ堤防としたことを特徴とする。 - 特許庁

In this case, a required bobbin thread quantity operation program storage means 17 is arranged to thereby arithmetically operate required bobbin thread quantity by required bobbin thread quantity corresponding to pattern seam information prestored in a storage means 19 and an operation expression of a correction factor different by a thickness of cloth, a kind of the cloth, a kind of thread and deformation of a pattern.例文帳に追加

本発明は、所望の模様を選択するだけで予め必要な下糸の量が表示されるので、ボビンの下糸量を確認して縫うことができ、縫製途中での下糸不足による下糸切れを生じる恐れがなくなる。 - 特許庁

To provide a mold for imprints wherein the peeling quality obtained between the mold and a hardened resist is improved, and such problems are reduced as the destruction, peeling, and sticking to the mold of the hardened resist, and as the deformation and dimensional abnormality of the obtained resist pattern, and further, the formation of the good resist pattern is made possible.例文帳に追加

モールドと硬化したレジスト剥離性を向上させ、硬化したレジストの破壊や剥離、モールドへの付着、得られるレジストパターンの変形、寸法異常等の問題を低減し、良好なレジストパターンの形成を可能とするインプリント用モールドを提供すること。 - 特許庁

To provide correction methods for a photomask capable of correcting an auxiliary pattern of the photo mask, when the auxiliary pattern is resolved on a surface to be transferred by a reliable and compatibly easy method in the photo mask having an ArF excimer laser as an exposure light source and having the auxiliary pattern used for projection exposure by means of deformation illumination, and to provide a corrected photomask.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザを露光光源とし、変形照明による投影露光に用いられる補助パターンを有するフォトマスクにおいて、補助パターンが転写対象面に解像されてしまう場合のフォトマスクを、確実で比較的容易な方法により補助パターンを修正するフォトマスクの修正方法および修正されたフォトマスクを提供する。 - 特許庁

Because a plurality of grooves 4 provided are positioned nearly axisymmetrically with respect to the seam axis 24 of a mouth pattern 20 forming a bottle, the binding power of each split pattern 21 and the glass formed becomes about the same in opening the mouth pattern 20 without the bottle mouth part pulled in one direction preventing the deformation of the bottle mouth formed.例文帳に追加

縦溝を複数設け、かつ、縦溝をびんを成形する口型のシーム軸に対してほぼ線対称の位置に配置したので、口型を開くとき各割型と成形したガラスとの結合の強さがほぼ等しくなり、びん口部が一方に引っ張られることがなく、したがって、成形したびん口部の変形を防ぐことができる。 - 特許庁

An encoding method of the variable guilloche pattern includes: generating a font system including a base pattern and a geometric distortion of the base pattern, the geometric distortion being related to decodable symbols which are capable of being selectively assembled into predetermined variable data; combining the geometric deformation of the base pattern as a predetermined representation of the variable data; and embedding the representation in the guilloche pattern comprising a plurality of base patterns.例文帳に追加

本発明による可変データギロシェパターンの符号化方法は、ベースパターン及び前記ベースパターンの幾何学的変形物を含むフォント体系を作成し、前記幾何学的変形物が、選択的に組み合わせることにより所定の可変データを構成することのできる復号可能な記号にそれぞれ関連付けられており、前記ベースパターンの前記幾何学的変形物を前記可変データの所定の表現として組み合わせ、複数の前記ベースパターンからなるギロシェに前記表現を埋め込むことを含む。 - 特許庁

Since longitudinal tensile force due to deformation is provided to the fuse part 2a with the copper alloy-plated layer 4 formed, the conductive pattern 2 is instantaneously cut off when the copper alloy-plated layer 4 is melted and copper foil is eroded, whereby the whole conductive pattern 2 can be prevented from being overheated.例文帳に追加

また、銅合金メッキ層４が形成されたヒューズ部位２ａに、変形による長手方向での張力が付与されるため、銅合金メッキ層４が溶融して銅箔を浸食すると、瞬時に導電パターン２が切断され、導電パターン２全体の過熱化を防止することができる。 - 特許庁

To improve robustness to image input noise or deformation in pattern matching by detecting a position pointed on a pick-up image through pattern matching using only image data for one frame to thereby reduce the memory capacity and the processing time.例文帳に追加

１フレームの画像データのみを用いたパターン・マッチングを行なうことで、撮像画像上の指示位置の検出を可能としてメモリ容量を少量化し、及び処理時間を短縮化しつつ、パターン・マッチングにおいて、画像入力のノイズや変形に対するロバスト性を向上させる。 - 特許庁

Since, after formation of an irregular pattern on the surface of a thermoplastic resin sheet 1 before molding, hair is electrostatically implanted only to the top face 5 of the protruded parts 3 of the pattern, subsequent three-dimensional molding produces deformation e.g. expanded and contracted parts, only in thin recessed parts 4.例文帳に追加

成形前の熱可塑性樹脂シート１の表面に凹凸模様を形成し、その凹凸模様の凸部３の頂面５だけに静電植毛を施すようにしたため、その後に３次元形状に成形しても、伸延部や収縮部等の変形が生じるのは、厚さの小さい凹部４だけである。 - 特許庁

In the production process of the resin optical waveguide, the core pattern of the waveguide is embedded after executing heat treatment of ≥150°C, thus the deformation and embedding defect of the waveguide core pattern are prevented, thereby forming the resin optical waveguide low in loss and excellent in the optical characteristics.例文帳に追加

樹脂光導波路の作製工程において、１５０℃以上の熱処理を実施した後、導波路のコアパターンを埋め込むことにより、導波路コアパターンの変形および埋め込み不良等を防止し、低損失で、光学特性に優れた樹脂光導波路の作製方法を提供するものである。 - 特許庁

The method for manufacturing the diffraction optical element comprises transferring a shape of a die 7 with a diffraction pattern to a resin material 8 and releasing the solidified resin material 8 without deformation of the fine shape of projecting and recessing parts constituting the diffraction pattern.例文帳に追加

回折パターンを有する型７の形状を樹脂８材料に転写することにより、回折光学素子を製造するための回折光学素子の製造方法であって、回折パターンを構成する凹凸の微細形状を変形させることなく、固化した樹脂材料８を離型させる。 - 特許庁

To secure conductivity between the ground conductor pattern of a printed circuit board and a chassis, and to prevent the deformation of the printed circuit board caused by the distortion of the chassis, in the mounting structure of the printed circuit board.例文帳に追加

プリント基板の取付構造において、プリント基板のグラウンド用導体パターンとシャーシの間の導電性を確保すると共に、シャーシの歪みに起因したプリント基板の変形を防止する。 - 特許庁

The maximum length L of beams 1 and 3 is specified based on the amount of deformation in allowable beams and width W in the beams 1 and 3, and a mask pattern is composed by beams having length that does not exceed the maximum value.例文帳に追加

梁１、３の長さＬの上限値を、許容できる梁の変形量および梁１、３の幅Ｗに基づいて定め、上限値を越えない長さの梁によってマスクパターンを構成する。 - 特許庁

The conductive cushion materials 4 secure conductivity between the ground conductor pattern of the printed circuit board 2 and the chassis 3, and absorb the deformation of the printed circuit board 2 caused by the distortion of the chassis 3.例文帳に追加

導電性のクッション材４は、プリント基板２のグラウンド用導体パターンとシャーシ３の間の導電性を確保すると共に、シャーシ３の歪みに起因したプリント基板２の変形を吸収する。 - 特許庁

To produce a circuit board having a circuit pattern formed with especially high accuracy at least on one side by controlling deformation of a flexible film susceptible to dimensional variation due to heat, humidity or an external force.例文帳に追加

熱、湿度、外力の影響で寸法変化を起こしやすい可撓性フイルムの変形を抑制し、少なくとも片面に特に高精度な回路パターンを形成した回路基板を製造すること。 - 特許庁

To obtain a speaker adapting device without a teacher in which a recognition rate is improved by preventing the erroneous estimation of the parameter of a standard pattern even when the speaking including unregistered words and the deformation of the speaking are large.例文帳に追加

未登録単語を含む発声や発声変形が大きい場合においても標準パタンのパラメータ誤推定を防ぎ、認識率が向上する教師なし話者適応化装置を得る。 - 特許庁

To manufacture a circuit board formed with a circuit pattern with high precision in particular at least on one surface by suppressing the deformation of a flexible film easy to allow the change of a dimension by an influence of heat, humidity, and an external force.例文帳に追加

熱、湿度、外力の影響で寸法変化を起こしやすい可撓性フイルムの変形を抑制し、少なくとも片面に特に高精度な回路パターンを形成した回路基板を製造すること。 - 特許庁

To solve a problem that image quality of a medium tone image is degraded due to a density change by dot deformation because a hounds-tooth check pattern is caused over medium density regions when a conventional error diffusion method is applied to a laser beam printer.例文帳に追加

従来の誤差拡散法をレーザビームプリンタに適用すると、中間濃度域にかけて千鳥格子パターンが発生し、ドット潰れによる濃度変化で、中間調画像の画質低下を生じる。 - 特許庁

A light condensing and/or diffusing optical pattern 33 and two-dimensionally and independently disposed static charge and deformation preventing projecting parts 32 are provided at a light emission surface 31a side of the optical sheet 1.例文帳に追加

光学シート１の射出面３１a側に、集光及び／または拡散させる光学パターン３３と、二次元的に独立して配置された帯電・変形防止凸部３２とが設けられている。 - 特許庁

To provide a strain measuring device and a strain measuring method capable of improving the measuring accuracy and reducing an information processing amount while taking account of deformation of a prescribed feature pattern.例文帳に追加

本発明は、所定の特徴パターンの変形を考慮しつつ測定精度の向上と情報処理量の低減とを図ることができるひずみ測定装置およびひずみ測定方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a garment causing no deformation in printed pattern or getting mottled in color, and to provide a form-knitted garment.例文帳に追加

本発明は、着用した状態において、プリントした絵柄が変形したり、色彩が斑になったりすることのない衣類の製造方法及び成型編みされた衣類を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a decoration method of a resin molded article which can execute a pattern having concavo-convex having a suitable depth on the front surface of the resin molded article while the entire deformation of the resin molded article is suppressed.例文帳に追加

樹脂成形品の全体的な変形を抑えながら樹脂成形品の表面に適当な深さの凹凸を持つ柄を施すことができる樹脂成形品の加飾方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a soft mold and an apparatus of manufacturing the soft mold, in which the soft mold can be made extremely thin without causing the deformation of the soft mold in manufacturing the soft mold for forming a pattern.例文帳に追加

パターンを形成するためのソフトモールド形成の際、ソフトモールドの変形が発生せず、また、非常に薄い厚さでも形成できるソフトモールドの形成方法及びソフトモールドの形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a printing device which measures the amount of extension after printing by output of a prepared test pattern, and performs printing positions and a deformation process for each printing object such as letters, graphics and images.例文帳に追加

用意されたテストパターンによる出力により印刷後の伸び量を測定し、文字、図形、イメージといった印刷オブジェクト毎に印字位置や変形の処理を行うことが可能な印刷装置を提供する。 - 特許庁

The information is used in the downstream exposure apparatus 18 for a preliminary deformation process of an exposure pattern and for measuring the substrate so as to reduce a process time in the downstream exposure apparatus 18.例文帳に追加

下流側露光装置１８で、この情報を、予め行う露光パターンの変形処理、および、基板計測に使用することにより、下流側露光装置１８での処理時間を短縮する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a wiring board in which delamination is suppressed and deformation of a wiring pattern including a hot-melt composition due to melting is suppressed, and to provide the wiring board.例文帳に追加

デラミネーションが発生するのを抑制するとともに、ホットメルト組成物を含む配線パターンが溶融によって変形するのを抑制する配線基板の製造方法および配線基板を提供する。 - 特許庁

To provide a conductive paste which can form an excellent circuit pattern and does not cause a warp and a deformation in a board by controlling an Ag diffusion into a glass composition of a green sheet during calcination.例文帳に追加

焼成時におけるグリーンシートのガラス成分中へのＡｇ拡散を抑制することで、良好な回路パターンを形成し得ると共に基板に反りや変形をもたらさない導体ペーストを提供する。 - 特許庁