「dry processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a substrate processing device comprising a plurality of wet-type processing units and dry-type processing units in multi stages for good maintainability.例文帳に追加

複数の湿式処理ユニットと乾式処理ユニットとを有する基板処理装置を多段に構成し、且つメンテナンス性を確保する。 - 特許庁

Dry processing is then performed upon the first substrate 1 in which the resist pattern 24 is formed.例文帳に追加

次に、レジストパターン２４が形成された第１基板１を乾燥処理する。 - 特許庁

A dry air supply duct 62 and a dry air exhaust duct 63 are arranged opposite to each other on both sides of a processing tub 4.例文帳に追加

ドライエア供給ダクト６２およびドライエア排気ダクト６３は、処理槽４を挟んで対向するように設けられている。 - 特許庁

To provide a dry etching device and a dry etching method capable of improving a processing accuracy of a concave part formed on the surface of a substrate.例文帳に追加

基板表面に形成する凹部の加工精度を向上させたドライエッチング装置及びドライエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a thinning processing method for dry film resist capable of uniformly thinning the dry film resist.例文帳に追加

本発明は、ドライフィルムレジストを均一に薄膜化することが可能なドライレジストの薄膜化処理方法を提供するものである。 - 特許庁

To provide a method for producing a dry pasta, by which the non- sticky, non-eluting dry pasta having an excellent texture and excellent processing durability can be obtained.例文帳に追加

べたつきや溶け出しがなく、食感や加工耐性に優れた乾燥パスタ類を得ることができる方法の提供。 - 特許庁

To provide a thin film processing method for a dry film resit capable of making the dry film resist uniformly thinned.例文帳に追加

本発明は、ドライフィルムレジストを均一に薄膜化することが可能なドライレジストの薄膜化処理方法を提供するものである。 - 特許庁

The vertically-moving robots 2a, 51, and 52 fronsfer a substrate between the wet-type processing unit and the dry-type processing unit.例文帳に追加

上下動ロボット２ａ，５１，５２は、湿式処理ユニットと乾式処理ユニットとの間で基板の移載を行う。 - 特許庁

This dry processing drill 10 with a diamond coating film forms the diamond coating film 17 in a processing blade part 16.例文帳に追加

加工刃部１６にダイヤモンド皮膜１７が形成されたダイヤモンド皮膜付のドライ加工用ドリル１０である。 - 特許庁

To provide a method for mixing short fibers with a group of feathers by dry processing.例文帳に追加

乾式加工により短繊維及びフェザー群を混合する方法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR ELEMENT, METHOD FOR PROCESSING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND DRY ETCHING APPARATUS例文帳に追加

半導体素子の製造方法、半導体基板の加工方法及びドライエッチング装置 - 特許庁

To provide a device for dry film resist thinning capable of adjusting thickness of a thinned dry film resist without drastically changing a processing speed.例文帳に追加

処理速度を大きく変えることなく薄膜化後の厚みが調整可能なドライフィルムレジストの薄膜化処理装置を提供する。 - 特許庁

A dry air supply device 30, for supplying dry air in which moisture and organic matters are removed, is connected to a processing space 20.例文帳に追加

処理空間２０に水分及び有機物を除去した乾燥空気を供給する乾燥空気供給装置３０を接続する。 - 特許庁

The dry air introduced into the processing container 2 is exhausted from an exhaust line 11.例文帳に追加

処理容器２内に導入された乾燥空気は排気ライン１１から排気される。 - 特許庁

Since very small space is set to be dry processing atmosphere compared to conventional technology where a whole inner part of a chamber 11 is set to be dry processing atmosphere, space can speedily be set to the dry processing atmosphere, and utility of isopropyl alcohol can be improved.例文帳に追加

よって、チャンバ１１の内部全体を乾燥処理雰囲気とする従来技術に比較して極めて小さな空間を乾燥処理雰囲気とするだけでよいので、空間を迅速に乾燥処理雰囲気とすることができ、イソプロピルアルコールの使用効率を高くできる。 - 特許庁

A discharge pipe 140 is provided inside a processing chamber 20 and discharges dry gas.例文帳に追加

吐出管１４０は、処理チャンバ２０内に設けられており、乾燥ガスを吐出する。 - 特許庁

A reduced pressure drying device 14 is provided with a conveying part 140 and a dry processing part 150.例文帳に追加

減圧乾燥装置１４に、搬送部１４０と乾燥処理部１５０とを設ける。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR DRY TYPE AMMONIA DECOMPOSITION PROCESSING, AND POWER GENERATION EQUIPMENT例文帳に追加

乾式アンモニア分解処理方法及び乾式アンモニア分解処理装置及び発電設備 - 特許庁

To improve processing capacity by shortening a time for one batch by continuously performing dry distillation processing without explosively burning a combustible gas generated from a dry-distilled material.例文帳に追加

被乾留物より発生した可燃性ガスを爆発燃焼させることなく乾留処理を連続的に行い、１バッチにかかる時間を短縮して処理能力を向上させる。 - 特許庁

The semi-dry processing device is equipped with a means to supply oil mist optimized for each processing tool so that it is allowed to exert its full performance, and thereby the processing efficiency, quality, and tool lifetime of the semi-dry processing device are enhanced.例文帳に追加

本発明のセミドライ加工装置では、各加工工具に最適化したオイルミストを供給する手段を設けることにより各工具の性能を充分に発揮させセミドライ加工装置の加工能率、加工品質、工具寿命の向上を達成する。 - 特許庁

To precisely calculate an etching speed during dry etching processing, to determine whether the processing is normal/abnormal, and to improve the yield of the processing.例文帳に追加

ドライエッチング処理中に精度よくエッチング速度を算出可能であると共に、処理の正常・異常の判定が可能で、処理の歩留まりを向上させる。 - 特許庁

The drying means perform dry processing by rotating the substrate to which the gas is supplied.例文帳に追加

乾燥手段は、気体が供給された基板を回転させることによって乾燥処理を行う。 - 特許庁

To provide a new photosensitive material which gives an image having high image quality by easy dry processing.例文帳に追加

簡易なドライ処理により、高画質の画像が得られる、新規な感光材料を提供する。 - 特許庁

The drying processing is carried out by dry overheated steam supplied by a steam supply unit 59.例文帳に追加

乾燥処理は、蒸気供給部５９が供給する乾き過熱蒸気により行われる。 - 特許庁

A control unit 410 determines the end point of the dry etching by taking the result of the arithmetic processing into consideration.例文帳に追加

制御部４１０は、演算処理の結果を考慮して、ドライエッチングの終了点を決定する。 - 特許庁

To cook brown rice after shelling processing of dry unhulled rice, soft to be easily eaten even by an ordinary rice cooker, and to improve utility value of brown rice powder obtained by milling the brown rice after shelling processing of dry unhulled rice.例文帳に追加

乾燥籾の籾摺り処理後の玄米を通常の炊飯器で炊いても柔らかく食べ易くすると共に、乾燥籾の籾摺り処理後の玄米を製粉した玄米粉の利用価値を高める。 - 特許庁

By this configurations, both sides of dry polishing processing and chemical polishing processing with one equipment can be performed by exchanging polishing means for chemical polishing and polishing means for dry type polishing.例文帳に追加

かかる構成により，湿式研磨用の研磨手段と，乾式研磨用の研磨手段とを交換することにより，１つの装置で乾式研磨加工と湿式研磨加工の双方を実行することができる。 - 特許庁

To enhance the processing efficiency, quality, and tool lifetime of a semi-dry processing device.例文帳に追加

本発明の目的は、は上記課題を解決して、セミドライ加工装置の加工能率、加工品質、工具寿命の向上を達成することである。 - 特許庁

The method for aligning processing the alignment film is characterized by aligning processing a liquid crystal alignment film by injecting dry ice thereto.例文帳に追加

本発明の配向膜の配向処理方法は、液晶配向膜に対してドライアイスを噴射し配向処理することを特徴とする。 - 特許庁

A substrate processing apparatus 1 for dry-processing a substrate is furnished with a chamber 2, a vapor feed unit 4, an opening/closing valve 6, and a control unit 7.例文帳に追加

基板を乾燥処理する基板処理装置１に、チャンバ２、蒸気供給部４、開閉バルブ６、および制御部７を設ける。 - 特許庁

The negative plate processing chemical supplying machine for supplying the negative plate processing chemicals, more particularly powdery dry chemicals to a processing liquid preparing means consists of a container and opening/closing means.例文帳に追加

原板処理薬品、特に粉末状の乾燥薬品を処理液調整手段へ供給する原板処理薬品供給機は、コンテナと、開閉手段とからなる。 - 特許庁

In the tenter drier 45, a tenter 130 performs dry processing, extension processing and alleviation processing of the wet film 18 while conveying the wet film 18 to obtain a film 22.例文帳に追加

テンタ乾燥機４５では、テンタ１３０は、湿潤フイルム１８を搬送しがら、湿潤フイルム１８乾燥処理と延伸処理と緩和処理とを施し、フイルム２２を得る。 - 特許庁

To provide a tea processing apparatus and a tea processing method capable of efficiently producing Ten-cha (raw material for powdered ceremonial green tea) having improved flavor, as compared with conventional oven-dry Ten-cha processing method.例文帳に追加

従来のてん茶炉製法以上に香味を引き出した、てん茶（抹茶の原料）を効率よく生産する製茶装置および製茶方法を提供することである。 - 特許庁

This dry etching method is designed to cause a mass spectrometer to detect AlFx, which is a reaction product, one minute after the start of a dry etching process of an Al2O3 film, the processing of which comes after an SiO2 film has been completely dry-etched.例文帳に追加

ＳｉＯ_2 膜がドライエッチングにより完全に堀り抜かれ、Ａ１_2Ｏ_3 膜のドライエッチングが開始されて１分が経過した後に、質量分析計において反応生成物であるＡ１Ｆｘが検出される。 - 特許庁

To provide a dry etching method that has very small lateral roughness and brings about high perpendicular processing accuracy.例文帳に追加

側壁ラフネスが極めて小さく、かつ高い垂直加工精度が得られるドライエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a device for a rotary grindstone that hardly causes clogging in the grindstone even when processing on a dry basis.例文帳に追加

乾式で加工を行っても、砥石に目詰まりが生じにくい回転砥石装置を提供する。 - 特許庁

A first chemical unit 21 has a first chemical processing plate 31, a first rinse unit 22 has a first rinse processing plate 32, a second chemical unit 23 has a second chemical processing plate 33, a second rinse unit 24 has a second rinse processing plate 34, and a dry unit 25 has a dry processing plate 35.例文帳に追加

第１薬液ユニット２１は、第１薬液処理プレート３１を備え、第１リンスユニット２２は第１リンス処理プレート３２を備え、第２薬液ユニット２３は第２薬液処理プレート３３を備え、第２リンスユニット２４は第２リンス処理プレート３４を備え、乾燥ユニット２５は乾燥処理プレート３５を備えている。 - 特許庁

To provide a dry etching processing apparatus and a processing method capable of sharply facilitating the removal of any residue produced by an etching processing, and of making optimum the surface state of a substance to be processed after the etching processing.例文帳に追加

エッチング処理で生じた残渣物の除去が極めて容易に行え、エッチング処理後の被処理物の表面状態を最適にできるドライエッチング処理装置と処理方法を提供する。 - 特許庁

To facilitate handling for dry cleaning when cleaning gas is added with nitrogen monoxide gas to perform dry cleaning in a processing chamber, and enhance cleaning performance with high controllability.例文帳に追加

クリーニングガスに一酸化窒素ガスを添加して処理室内のドライクリーニングを行う際、その取り扱いを容易にし、制御性よくクリーニングの性能を向上させる。 - 特許庁

To provide a dry-processing apparatus for a display panel, which can suppress presence of dry residue in a gap or the like between substrates, and to provide a method for cleaning and drying the display panel.例文帳に追加

基板間の隙間等の乾燥残渣を抑制することができる表示パネルの乾燥処理装置及び表示パネルの洗浄・乾燥方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a dry distillation gasification and incineration processing device that can continuously and efficiently perform the incineration processing of waste and does not malfunction.例文帳に追加

廃棄物の焼却処理を連続して効率よく行うことができ、誤操作の虞のない乾留ガス化焼却処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern processing method capable of improving pattern precision of a dry film by being applied to pattern processing in manufacture of a display panel and a printed board of, for example, a plasma display panel etc., using the dry film.例文帳に追加

ドライフィルムを用いた例えばプラズマディスプレイパネル等の表示パネル、プリント基板の製造におけるパターン加工に適用して、ドライフィルムのパターン精度を向上させることができるパターン加工方法を提案する。 - 特許庁

A preheating temperature setting part 55 sets the preheating temperature being the initial temperature for making the dry part 13 a target dry temperature within a time, until the photosensitive material reaches the dry part 13 after starting image recording processing.例文帳に追加

プレヒート温度設定部５５は、画像記録処理が開始されてから感光材料が乾燥部１３に到達するまでの時間内に、乾燥部１３を目標乾燥温度にするための初期温度であるプレヒート温度を設定する。 - 特許庁

The dry processing part 150 is provided with first and second reduced pressure units 152, 153 and a standby unit 154.例文帳に追加

乾燥処理部１５０には、第１および第２減圧ユニット１５２，１５３、および待機ユニット１５４を設ける。 - 特許庁

To eliminate the need for waste water treatment (or reduce) by enabling a fine powder of a crushed stone to be sufficiently removed in dry processing.例文帳に追加

乾式処理で砕石の微粉を十分に除去可能とし、廃水処理を不要に（又は低減）する。 - 特許庁