「dry processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for manufacturing a dry fermented-soybean food product that is excellent in productivity of the product, achieves an excellent taste of the product, and has excellent processing suitability when performing food processing or cooking processing of the product.例文帳に追加

製品の生産性および呈味に優れ、その製品の食品加工や調理加工の際の加工適性に優れた乾燥納豆食品の製造方法を提供する。 - 特許庁

Moreover, while supplying the dry nitrogen gas to the processing space 162, since a gas discharge of the processing space 162 is suppressed rather than a gas discharge at the time of a wet processing, a humidity of the processing space 162 can be promptly reduced.例文帳に追加

また、処理空間１６２への乾燥窒素ガスの供給とともに処理空間１６２の排気を湿式処理時の排気よりも抑えているので、処理空間１６２の湿度を迅速に低下させることができる。 - 特許庁

Normalization processing is performed from both of these pieces of data (processing part 13), and by comparing the normalized value with a predetermined threshold, the dry/wet state of the road surface is determined.例文帳に追加

この両データから正規化処理して（処理部１３）、正規化値を所定のしきい値と比較することにより、路面の乾湿状態が判定される。 - 特許庁

To provide a substrate processing method and a substrate processing apparatus, which can excellently dry a substrate surface while suppressing the quantity of consumption of an organic solvent.例文帳に追加

有機溶剤の消費量を抑制しつつ、基板表面を良好に乾燥させることができる基板処理方法および装置を提供する。 - 特許庁

When the laminate is dried, processing of heating, pressure-reducing and drying the laminate and processing of supplying dry gas to the laminate are carried out repeatedly a plurality of times.例文帳に追加

積層体を乾燥する際に、積層体を加熱減圧乾燥する処理、及び積層体に乾燥ガスを供給する処理を複数回繰返して行なう。 - 特許庁

To prevent generation of processing defect in a substrate due to an increase of leak flow rate of He gas in a processing device for carrying out dry etching and plasma CVD film deposition.例文帳に追加

ドライエッチングやプラズマＣＶＤ膜堆積する処理装置において、Ｈｅガスのリーク流量増大による基板の処理不良が発生するのを防止する。 - 特許庁

To provide an unwashed rice processing machine capable of removing skin rice bran efficiently and sufficiently while ensuring the original quality of polished rice by dry processing treatment.例文帳に追加

乾式加工処理によって精白米本来の品質を確保しつつ、効率よく十分に肌糠を除去しうる無洗米加工機を提供する。 - 特許庁

When the dry room indoor temperature is higher than the dry room indoor preset temperature (step S20: NO), the purge gas quantity, the main processing inlet temperature, and the rotational frequency are controlled in order (step S100-S140).例文帳に追加

ドライルーム室内温度がドライルーム室内設定温度より高い場合は（ステップＳ２０：ＮＯ）、パージ風量、主処理入口温度、回転数の順で制御する（ステップＳ１００〜Ｓ１４０）。 - 特許庁

The lithium ion secondary battery pack 8 is attachable/detachable to/from the body 1 and replaceable with a dry battery pack capable of housing dry batteries used as a power source of the information processing device.例文帳に追加

リチウムイオン二次電池パック８は本体１に着脱可能であり、しかも、この情報処理装置の電源として利用される乾電池を収容可能な乾電池パックと置換可能である。 - 特許庁

To achieve a dry system for preventing the floor of a kitchen and a marine products processing factory from becoming wet, and at the same time, to reduce the consumption of water used.例文帳に追加

厨房や水産加工場の床を濡らさないドライシステム化を達成すると共に、使用水量を低減する。 - 特許庁

Accordingly, the solvent concentration can be controlled precisely, and uniformity of dry processing of a substrate can be improved.例文帳に追加

したがって、溶剤濃度を正確に制御することができ、基板の乾燥処理の均一性を向上させることができる。 - 特許庁

After that, spinning dry processing is executed, thereby drying the wafer W while suppressing a water mark from occurring.例文帳に追加

その後、スピンドライ処理を実施することにより、ウォーターマークの発生を抑制しつつウエハＷを乾燥させることができる。 - 特許庁

To highly accurately determine the dry/wet state of a road surface at low cost by arithmetically processing an image of a road surface.例文帳に追加

路面画像を演算処理することによって、路面の乾湿状態を低コストで精度よく判定できるようにする。 - 特許庁

To provide a plasma stripping method, having a high selective ratio and a high processing capacity and a dry ashing process.例文帳に追加

高選択比で、高処理能力を有したプラズマストリッピング処理方法および乾式アッシングプロセスを提供すること。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus which can surely dry a substrate after reaction products are removed from the substrate.例文帳に追加

反応生成物を除去する処理後にその基板を確実に乾燥させることができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

It is preferred that the at least sidewalls of the etched semiconductor film are subjected to an oxidation processing, before performing the dry etching.例文帳に追加

ドライエッチングを行う前に、少なくともエッチングされた半導体膜の側壁を酸化処理することが好ましい。 - 特許庁

Thus the brown rice after shelling processing of the dry unhulled rice, can be cooked soft to be easily eaten even by the ordinary rice cooker.例文帳に追加

このため、乾燥籾の籾摺り処理後の玄米を、通常の炊飯器で炊いても、柔らかく食べ易くできる。 - 特許庁

The waste plastic processing system 2 for the electric power generating system 1, degrades waste plastics thermally in a batch type dry distillation still 11.例文帳に追加

発電システム１の廃プラスチック処理システム２は、回分式乾留釜１１において廃プラスチックを加熱分解する。 - 特許庁

Thereafter, a gate electrode formation film 62 is formed by processing the amorphous silicon film by a photolithography method and dry etching.例文帳に追加

次に、フォトリソグラフィ法及びドライエッチングにより、アモルファスシリコン膜を加工してゲート電極形成用膜６２を形成する。 - 特許庁

To provide a dry etching apparatus for shortening the time until start of process of the next processing work after start of process of the first processing work in the process to form a recessed area or a through-hole to the processing work, and also to provide a processing method of a processing work.例文帳に追加

被加工物に凹部又は貫通孔を形成する工程において、第１の被加工物の加工を開始してから次の被加工物の加工を開始するまでの時間を短くする事ができるドライエッチング装置及び被加工物の加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing device and a substrate processing method that use a low-surface-tension solvent such as IPA to dry a substrate surface getting wet with a processing liquid while disposing a blocking member opposite the substrate surface, the substrate processing device and the substrate processing method excellently drying the substrate surface.例文帳に追加

遮断部材を基板表面に対向して配置しながら処理液で濡れた基板表面をＩＰＡ液などの低表面張力溶剤を用いて乾燥させる基板処理装置および基板処理方法において、基板表面を良好に乾燥させる。 - 特許庁

To provide a processing object transfer method realizing a high cycle time in vacuum processing devices such as a sputtering device, a dry etching device, a CVD device and a vapor deposition device.例文帳に追加

スパッタリング装置、ドライエッチング装置、ＣＶＤ装置、蒸着装置等の真空処理装置の高速タクトの実現を可能とする処理対象物搬送方法を提供する。 - 特許庁

To provide a processing method and a processing apparatus that perform processes from removal of a damage layer of a substrate formed during slicing to texture formation step together in a lump through dry etching.例文帳に追加

スライス時に生じる基板のダメージ層の除去からテクスチャー形成工程を一括してドライエッチングにより処理する処理方法及び処理装置を提供する。 - 特許庁

A space WU immediately above a processing tank 4 is enclosed with a lower surface of an upper lid part 71, first to fourth shielding side boards 72a to 72d of a tube part 72, a dry air supply opening 621 of a dry air supply duct 62 and an exhaust opening 631 of a dry air exhaust duct 63.例文帳に追加

処理槽４の直上の空間ＷＵが、上蓋部７１の下面、筒部７２の第１〜第４の遮断側板７２ａ〜７２ｄ、ドライエア供給ダクト６２のドライエア供給口６２１およびドライエア排気ダクト６３の排気口６３１により取り囲まれる。 - 特許庁

To provide a dry etching device, a dry etching method and a plasma controller such that etching processing can be performed in an optimum plasma state wherein etching damage to an etching mask as well as a material to be etched is taken into consideration.例文帳に追加

被エッチング材料に加えてエッチングマスクのエッチングダメージを考慮した最適なプラズマ状態でエッチング処理ができるドライエッチング装置、ドライエッチング方法およびプラズマ制御装置を提供する。 - 特許庁

To reduce the labor hour and the cost necessary for maintaining and managing incineration facilities by performing the processing for preventing the scattering of dust in a dry method.例文帳に追加

粉塵の飛散防止処置を乾式の方法で行ない、焼却施設の維持管理に要する手間や経費を軽減する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus that controls inadequate substrate drying caused by supplying drying gas such as dry air to the substrate.例文帳に追加

ドライエア等の乾燥用気体の基板への供給による基板の乾燥不良を抑制できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

Then, the metal wiring is exposed to an inert gas plasma in the same processing apparatus in which a vacuum state in this dry etching step is maintained.例文帳に追加

次に、このドライエッチング工程における真空の状態が維持される同一処理装置内で、不活性ガスプラズマに晒す。 - 特許庁

The TAC film 3 sent out of the tenter part 5 is sent to a dew condensation prevention processing chamber 120 which is full of dry air.例文帳に追加

テンタ部５から送り出されたＴＡＣフィルム３は、乾燥空気が充満する結露防止処理室１２０へ送られる。 - 特許庁

To provide a method for restarting a dry distillation, gasification and incineration processing device without trouble in abnormal stop during automatic operation thereof.例文帳に追加

乾留ガス化焼却処理装置の自動運転中の異常停止時に支障なく再始動する方法を提供する。 - 特許庁

The outer peripheral surface of the crosslinked polyolefin pipe is subjected to surface modification by dry processing.例文帳に追加

上記架橋ポリオレフィンパイプの外周面に、更にドライ処理による表面改質が施されていることを特徴とするパイプ。 - 特許庁

Then processing the switching active element protection film by dry etching using patterned etching resist 10 forms a contact part 6.例文帳に追加

その後、パターニングされたエッチングレジスト１０を用いてスイッチング能動素子保護膜７をドライエッチングしコンタクト部位６を形成する。 - 特許庁

At that time, an oxide film on the semiconductor layer formed with an oxygen plasma processing is subjected to plasma dry etching with etching gas.例文帳に追加

その際、酸素プラズマ処理によって形成される半導体層上の酸化膜をエッチングガスによってプラズマドライエッチングする。 - 特許庁

To provide a load lock and dry vacuum pump assembly for performing low pressure exhaustion of a load lock chamber at low cost without depending on batch processing.例文帳に追加

バッチ処理によらないで、ロードロック室内を低コストで低圧排気するロードロックとドライ真空ポンプの組立体の提供。 - 特許庁

To provide a substrate processing device and a substrate processing method that use a low-surface-tension solvent such as IPA to dry a substrate surface getting wet with a processing liquid, the substrate processing device and the substrate processing method preventing trouble such as the occurrence of a watermark on the substrate and destruction of a pattern on the substrate surface.例文帳に追加

処理液で濡れた基板表面をＩＰＡなどの低表面張力溶剤を用いて乾燥させる基板処理装置および基板処理方法において、基板表面にウォーターマークが発生したり、基板表面上のパターンが倒壊するなどの不具合を防止する。 - 特許庁

Since the SC1 processing and spin-dry processing are executed in an environment with a temperature lower than that in the SPM processing, the deformation of the substrate upper part holding section 3 can be prevented even if the wafer W is firmly held by the substrate upper part holding section 3.例文帳に追加

ＳＣ１処理およびスピンドライは、ＳＰＭ処理時よりも低温な環境下で実行されるので、基板上保持部３によってウエハＷを強固に保持しても、基板上保持部３の変形を生じない。 - 特許庁

To provide a lubricant for dry wire drawing having a high softening point and an excellent processibility for heavy-loaded processing such as processing of hard-to-process materials, high-speed processing, etc., productivity and economical property, and its preparation process.例文帳に追加

難加工材、高速加工等、負荷の大きい加工等の加工性、生産性、経済性に優れた性能を有する軟化温度の高い乾式伸線用潤滑剤およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide single wafer substrate processing equipment and a method for achieving high efficiency drying when a substrate is processed by single wafer processing while preventing condensation of organic solvent used in dry processing.例文帳に追加

枚葉式で基板を乾燥させる際、乾燥処理に用いる有機溶剤の蒸気の結露を防止しながら高効率な乾燥を実現する枚葉式の基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

After performing dry etching of a substrate which is electrostatically attracted onto a stage in a processing chamber, He gas is supplied as a neutralization gas into the processing chamber and plasmatized thus performing neutralization processing for reducing a residual electrostatic attraction force generated in a substrate by performing dry etching.例文帳に追加

処理室内のステージ上に静電吸着された基板に対してドライエッチング処理を実施した後、Ｈｅガスを除電用ガスとして処理室内に供給するとともに、Ｈｅガスをプラズマ化することで、ドライエッチング処理の実施により基板に生じた残留静電吸着力を減少させる除電処理を行う。 - 特許庁

Further the aligning processing method is characterized by containing an aligning processing chamber 4 in which a liquid crystal substrate 5 having the alignment film is arranged and a dry ice injecting mechanism for injecting snow-shaped dry ice 12 together with an accelerating gas 13 from a nozzle 6 provided toward the liquid crystal substrate arranged in the aligning processing chamber.例文帳に追加

また本発明の配向処理方法は、配向膜を有する液晶基板５を配置する配向処理室４と、該配向処理室に配置された該液晶基板に向けて設けられたノズル６から加速用ガス１３とともにスノー状ドライアイス１２を噴射するドライアイス噴射機構とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

A dry nitrogen gas is simultaneously supplied to a processing space 162 by two lines, that is (1) a line supplying the dry nitrogen gas from a front surface perimeter portion of a substrate W, and (2) a line supplying the dry nitrogen gas from a front surface center portion of the substrate W, and consequently a humidity of the processing space 162 can be uniformly reduced.例文帳に追加

処理空間１６２への乾燥窒素ガスの供給が２系統、つまり（１）基板Ｗの表面外周部から乾燥窒素ガスを供給する系統と、（２）基板Ｗの表面中心部から乾燥窒素ガスを供給する系統で同時に行われて処理空間１６２の湿度を均一に低下させることができる。 - 特許庁

To provide a method for easily and simply producing a tasty salted dried fish, having no need of using a saline solution or preparing a processing tank charged with the saline solution, and unnecessary for carrying out any forcible drying process such as sun dry, hot-air dry or cool-air dry.例文帳に追加

食塩水あるいはそれを収容した処理槽を使用する必要がなく、天日乾燥、熱風乾燥、冷風乾燥等の強制的な乾燥処理を実施しなくても済み、しかも美味である塩干物を容易かつ簡単に製造できる方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a dry processing device which is small in storage of charge and at the same time fast in reaction speed, and is suitable for etching and ashing treatment, or the like.例文帳に追加

電荷の蓄積が少なくかつ反応速度が速い、エッチング処理やアッシング処理等に適したドライプロセッシング装置を提供する。 - 特許庁

The dry processing part 6 is switched between the state of being communicated with outside air and the state of being shut off from outside air by a control part 65.例文帳に追加

乾燥処理部６は制御部６５によって外気と連通する状態と、外気と遮断した状態とに切り換えられる。 - 特許庁

For the chemical processing, two types which are a wet and a dry type are available and the glass substrate 4 is washed and directionally dried with an air knife by the wet type.例文帳に追加

化学処理は、湿式と乾式の２方式があり、湿式はガラス基板４を洗浄し、エアナイフで方向性をつけて乾かす。 - 特許庁