「dry processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

To perform high-precision processing by suppressing pitting or striation due to resist damage when the pattern is formed by a dry etching method using a resist film of the post ArF lithography generation or the subsequent as a mask.例文帳に追加

ＡｒＦリソグラフィー世代以降のレジストをマスクとしたドライエッチングによるパターン形成においてレジストダメージに起因するレジスト突き抜け及びストライエーションを抑制した高精度加工を行う。 - 特許庁

By using decompression, a coolant and a dry atmosphere and by complementing mutual demerits, only water is separated from an object containing moisture, and disposed as water, and the temperature of a processing object itself is not raised beyond necessity.例文帳に追加

減圧、冷媒、乾燥雰囲気を用いお互いのデメリットを補完することで、水分を含んだ物体から水のみを分離し水として廃棄、処理物自身の温度も必要以上に上げない。 - 特許庁

In a reproduction environment 11, a sound signal S is outputted from a dry sound output speaker 9 arranged in a position corresponding to a sound image position without performing arithmetic processing based on the transfer function.例文帳に追加

再現環境１１において、音像位置に対応する位置に配置したドライ音出力スピーカ９から、伝達関数に基づく演算処理を施さずに音声信号Ｓを出力する。 - 特許庁

To miniaturize a whole road surface condition estimating device 11 for a vehicle having cameras 2R and 2L for imaging the travel road surface of the vehicle, and to speed up the dry/wet determining processing thereof.例文帳に追加

車両の走行路面を撮像するカメラ２Ｒ，２Ｌを備えた車両用路面状態推定装置１において、装置１１全体の小型化を図りつつその乾湿判定処理の迅速化を図る。 - 特許庁

To provide a low-pressure/high-density plasma processing device wherein, related to dry cleaning of a position film, the local deviation in the thickness of a derivative plate is prevented for stable production processes.例文帳に追加

ポジション膜のドライクリーニングにおいて誘導体プレートの厚みに局所的な偏りが生じることを防止し、安定した生産工程を実現させるための低圧・高密度プラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a dry etching device which can uniformly process even a large-sized substrate by eliminating a difference in etching speed generated between a center region and a peripheral region in a vacuum processing chamber.例文帳に追加

真空処理チャンバ内の中央領域と周辺領域とにおいて生じ得るエッチング速度の差をなくして、大型の基板でも均一に処理できるようにしたドライエッチング装置を提供する。 - 特許庁

With heated nitrogen gas introduced into dry pump 13, the internal temperature can increase to about 100°C during a cleaning period, while the internal temperature is as low as about 80°C during a processing period.例文帳に追加

加熱された窒素ガスがドライポンプ１３内に導入されたことで、プロセス処理期間中は内部温度が８０℃程度に低く、一方、クリーニング期間中は内部温度を１００℃程度にまで上昇できる。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition having high storage stability even at high temperature, with respect to a photosensitive composition useful as a dry film resist for processing a printed wiring board, a photosensitive lithographic printing plate or the like.例文帳に追加

プリント配線基板加工用ドライフィルムレジスト、感光性平版印刷版等として有用な感光性組成物に関して、高温下においても保存安定性の高い感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

To obtain a conjugate fiber having sufficiently large difference in a crimp percent between in a dry state and a moisture absorption state, hardly causing separation of a polyamide component from a polyester component in a post-processing such as dyeing, etc.例文帳に追加

乾燥状態と吸湿状態における捲縮率の差が十分に大きく、染色等の後工程においてポリアミド成分とポリエステル成分との剥離が生じ難い複合繊維を提供する。 - 特許庁

To provide food baking equipment which bakes food to less dry good tastes while avoiding the problem of high costs and low processing efficiency, the problems associated with heating steam type baking equipment.例文帳に追加

加熱蒸気式の焼成装置の問題であった高コストおよび処理効率の低さの問題を回避しつつ、食材を乾燥が少ない良好な食味に焼成する食材の焼成装置を提供する。 - 特許庁

The system and method is adapted to recover water from humid air for reuse in the processor, as well as convert a liquid waste processing solution into a dry waste for disposal.例文帳に追加

この感光材処理システム及び方法は、液状の廃棄処理溶液を、廃棄可能な固形状の廃棄物に変えると同様に、湿気を帯びた空気から水を回収し、感光材処理器内で再利用する。 - 特許庁

To provide a long-term, stable and efficient methane fermentation process by preventing the inhibition of a methane fermentation caused by ammonia, or the like, when a dry methane fermentation processing is performed on an organic waste in a methane fermentation tank.例文帳に追加

有機性廃棄物をメタン発酵槽内で乾式メタン発酵処理するに当たり、アンモニア等によるメタン発酵阻害を防止して、長期に亘り、安定かつ効率的なメタン発酵を行う。 - 特許庁

The dry type processing part 20 has a plasma supply unit 200 and a moving unit for supplying plasma to the top surface of the substrate, and the moving unit changes a relative position of the plasma supply unit 200 and the substrate.例文帳に追加

乾式処理部２０は、基板上面にプラズマを供給するプラズマ供給ユニット２００と移動ユニットを有し、移動ユニットは、プラズマ供給ユニット２００と基板の相対的な位置を変化させる。 - 特許庁

The substrate processing apparatus includes a polishing section 3 configured to polish a substrate W, transfer mechanisms 5 and 6 configured to transfer the substrate W, and a cleaning section 4 configured to clean and dry the polished substrate W.例文帳に追加

本発明の基板処理装置は、基板Ｗを研磨する研磨部３と、基板Ｗを搬送する搬送機構５，６と、研磨された基板Ｗを洗浄し乾燥する洗浄部４とを備えている。 - 特許庁

This fiber structure is characterized by composing at least ≥40 wt.% of a fabric of polylactic acid fibers and subjecting the fabric to three-dimensional molding processing after producing the fabric at 150-180°C dry heating temperature.例文帳に追加

布帛の少なくとも４０重量％以上がポリ乳酸繊維で構成され、布帛を製布後に乾熱温度１５０〜１８０℃で立体成型加工されていることを特徴とする繊維構造物。 - 特許庁

In the manufacturing method of the crystal oscillator which forms a coating film consisting of photopolymer on the quartz plate, forms a desired shape by exposing resin with exposed light by using a mask and performs batch dry etching processing of the quartz plate by using the resin shape, transmissivity of the exposed light transmitted the mask is controlled and the batch dry etching processing of the quartz plate is performed.例文帳に追加

水晶板上に感光性樹脂からなる被膜を形成し、マスクをもちいて露光光により前記樹脂を感光させることによって、所望の形状を形成し、前記樹脂形状を用いて水晶板を一括ドライエッチング加工する水晶振動子の製造方法であって、前記マスクを透過した露光光の透過率が制御されかつ水晶板を一括ドライエッチング加工することを特徴とする。 - 特許庁

To perform favorable various processing without generating large amount of elongation even though a general tension of 3-10 kg/overall width is applied when a gravure printing various vapor deposition and various coating dry laminate processing is applied to the film having large amount of elongation such as a PE film or the like.例文帳に追加

ＰＥフィルム等の伸びが大きいフィルムをグラビア印刷各種蒸着、各種コーティングドライラミネートの加工をする際、一般的な張力である３〜１０ｋｇ／全巾を掛けたとしても、大きな伸びが発生することなく、良好な各種加工を行うことが出来るようにする。 - 特許庁

To provide satisfactorily dry a substrate surface while preventing the generation of fall of a pattern formed on the substrate surface in a substrate processing apparatus and a substrate processing method for drying the substrate surface wetted with a liquid using steam of an organic solvent such as IPA (isopropyl alcohol).例文帳に追加

ＩＰＡなどの有機溶剤の蒸気を用いて液体で濡れた基板表面を乾燥させる基板処理装置および基板処理方法において、基板表面に形成されたパターンの倒壊が発生するのを防止しながら、基板表面を良好に乾燥させる。 - 特許庁

The substrate 5 is processed with the drug solution by supplying a drug solution 6 deteriorated in performance owing to moisture absorption onto the substrate 5 from a supply nozzle 3 penetrating the side wall of the processing container 2 while rotating the substrate 5 utilizing a rotating stage 7 after producing the flow of the dry air in the processing container 2.例文帳に追加

処理容器２に乾燥空気の流れを発生させた後、回転ステージ７により基板５を回転させながら、処理容器２側壁を貫通する供給ノズル３から基板５上に吸湿により性能が劣化する薬液６を供給することにより、基板５の薬液処理を行う。 - 特許庁

The processing treatment of the production process is carried out, from the non-pressurized pretreatment over enzymatic hydrolysis and fermentation to sorting of fermentable and non-fermentable solids, at a relatively high dry matter content in a single vessel or a similar device using free fall mixing for the mechanical processing of the waste fractions.例文帳に追加

酵素加水分解および発酵にわたる非加圧−前処理から、発酵可能および非−発酵可能な固形物の分類まで、単一の容器または廃棄物画分の機械的加工処理に自由落下混合を用いる同様のデバイスで、比較的高い乾物含量で加工処理する。 - 特許庁

To provide an economical method for processing polished rice by dry system in contrast to processing wash-free rice by wet system, using a simple device, causing no quality deterioration and preventing getting cloudy.例文帳に追加

研磨処理あるいは未研磨処理の精白米に、でんぷん、あるいはでんぷんを含む穀物、芋類等をアルファ−化したのち低温処理をおこない、構成するでんぷんを老化変性させたものからなる研磨材を混合撹拌し、その表面にアルファ−化した皮膜を形成する精白米の加工方法。 - 特許庁

To solve the problem, dry etching using mixed gas with the combination containing gas with chloride gas and nitrogen as etching gas and that not containing hydrogen oxygen is performed, and then nitride film passivation processing is performed after direct surface processing or that with a nitrogen gas plasma.例文帳に追加

上記課題を解決するため，エッチングガスとして塩素系ガスと窒素を含有するガスで且つ水素および酸素を含有しない組み合わせの混合ガスを用いたドライエッチングを行い，直接もしくは窒素ガスプラズマによる表面処理後，窒化膜パッシベーション処理を行う。 - 特許庁

To provide a flame retarder that allows a polyester-based synthetic fiber to obtain excellent flame retardancy-retaining durability by after-processing using a halogen atom-free compound without occurrence of chalk mark even after washing or dry cleaning, particularly permits the after-processing for cationic dye-dyeable polyester fiber.例文帳に追加

チョークマーク発生することなく、ハロゲン原子を含まない化合物を用いて後加工で、洗濯後またはドライクリーニング後でも耐久性のある優れた難燃性を付与するポリエステル系合成繊維、特にカチオン染料可染性ポリエステル繊維用の後加工できる難燃性付与剤を提供する。 - 特許庁

The method for processing the marine food is to remove internal organs of a raw marine material, process by opening and washing the same with saline, dry the same under a reduced pressure, subsequently treat the same by heat under pressure in a non-sealed packed state, ripen the same in a chilled state and freeze the same.例文帳に追加

水産原料を内臓除去、開き加工、塩水洗浄を行なった後、減圧乾燥し、その後、非密閉包袈状態で加圧加熱処理し、チルド状態で熟成させ、その後、凍結処理する。 - 特許庁

The processing unit is a wet etching unit 14 using a chemical liquid capable of dissolving the native oxide of the metal or a dry etching unit 206 using a gas capable of reducing or etching the native oxide of the metal.例文帳に追加

処理ユニットは、金属の自然酸化膜を溶解可能な薬液を用いたウェットエッチングユニット１４、あるいは、金属の自然酸化膜を還元可能またはエッチング可能なガスを用いたドライエッチングユニット２０６とする。 - 特許庁

In the treatment method of an amorphous carbon film which is formed on a substrate and has been treated with wet washing after dry etching, the surface of the amorphous carbon film is treated with reforming processing before forming an upper layer thereon after the wet washing.例文帳に追加

基板上に成膜され、ドライエッチング後にウエット洗浄処理が施されたアモルファスカーボン膜の処理方法であって、ウエット洗浄処理後、上層の形成前に、アモルファスカーボン膜の表面改質処理を行う。 - 特許庁

To provide a processing method which can easily remove the leftovers occurring at dry etching of an insulating film within a contact hole and also can etch an aluminum film to form an electrode, in a process of manufacturing a liquid crystal panel.例文帳に追加

液晶パネルを製造する工程で、コンタクトホ−ル内の絶縁膜のドライエッチング時に発生した残渣物を容易に除去でき、同時に、電極を形成するアルミニウム膜のエッチングも出来る処理方法を提供する。 - 特許庁

The masking layer can be obtained by conducting a conditioning process for more than five hours under a processing condition of the temperature being 30°C or more and the relative humidity being 90% or more after having pasted the dry film resist as a patterning mask.例文帳に追加

このようなマスク層は、ドライフィルムレジストをパターニングマスクとして貼りつけた後、温度が３０℃以上、相対湿度が９０％以上の処理条件で５時間以上コンディショニング処理を行なうことで得られる。 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer treating method and a semiconductor wafer drying device, satisfactorily processing a semiconductor wafer in a short period of time in a dry process after cleaning with water and organic solvent.例文帳に追加

水洗および有機溶剤による洗浄の後の乾燥において、半導体ウエハを短時間で良好に処理可能な優れた半導体ウエハ処理方法および半導体ウエハ乾燥装置を提供すること。 - 特許庁

To suppress increase of dispersion of a TFT characteristic in forming a top contact type TFT using dry etching for processing of a source-drain electrode, degradation of a yield, and reduction in a TFT on-current.例文帳に追加

ソース・ドレイン電極の加工にドライエッチングを用いてトップコンタクト型ＴＦＴを形成する際のＴＦＴ特性バラツキの増大、歩留まりの低下、さらにはＴＦＴオン電流の低減を抑制することにある。 - 特許庁

When at least a pad opening in response to the metal wiring is formed on the protective film, a processing step including a dry etching step is conducted with fluorine gas and is finished before the metal wiring is exposed (S2).例文帳に追加

次に、保護膜上に対し少なくとも上記金属配線に応じたパッド開口部を形成する際、フッ素系のガスによるドライエッチング工程を含む加工工程を経るが、金属配線露出前に終了させる（Ｓ２）。 - 特許庁

The wallpaper is produced by coating a processing liquid obtained by mixing the hydrophilic stainproof chemical and the dry soil-preventing chemical on a surface layer in a wallpaper obtained by laminating the surface layer on a base material layer, and drying the coated product.例文帳に追加

基材層に表面層を積層した壁紙において、前記表面層上に、親水性防汚薬剤と、ドライソイル防汚薬剤とを混合した加工液を塗布し、乾燥したことを特徴とする壁紙。 - 特許庁

A metal plate, which is generally used as a roofing material, inexpensive and has high durability, is applied to linear unevenness processing by a bending machine and used as a substrate material for the dry external facing execution.例文帳に追加

一般には屋根材として使用される安価で高耐久性能を有する金属板に、折曲加工機によって線状の凹凸加工を施し、これを乾式外装施工用の下地材として使用する。 - 特許庁

The dry-processing apparatus of the display panel dries a wire group 27 of the liquid crystal panel 100 configured by superposing a first substrate 10 and a second substrate 20 on each other across a seal material 30.例文帳に追加

本発明にかかる表示パネルの乾燥処理装置は、第１基板１０と第２基板２０とをシール材３０を介在させて重ね合わせた液晶表示パネル１００の配線群２７を乾燥させるものである。 - 特許庁

To efficiently perform heat exchange processing of an enclosed object which is sealed in a bag with a surface of the bag kept dry while the bags formed successively in a strip form are being carried.例文帳に追加

袋体の表面をドライな状態に保って袋体に封入された被封入物の熱交換処理を帯状をなすように連続して形成された袋体の搬送を行いながら効率的になし得るようにする。 - 特許庁

To provide a drying processing device 11 that can comparatively efficiently dry and process a material to be dried such as food waste which is plasma-reduction processed in a comparatively short time at a comparatively large amount.例文帳に追加

プラズマ還元処理済みの食品廃棄物などの乾燥対象物質を比較的短時間のうちに比較的大量にかつ比較的効率良く乾燥処理することができる乾燥処理装置１１を提供する。 - 特許庁

Then parts existing on an upper surfaces 13A of the resist film 13 and on the main surfaces 11A of the substrate 11 in the film 12 to be patterned are removed by means of a dry etching processing, and thus the upper surfaces 13A of the resist film 13 is exposed.例文帳に追加

そして、被パターニング膜１２の、レジスト膜１３の上面１３Ａと基体１１の主面１１Ａ上に存在する部分をドライエッチング処理によって除去し、レジスト膜１３の上面１３Ａを露出させる。 - 特許庁

To provide an image recorder capable of recording an image having high sharpness even when interpolation expansion processing is performed to output an image that is unmagnified with the affected part read by a diagnostic image generating device in a dry printer.例文帳に追加

ドライプリンタにおいて、診断画像生成装置によって読み取られた患部と等倍の画像を出力するために補間拡大処理を行っても、鮮鋭度の高い画像を記録できる画像記録装置を提供する。 - 特許庁

To prevent a substrate from spring up from a stage due to a pressure of a cooling gas supplied to an area between the substrate and the stage and causing the position aberration when abnormality occurs during dry etching processing.例文帳に追加

ドライエッチング処理の実施中に異常が発生した場合に、基板とステージとの間に供給される冷却用ガスの圧力に起因して基板がステージ上より跳ね上がって位置ズレが生じることを防止する。 - 特許庁

To provide a laminated steel sheet for coating/printing capable of preventing the occurrence of trouble such as transfer failure or the like in a coating/printing process after dry baking and a processing process thereafter caused heretofore by the warpage brought about at the time of dry baking of the laminated steel sheet wherein a thermoplastic resin film comprising polyethylene terephthalate is formed on one side of a steel sheet.例文帳に追加

鋼板の片面にポリエチレンテレフタレートからなる熱可塑性樹脂膜を形成したラミネート鋼板の空焼き時に発生する反りによって生じていた、空焼き後の塗装印刷工程およびその後の加工工程における搬送不良等のトラブルの発生を防止することができる塗装印刷用ラミネート鋼板を提供する。 - 特許庁

To provide a dry treatment device capable of surely drying moisture invaded between lines formed on a substrate, inside of a hole and a resist film after shaking off dionized water adhered to the substrate by turning the substrate whose washing treatment is finished, and to provide a substrate processing device equipped with the dry treatment device.例文帳に追加

洗浄処理が終了した基板を回転させることによって基板に付着した純水を振切った後において、基板上に形成されたライン間、ホール内部およびレジスト膜の内部に進入した水分を確実に乾燥することができる乾燥処理装置、および当該乾燥処理装置を備える基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of electrolytically processing lead, by which high purity lead is recovered even for a high Bi grade anode for electrolysis obtained by treating dust, in the recovery of Pb in the dry dust produced from nonferrous refining, a melting furnace for recycle raw material such as electronic components or a dry furnace for melt-treating industrial waste.例文帳に追加

非鉄製錬、電子部品などリサイクル原料の溶融炉、産業廃棄物を溶融処理する乾式炉より発生する乾式煙灰中のＰｂの回収において、煙灰を処理して得られた電解処理用の高Ｂｉ品位のアノードに対しても高純度の鉛を回収することができる鉛の電解方法を提供する。 - 特許庁

In a method for producing a semiconductor integrated circuit device, when a plurality of semiconductor integrated circuit devices, in which a circuit pattern having a linear pattern is provided and at least a part of production process is common, is produced, dry etching is performed to a film for processing with controlling dry etching conditions depending on circumferential length per unit area of the linear pattern in each of the semiconductor integrated circuit devices.例文帳に追加

ライン状パターンを有する回路パターンを備えており、製造工程の少なくとも一部が共通する複数の半導体集積回路装置を製造する際に、各半導体集積回路装置におけるライン状パターンの単位面積当たりの周縁長に応じてドライエッチング条件を調整しながら被加工膜に対してドライエッチングを行なう。 - 特許庁

The method for producing the particulate acellular tissue matrix by processing an acellular tissue matrix includes cutting a dry acellular tissue matrix into strips; cryofracturing the dry acellular tissue matrix strips at cryogenic temperatures; separating resulting particles by size at cryogenic temperatures; and freeze-drying the fraction of particles desired size to remove any moisture that may have been absorbed to produce a dry particulate acellular tissue matrix.例文帳に追加

無細胞組織マトリックスを処理して粒状無細胞組織マトリックスを生じさせる方法であって、 乾燥無細胞組織マトリックスをストリップに切断すること； 前記乾燥無細胞組織マトリックスストリップを極低温にて極低温破壊すること； 得られた粒子をサイズによって低温にて分別すること；および、 所望のサイズの粒子画分を凍結乾燥させ、吸収していたかもしれない一切の湿分を除去して乾燥粒状無細胞組織マトリックスを生じさせること、を含む方法。 - 特許庁

The method for producing a pleat product includes an immersion process 3 for immersing a cloth containing a cellulose-based fiber in a processing liquid containing a glyoxal-based resin, a reaction catalyst for promoting the reaction of the glyoxal-based resin and a silk protein; a drying process 4 for dehydrating or evaporating the processing liquid from the cloth; and a pleat processing process 5 for pleating the cloth in a dry hot state.例文帳に追加

セルロース系繊維を含む生地を、グリオキザール系樹脂、当該グリオキザール系樹脂の反応を促進させる反応触媒および絹タンパク質を含む加工液に浸漬する浸漬工程３と、生地から加工液を脱水、または蒸発させる乾燥工程４と、生地に乾熱状態でプリーツ加工するプリーツ加工工程５と、を含むプリーツ製品の製造方法である。 - 特許庁