「dry processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

Processing methods are roughly divided into steam and dry methods called Ise hoshiki (a traditional steaming method) in which dried algae is rehydrated and then steamed and dried, and boiling and drying methods. 例文帳に追加

加工の方法は、主に伊勢方式と呼ばれる乾燥原藻を水戻しして蒸乾する蒸乾法と、煮乾法に大別される。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Due to dry type, device and processing facility can be made simple and so economy is improved and fuel refabrication cost can be lowered.例文帳に追加

乾式のため装置や処理施設を簡略化できるので経済性を向上でき、再処理、燃料再加工コストを低減できる。 - 特許庁

To provide an image forming method that enables dry type rapid processing, gives a sharp image, improves continuous processing stability and unnecessitates the daily control of a solution and the maintenance of equipment.例文帳に追加

ドライ感覚で迅速処理可能で、鮮鋭な画像を得ることが出来、連続処理安定性が改良され、日々の液管理や機器のメンテナンスが不要な画像形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a surface-coated end mill and a surface-coated drill having superior lubricity, and having the long use life, even in a use environment such as dry processing and deep hole boring processing.例文帳に追加

ドライ加工、深穴あけ加工などといった使用環境下であっても、優れた潤滑性を有して使用寿命が長い表面被覆エンドミル、表面被覆ドリルを提供する。 - 特許庁

Surface dry processing for drying the garbage without agitating the garbage may be performed as long as a preset prescribed period of time prior to the above drying processing with intermittent agitation.例文帳に追加

また、前述した間欠的な攪拌による乾燥処理に先立って、予め設定した所定時間だけ生ゴミを攪拌しないで乾燥させる表面乾燥処理を行うようにしてもよい。 - 特許庁

To prevent a situation that a film cartridge can not be used in the case of loading the film cartridge and a dry battery in this order in a camera which performs frame feeding processing and rewinding processing at the time of starting a microcomputer.例文帳に追加

マイクロコンピュータの起動時にコマ送り処理やリワインド処理を行なうカメラにおいて、フイルムパトローネ，乾電池の順に装填した際に、フイルムパトローネが使用不能になるのを防止する。 - 特許庁

To prevent a situation that a film cartridge can not be used in the case of loading the film cartridge and a dry battery in this order in a camera which performs frame feeding processing and rewinding processing at the time of starting a microcomputer.例文帳に追加

マイクロコンピュータの起動時にコマ送り処理やリワインド処理を行なうカメラに、フイルムパトローネ，乾電池の順に装填した際に、フイルムパトローネが使用不能になるのを防止する。 - 特許庁

To provide a substrate processing liquid supply mechanism, in which liquid leakage at the time of stopping the supply of a processing liquid is surely prevented by reducing a time required to dry a substrate.例文帳に追加

基板乾燥に要する時間を短縮することで、処理液の供給停止時における液漏れを確実に防止することができる基板処理液供給機構を提供する。 - 特許庁

To provide a small, low-cost stage cooling mechanism for a plasma processing apparatus, which performs such plasma processing as filming or dry-etching a substrate that is an object to be processed.例文帳に追加

本発明は被処理物である基板に成膜、ドライエッチングなどのプラズマプロセスを行うプラズマプロセス用装置に関し、ステージ冷却機構の小型化及び低コスト化を図ることを課題とする。 - 特許庁

In a state of supporting the substrate by the supporting part, the photoresist on the top surface of the substrate is primarily removed by the dry type processing part 20, and is secondarily removed by the wet type processing part 30.例文帳に追加

基板は、支持部によって支持された状態で、基板上部のフォトレジストは、乾式処理部２０によって１次的に除去され、湿式処理部３０によって２次的に除去される。 - 特許庁

The dry processing part 6 can assume a state of being communicated with outside air and a state of being shut off from outside air when the substrate W is moved into the processing tank 3 by the moving mechanism 8.例文帳に追加

乾燥処理部６は、移動機構８によって基板Ｗが処理槽３内に移送されたとき、外気と連通する状態と、外気と遮断した状態とをとることができる。 - 特許庁

A control part 51 supplies the drying solvent from one of a first storage tank 11 and a second storage tank 13 to a processing bath 5 to dry-process a substrate W in the processing bath 5.例文帳に追加

制御部５１は、第１の貯留タンク１１と第２の貯留タンク１３の一方だけから処理槽５に乾燥溶剤を供給して、処理槽５にて基板Ｗを乾燥処理させる。 - 特許庁

To provide a silver halide photographic dry plate excellent in stability of development, not causing trouble due to fine black spots and giving an image having superior resolving power, line sharpness, sensitivity and density and to provide a processing method for the dry plate.例文帳に追加

解像力、画線のシャープネス、感度および濃度が優れた画像が得られ、且つ現像の安定性に優れ、微小な黒点故障が発生しないハロゲン化銀写真乾板およびその処理方法を提供する。 - 特許庁

A dry etching apparatus 11 includes a coil 36 for generating a plasma in a vacuum container 12, and a camera 45 which photoes the image of the surface to be etched of the substrate (1) which generates the plasma and is under processing by dry etching.例文帳に追加

ドライエッチング装置１１は、真空容器１２内にプラズマを発生させるコイル３６と、プラズマが発生してドライエッチングにより加工中である基板（１）の被エッチング面の画像を撮影するカメラ４５を備える。 - 特許庁

When a plurality of identical objects to be processed are processed by the identical dry etching devices 1 and 2, respectively, a data processing unit 7 detects etching time, respectively required for dry etching by both devices 1 and 2.例文帳に追加

この発明は、同一の複数の被処理物を、同一のドライエッチング装置１、２でそれぞれ処理する際に、データ処理部７が、その両装置１、２のドライエッチングに要するエッチング時間をそれぞれ検出する。 - 特許庁

At least one of drugs and biocompatible polymers undergoes a nano-size granulation with an average grain size of below 1,000 nm and then, a composite processing using a fluidized bed dry peletization method or a dry type mechanical particle composite processing to form polymer nano-size composite particles.例文帳に追加

薬物および生体適合性高分子の少なくとも一方を、平均粒径が１０００ｎｍ未満のナノ粒子化し、流動層乾燥造粒法または乾式機械的粒子複合化法を用いて複合化させることにより高分子ナノコンポジット粒子を形成する。 - 特許庁

The thin film processing method for the dry film resist is the method where the dry film is attached onto a substrate and a water preprocessing using a solution containing an interfacial active agent is applied followed by the thin film processing by an alkaline aqueous solution having an inorganic alkaline compound content of 5 to 20 mass%.例文帳に追加

基板上にドライフィルムレジストを貼り付け、界面活性剤を含む水溶液にて水洗前処理を行った後、無機アルカリ性化合物の含有量が５〜２０質量％のアルカリ水溶液によって薄膜化処理することを特徴とするドライフィルムレジストの薄膜化処理方法。 - 特許庁

To provide a dry etching method that improves a mask selection ratio and further obtains both high selectivity and a vertical processing shape in etching processing on a silicon substrate, particularly, etching processing for fabricating a solid structure.例文帳に追加

シリコン基板のエッチング加工、特に立体型構造体を作製するためのエッチング加工において、マスク選択比の向上を可能とし、さらには高選択性と垂直加工形状との両立を可能とするドライエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide the method of processing a substrate which can remove chlorine efficiently and certainly without adding a chamber dedicated to removing remained chlorine on the substrate to an apparatus for processing the substrate which performs substrate processing such as dry etching using chlorine-based gas.例文帳に追加

ドライエッチングなど塩素系ガスを用いて基板処理を行う基板処理装置に、基板上の残留塩素除去専用のチャンバを追加することなく、効率的かつ確実に塩素除去できる基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To produce stable mist by preventing generation of a huge liquid drop when the mist is produced as a nozzle for semi-dry processing or the like.例文帳に追加

セミドライ加工用ノズルなどのようにミストを生成する際に、粗大な液滴の発生を防止して安定したミストの生成を可能にする。 - 特許庁

A reference table 20 wherein an actual step difference measured groove 21 is provided is prepared on a placement table 12 within a processing chamber 11 as a dry-etching device.例文帳に追加

ドライエッチング装置としての処理室１１内の載置台１２に、実段差測定済みの溝２１が設けられた基準盤２０が準備される。 - 特許庁

As a method for projecting the CNT on the surface, polishing is used here, but dry etching, ashing, or processing using chemicals is applicable.例文帳に追加

ＣＮＴを表面に突出させる方法としては、ここでは研磨を用いたが、その他、ドライエッチングやアッシング、薬液による処理でもかまわない。 - 特許庁

Fluorine addition or dry lube addition which is coating processing can be applied to the surface of the grip part 142 using the EVOH material.例文帳に追加

さらに、ＥＶＯＨ材を用いたグリップ部１４２の表面に、被覆加工であるフッ素添加又はドライルーブ添加などを施すことができる。 - 特許庁

To efficiently supply an oil mist of microscopic oil spots to the front edge of a tool when a semi-dry processing is conducted with spindle through machine tools.例文帳に追加

スピンドルスルーの工作機械でセミドライ加工を行う際に、工具先端に微細油滴のミストを効率よく供給することを可能にする。 - 特許庁

To provide a dry etching method and a device which are capable of processing a magnetic material while restraining carbon monoxide from dissociating in plasma.例文帳に追加

プラズマ中の一酸化炭素の解離を抑制しつつ磁性体材料の加工を行うドライエッチング方法及びその装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device capable of performing high-precision processing of a film to be processed such as an insulating film by using dry etching.例文帳に追加

ドライエッチングを用いて絶縁膜等の被加工膜の高精度加工を行うことのできる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a processing method of a substrate improved to structuralize the substrate without using a wet or dry chemical etching process.例文帳に追加

ウエット又はドライケミカルエッチングプロセスを用いることなくサブストレートを構造化することに対して、改善されたサブストレートの処理方法を提案する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus improved in drying efficiency of a substrate by preventing deterioration in the dew point of a dry gas.例文帳に追加

乾燥気体の露点の悪化を防止することにより、基板の乾燥効率を向上させることができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

The convex parts are formed by selectively growing the corresponding parts, or by laser-processing or wet or dry etching the other parts.例文帳に追加

凸部の形成は、対応部分の選択成長により、もしくは、他の部分をレーザ加工やウェットあるいはドライエッチングすることにより形成される。 - 特許庁

A dry gas is jetted to the substrate W in substantially parallel from the first nozzle 41 to the gas discharge section 43 near the surface level of the processing liquid.例文帳に追加

処理液の液面近傍で第１ノズル４１から排気部４３に向けてほぼ水平に乾燥気体が基板Ｗに送風される。 - 特許庁

A substrate-processing device 1 comprises a plurality of wet-type processing units (a cleaning unit 10 and a resist coating unit 30) provided on a first stage, a plurality of dry-type processing units (a dehydration bake unit 20 and a pre-bake unit 40) laminated above the wet-type processing unit, and vertically-moving robots 2a, 51, and 52.例文帳に追加

基板処理装置１は、１段目に配置される複数の湿式処理ユニット（洗浄ユニット１０，レジスト塗布ユニット３０）と、湿式処理ユニットの上方に積層される複数の乾式処理ユニット（脱水ベークユニット２０，プリベークユニット４０）と、上下動ロボット２ａ，５１，５２とを備えている。 - 特許庁

Further as the dry unhulled rice is gelatinized in being dried by the superheated steam S, the gelatinized brown rice powder can be obtained by milling the brown rice after the shelling processing of the dry unhulled rice, and the utility value of the brown rice can be improved.例文帳に追加

さらに、乾燥籾は過熱水蒸気Ｓによって乾燥される際にα化されているため、乾燥籾の籾摺り処理後の玄米を製粉してα化玄米粉にでき、玄米粉の利用価値を高めることができる。 - 特許庁

The thinning processing method for dry film resist includes sticking the dry film resist onto a substrate, rinsing in water, and thinning with an aqueous alkali solution containing 5-20 mass% of an inorganic alkaline compound.例文帳に追加

基板上にドライフィルムレジストを貼り付け、水洗処理を行った後、無機アルカリ性化合物の含有量が５〜２０質量％のアルカリ水溶液によって薄膜化処理することを特徴とするドライフィルムレジストの薄膜化処理方法。 - 特許庁

The method of manufacturing the nitride semiconductor device which has the mesa structure formed by the dry etching includes a stage (A) of plasma-processing a surface exposed by the dry etching in an atmosphere including nitrogen plasma.例文帳に追加

ドライエッチングによって形成されたメサ構造を有する窒化物半導体素子の製造方法であって、窒素プラズマを含む雰囲気中で、前記ドライエッチングにより露出した面を、プラズマ処理する工程（Ａ）を含むことを特徴とする。 - 特許庁

In a bake furnace used for PEB, through an exhaust path from a dispersed exhaust hole provided in the center of the top plate, a flow of dry air, entering a bake processing chamber, from a periphery of the wafer toward the center of the wafer and a flow of dry air from nearby the center of the wafer toward a peripheral part are formed, so that the dry air is exhausted to the outside.例文帳に追加

ＰＥＢで使用するベーク炉では天板の中央に設けられた分散排気孔から排気通路を介して、ウエハの周辺からベーク処理室に入ったドライエアがウエハの中心方向に向かう流れ、およびウエハの中心近傍から周辺部へ向かう流れを形成して、外部に排出される。 - 特許庁

To introduce exhaust gas for processing exhaust gas from a dry etching system, containing a sublimational substance into an exhaust gas processing system, without depositing the sublimational substance in the exhaust gas passage.例文帳に追加

ドライエッチング装置から排出される昇華性物質を含む排ガスを、昇華性物質を排ガス通路内に析出させることなく、この排ガスを処理するための排ガス処理装置に導入する。 - 特許庁

To provide a surface-coated end mill and a surface-coated drill having superior lubricity and abrasion resistance, and having a long use life, even in a use environment such as dry processing and deep hole boring processing.例文帳に追加

ドライ加工、深穴あけ加工などといった使用環境下であっても、優れた潤滑性と耐摩耗性とを有して使用寿命が長い表面被覆エンドミル、表面被覆ドリルを提供する。 - 特許庁

A substrate processing apparatus for removing a photoresist on a top surface of a substrate includes a supporting part 10 for supporting the substrate, a dry type processing part 20 for removing the photoresist on the top surface of the substrate, and a wet type processing part 30 for removing the photoresist on the top surface of the substrate.例文帳に追加

基板上部のフォトレジストを除去する基板処理装置１は、基板を支持する支持部１０と、基板上部のフォトレジストを除去する乾式処理部２０と、基板上部のフォトレジストを除去する湿式処理部３０を有する。 - 特許庁

A laminated anti-reflective film 104 of the TiN 4 and ARL-SiON 5 as well as the metallic film 3 are continuously dry etched in an identical processing chamber.例文帳に追加

ＴｉＮ、ＡＲＬ−ＳｉＯＮによる積層反射防止膜と、その下の金属積層膜を連続して同一処理室にてドライエッチングする。 - 特許庁

To obtain a dry system image recorder in which processing time can be shortened by shortening the carrying path length of a recording material in the recorder.例文帳に追加

装置内での記録材料の搬送パス長を短縮して処理時間の短縮を実現することのできるドライシステムによる画像記録装置を得る。 - 特許庁

To realize a semiconductor storage having a three-dimensional structure of capacitors wherein the capacitors are separated electrically from each other without any process of processing finely their Pt lower electrodes by dry etching, etc.例文帳に追加

ドライエッチング等によってPt下部電極を微細加工する工程なしで、キャパシタ間が電気的に分離された立体構造キャパシタを実現すること。 - 特許庁

To provide an apparatus for drying and processing a substrate which can dry and process the substrate in a reduced-pressure atmosphere without causing contamination of the substrate.例文帳に追加

この発明は減圧雰囲気下で基板を汚染させずに乾燥処理することができるようにした基板の乾燥処理装置を提供することにある。 - 特許庁

To cheaply and simply process/produce a cloth which can keep skin as dry as possible to be easy of processing without using a special material.例文帳に追加

皮膚をできるだけ乾燥した状態に保てる生地を、加工し易く、また、特殊な素材も用いることなく、廉価に、そして簡単に加工製造できるようする。 - 特許庁

To provide a superconductive cable shortening a manufacturing period and reducing a manufacturing cost by omitting vacuum dry processing of an insulating layer during cable manufacturing.例文帳に追加

ケーブル製造時に絶縁層の真空乾燥処理を省略して製造期間の短縮、製造コストの低減を図った超電導ケーブルを提供する。 - 特許庁

To constitute a device so as to prevent fixing due to vapor of salt and the like in a molten salt electrolysis tank of a dry processing device and accurately position.例文帳に追加

乾式再処理装置の溶融塩電解槽における塩等の蒸気による固着を防止し、高精度に位置決めできるように構成する。 - 特許庁