「dry processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a cook-processing method for a fish meat processed product with uniform fat-and-oil content, free from rough and dry feeling, having juicy feeling and soft feeling, and good in product yield.例文帳に追加

油脂含量が均質で、パサツキがなくジューシー感ソフト感があり、製品歩留まりが良好である魚肉加工品の調理加工方法の提供。 - 特許庁

An activation thermal processing parameter may be calculated instead of the injection parameter, and the thickness of the alteration layer may be estimated from dry-etching conditions (S107).例文帳に追加

注入パラメータの代わりに活性化熱処理パラメータを算出してもよく、変質層の厚さをドライエッチング条件から推定（Ｓ１０７）してもよい。 - 特許庁

To provide an image recorder of a dry system in which processing time is shortened by improving the efficiency of an exposure process and whose size is made small.例文帳に追加

露光処理の効率化によって処理時間の短縮及び装置の小型化を実現することのできるドライシステムによる画像記録装置を得る。 - 特許庁

The step of processing the object 10 may be conducted by dry etching using plasma containing oxygen since HSQ is hardly etched by oxygen plasma.例文帳に追加

ＨＳＱは酸素プラズマにエッチングされ難い為、被加工体１０を加工する工程は、酸素を含むプラズマを用いてドライエッチングする工程であってもよい。 - 特許庁

A dry etching device has a housing, having a lower electrode therein and an electrode unit 2 forming a processing chamber with the housing.例文帳に追加

ドライエッチング装置１００は、内部に下部電極１１を有するハウジング１と、このハウジング１と共に処理チャンバ３を形成する電極ユニット２とを備えている。 - 特許庁

To speedily make a dry processing atmosphere, and improve use efficiency of isopropyl alcohol by making space contributed to drying small.例文帳に追加

乾燥に寄与する空間を小さくすることにより、迅速に乾燥処理雰囲気にすることができ、イソプロピルアルコールの使用効率を高めることができる。 - 特許庁

To provide a method for controlling a fabric processor having a case for forming a processing space, a steam supply device and a dry air supply device.例文帳に追加

処理空間を形成するケース、蒸気供給装置、及び乾燥空気供給装置を備える織物処理装置を制御するための方法が提供される。 - 特許庁

To provide a method for processing food which produces confectionery having high quality equal to that of conventional one, and also a freeze-dry molded fruit juice food having excellent manufacture efficiency compared with that of the conventional one, and which impregnates the freeze-dry molded fruit juice food with chocolate, and to provide a system for processing food.例文帳に追加

従来のものと同等な高品質の菓子を作ることができると同時に、従来のものに比べて製造効率に優れた、フリーズドライ成型果汁食品を製造し、当該フリーズドライ成型果汁食品にチョコレートを染み込ませた食品の加工方法とその食品加工システムを提供する。 - 特許庁

To provide a drill for cast iron processing capable of having a long life by considerably reducing thermal stress generated in the drill, processing with high efficiency at high cutting velocity, and further performing dry machining or semi-dry machining with less damages for the environment in the drilling of cast iron.例文帳に追加

鋳鉄の穴明け加工において、ドリルに発生する熱的応力を大きく低減することで、ドリルの長寿命化ができ、または高い切削速度での高能率な加工ができ、さらには環境への負荷が少ないドライ加工やセミドライ加工を行うことのできる鋳鉄加工用ドリルを提供する。 - 特許庁

To improve efficiency by introducing induction heating to the dry distillation processing of a compound waste material 11 and to stably and efficiently perform private power generation so as to reduce a commercial power purchase amount for induction heating by utilizing dry distillation gas.例文帳に追加

複合廃材１１の乾留処理に誘導加熱を導入して能率向上を図るとともに、乾留ガスを利用して誘導加熱のための商用電力購入量の削減をも図るべく、自家発電を安定して且つ無駄なく行う。 - 特許庁

In a method for manufacturing the steel wire for reinforcement of a rubber article where final wire drawing is applied to a high carbon steel wire after plating processing, the final wire drawing includes dry wire drawing composed of a plurality of stages at a front stage, and wet wire drawing is carried out after the dry wire drawing.例文帳に追加

めっき処理後の高炭素鋼線に最終伸線を行うゴム物品補強用鋼線の製造方法において、この最終伸線は、前段に複数段よりなる乾式伸線を含み、この乾式伸線後に湿式伸線を行う。 - 特許庁

The resist film removal method attached on a processing surface of a workpiece includes: dry processing the resist film attached on the processing surface of the workpiece by supplying active hydrogen atom generated by an inductively coupled plasma method between atmospheric pressure and 100 Pa; and dry processing by supplying active oxygen atom generated by the inductively coupled plasma method between atmospheric pressure and 100 Pa and/or wet processing by medical liquid.例文帳に追加

被処理物の処理表面に付着したレジスト膜を除去する方法であって、被処理物の処理表面に付着したレジスト膜に対し、大気圧から１００Ｐａの間で誘導結合プラズマ法によって生成された活性水素原子を供給することによるドライ処理と、大気圧から１００Ｐａの間で誘導結合プラズマ法によって生成された活性酸素原子を供給することによるドライ処理及び／又は薬液によるウェット処理とを行う。 - 特許庁

To provide a method for caustic reduction processing of a polyester-based fabric, with which the concentration of a caustic reduction agent is decreased, a processing time is shortened, processing unevenness is improved and stable processing is carried out even in dry-heat treatment without using a caustic reduction promoter in subjecting a polyester-based fabric to caustic reduction processing.例文帳に追加

本発明は、ポリエステル系布帛を減量加工する際に減量促進剤を使用することなく、減量薬剤の濃度減少、加工時間短縮、加工ムラの改善を可能とし、さらに乾熱処理においても安定な加工を可能にするポリエステル系布帛の減量加工方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

In the inside of the chamber 1 of an etching apparatus, a first step of performing H2O plasma processing and following the first step, and a second step of performing Cl2 plasma processing, are executed after executing an Al dry etching process.例文帳に追加

プラズマエッチング装置のチャンバー内部１において、Ａｌドライエッチング工程を行った後、Ｈ_2Ｏプラズマ処理を行う第１工程と、第１工程に続いて、Ｃｌ_2プラズマ処理を行う第２工程とを実施する。 - 特許庁

To provide a plasma processing method and a semiconductor device manufacturing method capable of effectively removing deposits including metal accumulated on a pattern sidewall by dry processing while suppressing pattern thinning by side etching.例文帳に追加

サイドエッチングによるパターン細りを抑制しつつ、ドライ処理によってパターン側壁に堆積した金属を含む堆積物を効率良く除去することのできるプラズマ処理方法及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Composite molding materials are obtained from vegetable food processing residual products obtained by a dry-type mechanical pulverization treatment of the mixture of vegetable food processing residuals, a polyolefin, and a polyolefin modified by maleic acid or maleic anhydride.例文帳に追加

植物質食品加工残さと、ポリオレフィンと、マレイン酸又は無水マレイン酸変性ポリオレフィンの混合物の乾式機械的粉砕処理生成物からなる植物質食品加工残さ複合成形材料とする。 - 特許庁

To perform a surface treatment such as surface washing and surface processing by dry processing, giving minimum damage to the crystalline structure of the surface of the crystalline optical materials of which crystalline structure reflects optical characteristics.例文帳に追加

結晶構造が光学特性を反映する結晶性光学材料に対して、表面の結晶構造へのダメージを抑えた表面洗浄や表面加工などの表面処理をドライプロセスにおいて実現させる。 - 特許庁

In the decompression processing mechanism 44 on the gas discharge path 85 connected to a chamber 40 of the COR processing apparatus 5 from upstream toward down stream, a dry pump 83 and a trap unit 87 are arranged in this sequence.例文帳に追加

排気ガス処理機構４４は、ＣＯＲ処理装置５のチャンバー４０に接続された排気路８５上に、上流側から下流側へ向けて、ドライポンプ８３およびトラップ装置８７がこの順に配設されている。 - 特許庁

To suppress metallic contamination in a processing chamber and a breakage of a quartz member, while suppressing decrease in film formation rate in a thin film formation process immediately after dry cleaning of the inside of the processing chamber, and to enhance the operation rate of the apparatus.例文帳に追加

処理室内のドライクリーニング直後の薄膜形成工程における成膜速度の低下を抑制しつつ、処理室内の金属汚染や石英部材の破損を抑制すると共に、装置稼働率を向上させる。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for dry etching that can improve etching efficiency at the time when dry etching of resist is performed, can improve working efficiency by shortening an etching time, and can prevent the damage of a processing object and the deterioration of its properties.例文帳に追加

レジストをドライエッチングする際のエッチング効率を向上させることができ、エッチング時間を短縮して作業効率を向上させ、被処理物が損傷したり特性が劣化することを抑制することができるドライエッチング方法及びドライエッチング装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus which comprises a solution processor in its lower part and a dry processor provided on the solution processor, which can be opened or closed by a shutter provided between the solution processor and the dry processor, and which can reduce remaining solution on the shutter.例文帳に追加

下部に液処理部を備え、その上に乾燥処理部を備え、前記液処理部と前記乾燥処理部との間がシャッタにより開閉自在である基板処理装置において、そのシャッタ上の液残りを減少させる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

The substrate processing apparatus comprises a substrate holder 22 for retaining the substrate W; and dry gas supply sections 32, 36 for setting an atmosphere in which at least one portion of the surface of the substrate W retained by a substrate holder 22 is exposed to a dry gas atmosphere whose moisture is controlled.例文帳に追加

本発明の基板処理装置は、基板Ｗを保持する基板ホルダ２２と、基板ホルダ２２で保持した基板Ｗの表面の少なくとも一部が曝される雰囲気を、湿度が制御されたドライガス雰囲気にするドライガス供給部３２，３６とを有する。 - 特許庁

To provide a reaction furnace for a dry cleaning device which is superior in economy by reducing a supply amount of cleaning gas by improving the efficiency of a cleaning processing for an object to be cleaned.例文帳に追加

被洗浄物の洗浄処理の効率化して洗浄ガスの供給量を減らし、経済性に優れたドライ洗浄装置用反応炉を提供すること。 - 特許庁

The formula (1) is that the intermediate elongation at 1.2 cN/dtex and 135°C or lower is ≤5.0% and 0.4%≤ and the formula (2) is that the dry heat shrinkage rate after processing for 30 minutes and 150°C or lower is ≤6.0% and ≥1.5%.例文帳に追加

０．４％≦１３５℃下、１．２ｃＮ／ｄｔｅｘ時の中間伸び≦５．０％ ・・・（１） １．５％≦１５０℃下、３０分処理後の乾熱収縮率≦６.０％ ・・・（２） - 特許庁

To provide a dry etching apparatus for doubling component life of a ring for expanding plasma arranged within a processing chamber, and also to provide a method of manufacturing a semiconductor device and an Si ring.例文帳に追加

処理室内に配されるプラズマ拡張用のリングの部品寿命を倍化させるドライエッチング装置及び半導体装置の製造方法、Ｓｉリングを提供する。 - 特許庁

To provide a dry etching apparatus for manufacturing semiconductor elements in which the shape of an insulating window is improved so as to correspond to the density of a plasma formed within a processing chamber.例文帳に追加

工程チャンバー内に形成されるプラズマの密度に対応して絶縁窓の形状を改善した半導体素子製造用乾式エッチング装置を提供する。 - 特許庁

A first polymer removing liquid capable of removing a first-class polymer generated in dry etching processing is supplied to the circumferential edge portion, circumferential end surface and rear surface of a wafer W.例文帳に追加

ウエハＷの表面の周縁部、周端面および裏面には、ドライエッチング処理時に生じた第１種のポリマーを除去可能な第１ポリマー除去液が供給される。 - 特許庁

Thickness of the dry film is 20-50 μm, and the film stripping processing is performed by applying liquid stripper consisting of amine system solution at temperature of 40-70°C to the printed circuit board.例文帳に追加

ドライフィルムの厚みは２０〜５０μｍであり、かつ剥膜処理は、温度４０〜７０℃のアミン系水溶液からなる剥膜液を上記プリント配線板に施すことにより行う。 - 特許庁

To provide a silver salt photothermographic dry imaging material which achieves both improvement of storage stability before and after processing and rapid development, and realizes a favorable image color tone.例文帳に追加

処理前後の保存性の向上と迅速現像を両立し、且つ好ましい画像色調を実現した銀塩光熱写真ドライイメージング材料を提供する。 - 特許庁

To provide a dry etching method that does not deteriorate a processing shape of an aluminum film containing copper, which is wiring, and can suppress occurrence of copper residues.例文帳に追加

配線である銅含有アルミニウム膜の加工形状を劣化させることなく、かつ銅の残さ発生の抑制可能なドライエッチング方法を提供するものである。 - 特許庁

This substrate treating device is for performing series of treatment to the substrate and is provided with a spin coater part 2, a dry promotion processing part 3 and a bake part 6.例文帳に追加

基板処理装置は、基板に対して一連の処理を行うための基板処理装置であって、スピンコータ部２と、乾燥促進処理部３と、ベーク部６とを備えている。 - 特許庁

To provide a wafer processing system, in which a wafer can be dried surely, after removing reaction products originating from a resist and produced through dry etching.例文帳に追加

ドライエッチングによって生じたレジストに由来する反応生成物の除去処理後に基板を確実に乾燥することができる基板処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a heat developable color image recording material having high sensitivity and less liable to fog even in processing by a perfectly dry heat developing system and excellent in shelf stability.例文帳に追加

完全ドライ熱現像方式で処理を行った場合にも、高感度で、カブリが少なく、保存安定性に優れた熱現像カラー画像記録材料を提供する。 - 特許庁

When the purge gas quantity reaches the lower limit value (step S25: YES), the main processing inlet temperature is raised to the upper limit value to raise the dry room indoor temperature (step S45).例文帳に追加

パージ風量が下限値になった場合（ステップＳ２５：ＹＥＳ）、上限値まで主処理入口温度を上昇させることで、ドライルーム室内温度を上昇させる（ステップＳ４５）。 - 特許庁

Then, an etching process with a high frequency inert gas plasma of Ar, etc. is performed in the same processing apparatus for maintaining, for example, a vacuum state in this dry etching.例文帳に追加

次に、例えばこのドライエッチング工程における真空の状態が維持される同一処理装置内で、Ａｒ等の高周波不活性ガスプラズマによるエッチング処理を行う。 - 特許庁

To provide a method for dry type ammonia decomposition processing which can well accelerate decomposition reaction of ammonia in a gas while suppressing deterioration as a fuel as much as possible.例文帳に追加

燃料としての劣化を可及的に抑制しつつガス中のアンモニアの分解反応を良好に促進させることができる乾式アンモニア分解処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a decorative construction method capable of securing superior waterproofness, while making a joint part inconspicuous, in a wall surface of applying waterproof processing by using a dry joint material.例文帳に追加

乾式目地材を用いて防水処理を施した壁面において、目地部を目立たたなくするとともに、優れた防水性が確保できる化粧工法を提供する。 - 特許庁

Preferably, an oxide film is removed from the tip end of the probe without exposing the probe in the atmosphere through dry processing using an ion source or the like, and the probe is housed in the probe housing container.例文帳に追加

好ましくは、大気暴露することなく、イオン源等を用いたドライ処理により探針先端部の酸化膜を除去し、探針を探針収納容器に収容する。 - 特許庁

This method for producing kale dry powder comprises the following process; subjecting kale to blanching after regulating an amount of sodium chloride and sodium bicarbonate each to be added to water, water temperature, throughput of kale, and processing time, drying the thus blanched kale, and pulverizing the resultant dried kale.例文帳に追加

ケールを、水への塩化ナトリウムおよび重曹の添加量、水温、ケールの処理量、および処理時間を規定してブランチング処理し、乾燥、粉末化する。 - 特許庁

In the storage mode, the humidity in the processing space is controlled by operating at least one of the steam supply device and the dry air supply device.例文帳に追加

貯蔵モードでは、処理空間内の湿度が蒸気供給装置及び乾燥空気供給装置のうち、少なくとも一つを動作させることによって制御される。 - 特許庁

To provide a vacuum suction apparatus that reduces the faults by electrostatic electricity during dry processing, problems caused by generation of heat, and generation of particles and exhibits excellent suction performance.例文帳に追加

乾式加工時の静電気による不具合、及び、発熱による問題を低減でき、パーティクルの発生が少なく、吸着性能に優れた真空吸着装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a dry system image recording apparatus, in which the conveyance path length of a recording material is shortened to achieve shortening of processing time and miniaturization of the apparatus.例文帳に追加

記録材料の搬送パス長を短縮して処理時間の短縮及び装置の小型化を実現することのできるドライシステムによる画像記録装置を得る。 - 特許庁

To provide a pattern forming method capable of easily removing photoresist remaining after dry etching processing in the case of forming a pattern by a dray etching method.例文帳に追加

ドライエッチング法によってパターンを形成する場合に、ドライエッチング処理後に残存するフォトレジストを容易に除去することが可能なパターン形成方法を提供する - 特許庁

To provide a lubricating device of a semi-dry sump type engine, facilitating oil check and refill work and facilitating manufacture and processing of a crankcase and the like.例文帳に追加

セミドライサンプ式エンジンの潤滑装置において、オイルの点検及び補給作業を容易にすると共に、クランクケース等の製造加工を容易にすることを目的としている。 - 特許庁

To provide a friction material having improved additives holding properties and pre-moldability at a low processing cost, good dispersibility and measuring properties which are advantages of a dry aramid pulp.例文帳に追加

乾式アラミドパルプの利点である低加工コスト、良好な分散性及び擦り切り計量性を生かしながら、材料保持性及び予備成形性を改善した摩擦材を得る。 - 特許庁