「dry processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a heat developable color imager recording material having high sensitivity, excellent in preservation stability (particularly image preservability) and using a perfectly dry processing system and a coupling image forming system.例文帳に追加

高感度で、保存安定性（特に画像保存性）に優れた、完全ドライ処理方式で且つカップリング画像形成方式の熱現像カラー画像記録材料を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing method and a substrate processing apparatus that dry a substrate surface by removing a solvent from the substrate surface after replacing a processing liquid on the substrate surface with the solvent, drying performance therein being enhanced by preventing drops of water from sticking on the substrate surface.例文帳に追加

基板表面上の処理液を溶剤で置換した後に当該溶剤を基板表面から除去して当該基板表面を乾燥させる基板処理方法および基板処理装置において、基板表面に水滴が付着するのを防止して乾燥性能を高める。 - 特許庁

Therefore, the atmosphere replacement in the processing chamber 1 is promoted so that the washings adhering to the inner surface of the partition wall 11 of processing chamber 1, the moving nozzle 4, the arm 41, the arm supporting shaft 43, and the interruption plate 5, etc. may evaporate and the inside of the processing chamber 1 may dry.例文帳に追加

これにより、処理室１内の雰囲気置換が促進されることによって、処理室１の隔壁１１の内面や移動ノズル４、アーム４１、アーム支持軸４３および遮断板５などに付着している洗浄液が蒸発し、処理室１内が乾燥していく。 - 特許庁

The plasma processing apparatus has a plasma processing chamber, a vacuum conveyance chamber, a lock chamber, and an atmosphere-side conveyance chamber, wherein the humidity in the atmosphere-side conveyance chamber is adjusted by introducing dry air into the atmosphere-side conveyance chamber.例文帳に追加

本発明では、プラズマ処理室と、真空搬送室と、ロック室と、大気側搬送室とを備えた半導体製造装置において、乾燥空気を大気側搬送室に導入して、大気搬送室内の湿度を調整できるようにした。 - 特許庁

To provide a polyurethane resin aqueous dispersion for fiber processing and treating agents excellent in storage stability and deforming property of a film after fiber processing, film-forming property, touch feeling, resistance to dry cleaning, heat resistance and washing resistance and further excellent in durability.例文帳に追加

貯蔵安定性と、繊維加工した後の皮膜の変形性、造膜性、風合い、耐ドライクリーニング性、耐熱性および耐洗濯性が優れ、さらに耐久性にも優れた繊維加工処理剤用ポリウレタン樹脂水性分散体を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method that can dry a substrate W without collapsing patterns formed on the substrate W in a pressure environment lower than pressures required to implement a supercritical state.例文帳に追加

超臨界状態を実現するために必要な圧力よりも低い圧力環境下で、基板Ｗに設けられたパターンを倒壊させることなく基板Ｗを乾燥できる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。 - 特許庁

A semiconductor wafer 102 is subjected to nitrogen plasma processing either after a step of forming a resist pattern 19 on an interlayer dielectric 18 and thereafter dry-etching the interlayer dielectric 18 or after a step of further dry-etching a stressor SiN film 17 with the resist pattern 19 removed therefrom.例文帳に追加

層間絶縁膜１８にレジストパターン１９を設けたうえで層間絶縁膜１８をドライエッチングする工程の後と、レジストパターン１９を除去した状態のストレッサーＳｉＮ膜１７をさらにドライエッチングする工程の後とのうちのいずれかの時点で、半導体ウェーハ１０２を窒素プラズマ処理する。 - 特許庁

While a channel part ch of the thin film transistor Tr is prevented from being irradiated with light of a shorter wavelength than a wavelength 260 nm, the resist pattern 24 after dry processing is irradiated thereafter at least either ultraviolet rays or visible light under a dry environment.例文帳に追加

その後、薄膜トランジスタＴｒのチャネル部ｃｈに対して波長２６０ｎｍよりも短波長の光が照射されることを防止した状態で、乾燥雰囲気下において乾燥処理後のレジストパターン２４に対して紫外線または可視光の少なくとも一方を照射する。 - 特許庁

To provide a processing method for preventing dry crack of a wood capable of surely preventing dry crack, while improving workability and designability in using as a building material and shortening a drying time by forming a through-hole as an alternative to a back split with respect to the wood after being sawed.例文帳に追加

製材後の木材に対して背割りの代わりに貫通孔を形成することで、建材としての使用にあたっての施工性及び意匠性の向上、乾燥時間の短縮を図りながら、干割れを確実に防止することができる木材の干割れ防止加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing device which can be applied to a dry-in/dry-out type polishing device and respond to cleaning of semiconductor wafers accompanying miniaturization, having three or more cleaning steps in a cleaning process without spoiling processing capacity per unit time and per unit footprint.例文帳に追加

ドライイン／ドライアウト方式のポリッシング装置に適用可能であり、単位時間あたり及び単位設置面積あたりの処理能力を損なうこと無く、洗浄工程における洗浄段数を３段以上備え、微細化に伴う半導体ウエハのクリーン化に対応できるポリッシング装置を提供する。 - 特許庁

A mask material is formed on the surface of a substrate consisting of silicone, the mask material is processed by anisotropic dry etching and anisotropic wet etching, and after processing a surface approximately parallel with a crystal surface orthogonal to the surface of the substrate by the anisotropic dry etching, a reflection surface is formed by the anisotropic wet etching process.例文帳に追加

シリコンからなる基板に、前記基板表面に対してマスク材を形成し、異方性ドライエッチングし、異方性ウエットエッチングし、前記基板表面に直交する結晶面と略平行な面を前記異方性ドライエッチングした後、前記異方性ウエットエッチング工程によって、反射面を形成する。 - 特許庁

In a multilayer printed wiring board in which a conductive layer 1 and an interlayer resin insulated layer are alternately laminated, at least a part of the conductive layer 1 is formed by a dry process, and the interlayer insulated resin layer is constituted by an adhesive layer 3 and a dry processing insulated layer 2.例文帳に追加

導体層１と層間樹脂絶縁層とを交互に積層してなる多層プリント配線板において、導体層１の少なくとも一部がドライプロセスにより形成されており、層間絶縁樹脂層が接着剤層３とドライプロセス用絶縁層２とから構成されている多層プリント配線板。 - 特許庁

To provide a heat developing method for a silver salt photothermographic dry imaging material having high sensitivity, low fog, high maximum density, and stable photographic performance in various imager setting environments at the time of performing a heat developing process by rapid processing of ≤10 s for the silver salt photothermographic dry imaging material.例文帳に追加

銀塩光熱写真ドライイメージング材料を１０秒以下の迅速処理で熱現像プロセスを実行する際に、高感度、低カブリで、最高濃度が高く、幅広いイメージャー設置環境で安定した写真性能を有した銀塩光熱写真ドライイメージング材料の熱現像方法を提供。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for smoking dry treatment wherein in order to dry a timber, a heat source is supplied at a low cost, a water content of the timber is lowered by heat, smoke and water vapour generated by combustion to be uniformized, harmful vermin and noxious bacteria are sterilized and high precise dry materials can be provided in order to improve a timber processing accuracy in an architecture field.例文帳に追加

材木を乾燥するため、低コストで熱源を供給し、燃焼により発生する熱・煙・水蒸気により材木含水率を低下させ均一化するとともに、害虫・害菌を殺菌し、建築分野における材木加工精度の向上の為、高精度の乾燥材を提供可能とする燻煙乾燥処理方法及び装置を提供することである。 - 特許庁

The residue processing system comprises a processing tank 12 for processing residue in a trench produced through dry etching of an insulating film, a unit 16 for measuring the amount of features of resist stripper, and a control unit 10 calculating the processing time required for removing residue from the measurement of the amount of features by using correlation of the etching rate of the insulating film and the amount of features.例文帳に追加

絶縁膜のドライエッチングで形成されるトレンチの中に生成される残渣を剥離液で処理する処理槽１２と、剥離液の特徴量を測定する測定ユニット１６と、絶縁膜のエッチング速度と特徴量との相関を用いて特徴量の測定値から残渣を除去する処理時間を算出する制御ユニット１０とを備える。 - 特許庁

To provide a silver salt photothermographic dry imaging material excellent in raw stock preservability and in stability of a silver image after heat development while retaining fog and sensitivity and less liable to contaminate the inside of a processing machine.例文帳に追加

カブリ、感度を維持しながら、生保存性と熱現像後における銀画像の安定性に優れ、かつ現像機内汚染の少ない銀塩光熱写真ドライイメージング材料を提供する。 - 特許庁

In a dry etching apparatus equipped with a chamber 10 that etches the processing object, shielding plates 30 consisting of Ta, Ti or an alloy containing Ta or Ti are arranged in the chamber.例文帳に追加

被処理物をエッチングするチャンバー１０を備えたドライエッチング装置において、前記チャンバー内に、Ta、あるいはTi、あるいはTaまたはTiを含む合金からなる遮蔽板３０が配置されている。 - 特許庁

The refuse solid fuel produced by crushing, drying and forming refuse and processing into a specified form is mixed with an iron oxide source and a binder in carbonaceous powder prepared by dry distillation and then formed.例文帳に追加

ごみの破砕、乾燥および成形を経て所定の形状に加工された、ごみ固形燃料を、乾留して得られる炭素質粉末に、酸化鉄源およびバインダーを混合して成形する。 - 特許庁

To provide a textile printing processor continuously processing each step in a dry transfer printing method and can avoid poor printing in separating a substrate.例文帳に追加

乾式転写捺染法における各工程を連続的に処理する捺染処理装置であって、基材を剥離する際の転写不良を回避することのできる捺染処理装置を提供する。 - 特許庁

Also, this high carbon steel wire is manufactured with a continuous dry wire drawing processing of a high carbon steel wire material and a tensile strength thereof is within a range of 1,700-2,400 MPa.例文帳に追加

第2発明の高炭素鋼線は、上記高炭素鋼線材を連続的に乾式伸線加工を行うことによって製造され、抗張力が1700〜2400MPaの範囲であることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for modifying textile products by imparting functionalities such as pollen adhesion-preventing, dry soil preventing, pilling preventing, color deepening processing, and to provide a modifying agent used in the method.例文帳に追加

繊維製品に花粉付着防止、ドライソイル付着防止、ピリング防止、深色加工などの機能性を付与する繊維製品の加工方法及び加工剤および加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a disk drying device which can dry a plurality of disks at the same time in a short period of time by batch processing and which can achieve a small device, and to provide a disk drying method.例文帳に追加

バッチ処理により複数枚のディスクを同時に短時間で乾燥することが可能で小型化な装置を実現できるディスク乾燥装置およびディスク乾燥方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image recording apparatus which can efficiently dry a processing liquid imparted to a printing paper, and at the same time, can record images of a high quality by preventing dew condensation to devices from occurring.例文帳に追加

用紙に付与した処理液を効率よく乾燥させることができるとともに、機器への結露を防止して高品質な画像を記録できる画像記録装置を提供する。 - 特許庁

To provide a dry-type tile construction method used for a wooden house, wherein a joint processing is given to a tile body and a piece of tile can be attached both in laterally and vertically.例文帳に追加

主に木造住宅に使用する乾式タイル工法であって、タイル本体に目地加工を施すと共に、一枚のタイルを横張りと縦張りを兼用して使用することを可能とする。 - 特許庁

To provide a silver halide photographic sensitive material having enhanced pressure resistance and an image forming method which ensures superior suitability to dry rapid processing and favorable whiteness of a print.例文帳に追加

圧力耐性が向上したハロゲン化銀写真感光材料、及びドライ感覚で迅速処理適性に優れ、しかも好ましいプリントの白さが得られる画像形成方法を提供すること。 - 特許庁

In this method, the solidification processing of the soft ground is performed by use of the water absorbing force and water transferring effect of the shell fiber of dry coconut that is an inexpensive and safe natural fiber.例文帳に追加

本発明の方法では、安価で安全な天然繊維である乾燥ヤシの実の外皮繊維の吸水力及び水移送作用を利用して軟弱土の固化処理を行う。 - 特許庁

To provide a spin processor where processing liquid scattered from a substrate can be prevented from adhering again during a dry process of the substrate by a high-speed rotation.例文帳に追加

この発明は基板を高速回転させて乾燥処理する際に、基板から飛散した処理液が再付着するのを防止できるようにしたスピン処理装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a technique capable of stably detecting an etching endpoint even when a pattern occupation rate of an etching target is fine in dry etching in contact hole processing or the like.例文帳に追加

コンタクトのホール加工等におけるドライエッチングにおいて、エッチング対象のパターン占有率が微小であっても、エッチング終点を安定して検出することができる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a glass member preventing the formation of particles in a film-forming device and a plasma-processing device and suppressing the contamination by aluminum in dry cleaning using a halogen-based gas.例文帳に追加

成膜装置やプラズマ処理装置内でのパーティクルの発生を防止し、ハロゲン系ガスを用いたドライ洗浄におけるアルミニウムによる汚染を抑えることのできるガラス部材を提供する。 - 特許庁

An inorganic porous body 3 is blended with the organic waste 1 and the dry methane fermentation processing is performed by introducing the obtained mixture 5 into the methane fermentation tank where a sludge containing the inorganic porous body is retained.例文帳に追加

有機性廃棄物１に無機多孔体３を混合し、得られた混合物５を、無機多孔体を含む汚泥が保持されるメタン発酵槽６に導入して乾式メタン発酵処理する。 - 特許庁

To secure a high selection ratio to an insulation film used as a mask material, while controlling the generation of conical pattern defects, in performing dry etching for processing a silicon substrate.例文帳に追加

シリコン基板を加工するためのドライエッチングにおいて、円錐状パターン欠陥の発生を抑制しつつマスク材となる絶縁膜に対して高い選択比を確保できるようにする。 - 特許庁

To obtain a nozzle capable of being utilized effectively with a small quantity of mist in a semi-dry processing nozzle or the like for producing the mist, and preventing the occurrence of coarse droplets.例文帳に追加

セミドライ加工用ノズルなどのようにミストを生成する際に、少ないミストで効果的に利用でき、また粗大な液滴の発生を防止して安定したミストの生成を可能なノズルを得る。 - 特許庁

To perform highly accurate processing in which punch-through of resist and striation due to resist damage are suppressed, in pattern formation by dry etching using a resist after the generation of ArF lithography as a mask.例文帳に追加

ＡｒＦリソグラフィー世代以降のレジストをマスクとしたドライエッチングによるパターン形成において、レジストダメージに起因するレジスト突き抜け及びストライエーションを抑制した高精度加工を行う。 - 特許庁

A film forming process of supplying a processing gas into a vacuum processing chamber 2, generating decomposition seeds through a heating catalyst 6, and depositing a deposit on a board 5, an etching process of dry- etching a thin film, and a cleaning process of cleaning the inside of the chamber are carried out.例文帳に追加

真空のプロセスチェンバー２内にプロセスガスを供給し、加熱触媒体６により分解種を生成して、基板５上に堆積物を堆積する成膜プロセス、薄膜をドライエッチングするプロセス又はチェンバー内をクリーニングするプロセスを実施する。 - 特許庁

To provide a method and a device for dry-finishing for laundry corresponding to the environment of discharging no circulation gas containing a solvent or the like into atmosphere during the drying finishing processing and solvent collecting processing of laundry inside a drying chamber.例文帳に追加

乾燥室内における洗濯物の乾燥仕上げ処理と溶剤回収処理中においては溶剤等を含む循環気体を一切大気中に出さない環境に対応した洗濯物の乾燥仕上げ方法とその装置を提供すること。 - 特許庁

A dry-molding process comprises skin-processing steps comprising drying the skin in the sun, cutting it, soaking it in water, and knitting or pressing the skin or raw material granule-processing steps comprising drying the skin in the sun, powdering it, adding the adhesive thereto, agitating it, and pressing or extruding the skin.例文帳に追加

乾式成形は、皮の天日乾燥、裁断、水に浸け込む工程、及び編んで又はプレスする皮加工法、又は天日乾燥して粉砕し粘着剤を添加して攪拌する及びプレス又は押し出す粒状原料加工法である。 - 特許庁

To provide a substrate processing method and a substrate processing apparatus that dry a substrate surface by removing a solvent consisting principally of a fluorine-based solvent from the substrate surface, the drying performance being enhanced by preventing a drop of water from sticking on the substrate surface.例文帳に追加

フッ素系溶剤を主成分とする溶剤を基板表面から除去して当該基板表面を乾燥させる基板処理方法および基板処理装置において、基板表面に水滴が付着するのを防止して乾燥性能を高める。 - 特許庁

To provide a photographic sensitive material superior in sharpness and a little of residual dye stains, and further, short in processing time and capable of dry processing, and in addition, the supporting body for the photographic sensitive material superior in electrification characteristics.例文帳に追加

鮮鋭性に優れ、残色ステインが少なく、更に処理時間が短く、ドライ処理も可能な写真感光材料、及び処理方法を提供することにあり、更に、帯電特性の優れた写真感光材料用支持体を提供することにある。 - 特許庁

A silver halide photographic sensitive material having 40-120° contact angle of the surface on the silver halide emulsion layer side with pure water is subjected to dry-to-dry processing with an automatic processing machine for 20-60 sec.例文帳に追加

ハロゲン化銀乳剤層を有する側の、表面の純水による接触角が４０°〜１２０°であるハロゲン化銀写真感光材料を自動現像機を用いてＤｒｙｔｏ Ｄｒｙで２０〜６０秒で処理するハロゲン化銀写真感光材料の処理方法、及びハロゲン化銀乳剤層を有する側の、表面の純水による接触角が４０°〜１２０°であるハロゲン化銀写真感光材料。 - 特許庁

This method of processing a concrete structure removes alkaline components in the concrete structure earlier by repeating, over a predetermined period, a cycle in which a wetting-drying processing is performed to dry the surfaces of the placed concrete structure after wetting the surfaces with a processing water including at least a surfactant.例文帳に追加

コンクリート構造体の処理方法は、打設後のコンクリート構造体の表面を少なくとも界面活性剤を含む処理水で濡らした後乾燥させる湿潤−乾燥処理を１サイクルとして、このサイクルを所定期間にわたって繰り返すことによって、該コンクリート構造体中のアルカリ成分を早期に除去する。 - 特許庁

To improve processing efficiency, processing quality, and tool life, and alleviate problems in economic efficiency and environmental loads due to use and disposition of working fluids, and use of compressed air by setting appropriate mists for each tool, workpiece, and processing condition to sufficiently utilize performance of each tool, in processing machinery having a number of tools in a semi-dry method.例文帳に追加

従来のセミドライ方式では多数の工具を持った加工機械に対して各工具、被加工物、加工条件に適切なミストに設定できず各工具の性能が充分に活用されていない状態であり加工能率、加工品質、工具寿命、加工液の使用や廃棄及び圧縮エアーの使用により経済性や環境負荷問題を生じることが多く実用化の課題となっている。 - 特許庁

In a control section 47, the substrate W is dipped in pure water in a processing tank 1 and the substrate W is processed, and a lifter 15 is elevated from a processing place to a drying place and the substrate W is dried while supplying dry air from a supply port 27.例文帳に追加

制御部４７は、処理槽１内の純水に基板Ｗを浸漬させて基板Ｗに対する処理を行わせた後、供給口２７からドライエアを供給させつつ、リフタ１５を処理位置から乾燥位置へ上昇させて基板Ｗを乾燥させる。 - 特許庁

The fuel cell system is provided with a wetting processing means for humidifying a reaction gas supplied to a fuel cell and put it into a wet state, and a drying processing means for putting the reaction gas supplied to the fuel cell into a dry state of lower humidity than the wet state.例文帳に追加

この燃料電池システムは、燃料電池に供給する反応ガスを、加湿して湿潤状態とする湿潤処理手段と、燃料電池に供給する反応ガスを、湿潤状態よりも湿度の低い乾燥状態とする乾燥処理手段と有する。 - 特許庁

The insulating film processing device 34 while forming a water-free dry atmosphere in a processing container produces plasma from krypton gas and causes the plasma to collide against the surface of the substrate W to remove fluorine atoms exposed in the surface of the CF insulating film.例文帳に追加

絶縁膜処理装置３４では，処理容器内を水分を含まない乾燥雰囲気に維持しながら，クリプトンガスからプラズマを生成し，当該プラズマを基板Ｗの表面に衝突させて，ＣＦ絶縁膜の表面に露出しているフッ素原子を離脱させる。 - 特許庁

When using the photosensitive dry film resist, by light-shielding only the holes to be filled by a film mask or a straight drawing device and executing full exposure, the dry film resist of a hole part to be filled is removed in development processing, and only the holes desired to be filled are selectively exposed with high accuracy equivalent to a pattern forming technology.例文帳に追加

感光性ドライフィルムレジストを使用する場合には、フィルムマスクまたは直描装置にて埋める穴部のみを遮光し全面露光することで、現像処理にて埋める穴部のドライフィルムレジストが除去され、パターン形成技術と同等の高精度で埋めたい穴のみを選択的に露出させることができる。 - 特許庁