「electrode process」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

The method of manufacturing the semiconductor device comprises a process of applying a resist on a substrate 1 formed with a gate electrode 4a, a process of removing part of the resist so as to expose the gate electrode 4a, and a process of chamfering the end on the gate electrode 4a side of a resist 8a left over from the process for removing part of the resist by a thinner separation method.例文帳に追加

ゲート電極４ａが形成された基板１上にレジストを塗布する工程と、ゲート電極４ａが露呈するようにレジストの一部を除去する工程と、レジストの一部を除去する工程にて残存するレジスト８ａのゲート電極４ａ側端部を、シンナー剥離法により面取りする工程とを備える。 - 特許庁

To provide a device in order to reduce operation temperature of an electrode without enlarging a size of the electrode and without increasing cost of manufacturing process of the electrode.例文帳に追加

電極のサイズを拡大することなく且つ電極製造工程のコストをあまり増すことなく、電極の動作温度を低下させるための装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To make the securing accuracy of positioning an intermediate electrode in a beading process compatible with the prevention of the deformation of an electron beam passing hole of a compensation electrode in the intermediate electrode.例文帳に追加

ビーディング工程における中間電極の位置決め精度の確保と、中間電極の補正電極の電子ビーム通過孔の変形防止とを両立する。 - 特許庁

The negative electrode is fabricated in a way to apply this negative electrode mixture solvent on a negative electrode collector with the arithmetic mean roughness of 0.27 to 10 μm followed by calcination process.例文帳に追加

この負極合剤を、０．２７μｍ〜１０μｍの算術平均粗さＲａを有する負極集電体に塗布し、焼成することにより負極を作製する。 - 特許庁

To make sure support of the filament by the support electrode and to make easy clamping process of the filament in the lamp electrode having a support electrode made of molybdenum.例文帳に追加

モリブデン製の支持電極を備えたランプ用電極において、支持電極によるフィラメントの支持を確実なものとし、併せて、フィラメントのクランプ加工を容易にする。 - 特許庁

A 2nd cutting process cuts the part corresponding to the 2nd dent part 21 to expose each of the electrode parts 13 and 17 in the transparent electrode 3 and the back electrode 5.例文帳に追加

第２の切断工程は、第２の凹部２１に対応する箇所を切断し透明電極３及び背面電極５における各電極部１３，１７を露出させる。 - 特許庁

A part of an electrode shaft element 52 is cut into an electrode shaft element 52A and an electrode shaft element 52B by laser cutting with a cutting width D2 [(c) cutting process].例文帳に追加

１本の電極軸素体５２の一部をレーザ切断により切断幅Ｄ２で、電極軸素体５２Ａと電極軸素体５２Ｂとに切断する[（ａ）切断工程]。 - 特許庁

In the fifth process, a counter substrate 200 with a formed common electrode 201 is stuck together so that the common electrode 201 and a pixel electrode 104 may face each other.例文帳に追加

第５行程では、共通電極２０１が形成された対向基板２００を共通電極２０１と画素電極１０４が向かい合うようにして張り合わせる。 - 特許庁

Further, the emitter electrode 114 can be formed together with the source electrode and drain electrode of a CMOS so that the production process can be simplified and the cost can be reduced.例文帳に追加

また、エミッタ電極１１４をＣＭＯＳのソース電極及びドレイン電極と共に形成することができるので、製造工程が簡素化し、コストダウンを図ることができる。 - 特許庁

CARBON-POROUS SUPPORT COMPOUND ELECTRODE MATERIAL, COMPOUND ELECTRODE, AND MANUFACTURING METHOD OF COMPOUND ELECTRODE MATERIAL, SECONDARY BATTERY, AND CAPACITOR AS WELL AS ELECTRIC CAPACITY-DEIONIZATION PROCESS APPARATUS例文帳に追加

炭素・多孔性支持体複合電極材料、複合電極、複合電極材料の製造方法、二次電池及びキャパシター並びに電気容量的脱イオン工程装置 - 特許庁

A process for forming an electrode discontinuously mutually connected can fire an electrode without excess thermal expansion coefficient stress which damages the electrode.例文帳に追加

不連続相互接続された電極を形成する工程は、電極を損傷する過剰な熱膨張係数応力なしに、電極を焼成することを可能にする。 - 特許庁

An electrode for electrochemical elements is manufactured by a process of forming an electrode composition layer containing an electrode active material and a binder on the surface of a collector, and a process of making holes through the electrode composition layer and the collector by punching or the like.例文帳に追加

電極活物質および結着剤を含む電極組成物層を集電体表面上に形成する工程、ならびに電極組成物層および集電体にパンチング法などで孔を開ける工程により電気化学素子用電極を製造する。 - 特許庁

The method includes a first process for forming the first electrode terminal 13 on the second wiring board 50 so that the first electrode terminal 13 is expanded from the tip of the terminal to the direction of a substrate body, and a second process for allowing the tip of the first electrode terminal 13 to sink into the salient electrode.例文帳に追加

第１電極端子１３を、端子先端から基板本体方向に向かって広がるように、第２配線基板５０上に形成する第１工程と、第１電極端子１３の先端部分を突起電極にめり込ませる第２工程とを含む。 - 特許庁

This method for manufacturing a quantum dot device is provided with a process for forming a first electrode (2) and a second electrode (3) on a substrate (1) and a process for forming crystallite formed of semiconductor material on the substrate (1) while applying a voltage across the first electrode (1) and the second electrode (2).例文帳に追加

基板（１）の上に、第１電極（２）と第２電極（３）とを形成する工程と、第１電極（２）と第２電極（３）との間に電圧を印加しながら、基板（１）の上に、半導体材料で形成された微結晶を形成する工程とを備えている。 - 特許庁

The manufacturing method of the organic EL device includes: a process of forming a pixel electrode upward an insulating substrate; a process of spraying powder for organic layer formation toward the pixel electrode and making the powder adsorbed on the pixel electrode; a process of forming an organic layer in which the powder is fused, fixed and adhered onto the pixel electrode; and a process of forming the counter electrode on the organic layer.例文帳に追加

絶縁基板の上方に画素電極を形成する工程と、有機層形成用の粉体を前記画素電極に向けて噴射し、前記粉体を前記画素電極の上に吸着させる工程と、前記粉体を溶融し、前記画素電極の上に固着した有機層を形成する工程と、前記有機層の上に対向電極を形成する工程と、を備えたことを特徴とする有機ＥＬ装置の製造方法。 - 特許庁

The manufacturing method of the wiring substrate comprises a process for applying liquid material (18) on a substrate to form coating film, a process for arranging the coating film between a first electrode and a second electrode opposed to the first electrode, a process for generating electric field between the first electrode and the second electrode, and a process for removing dispersion medium or solvent from the coating film to form the film.例文帳に追加

基板上に液体材料(18)を塗布し塗布膜を形成する工程と、第１電極と、前記第１電極と対向する第２電極との間に前記塗布膜を配置する工程と、前記第１電極と前記第２電極との間に電界を生じさせる工程と、前記塗布膜から分散媒または溶媒を除去し膜を形成する工程と、を含むことを特徴とする配線基板の製造方法である。 - 特許庁

The method for manufacturing the capacitor, which is equipped with the capacitor element 1 having the internal electrode 11 formed in it and the externally connecting electrode electrically connected to the internal electrode 11, includes a laser beam radiation process for radiating a laser beam on a surface of the internal electrode 11 and an electrode connecting process for connecting the internal electrode 11 and the externally connecting electrode.例文帳に追加

内部電極１１が形成されたコンデンサ素子１と、内部電極１１に導通接続された外部接続用電極と、を備えたコンデンサを製造する方法において、内部電極１１の表面にレーザ光を照射するレーザ光照射工程と、内部電極１１と外部接続用電極との間を接続する電極接続工程と、を含めた。 - 特許庁

This manufacturing method of the organic thin-film transistor has an electrode-forming process of forming a source electrode 103 and a drain electrode 104; an organic semiconductor layer process of forming an organic semiconductor layer 105, connected to the source electrode 103 and the drain electrode 104; and an aging process of heating the organic semiconductor layer 105 and applying an AC voltage to a portion between the source electrode 103 and to the drain electrode 104.例文帳に追加

本発明に係る有機薄膜トランジスタの製造方法は、ソース電極１０３及びドレイン電極１０４を形成する電極形成工程と、ソース電極１０３及びドレイン電極１０４に接続される有機半導体層１０５を形成する有機半導体層工程と、有機半導体層１０５を加熱し、ソース電極１０３及びドレイン電極１０４間に交流電圧を印加するエージング工程とを含む。 - 特許庁

This method of manufacturing the electrode material for a nonaqueous electrode secondary battery includes: a mixing process for mixing a vegetable waste and an elemental sulfur to obtain a mixture; and a heating process for heating the mixture put in a sealed container at 250-600°C.例文帳に追加

植物性廃棄物と硫黄単体とを混合して混合物とする混合工程と、混合物を密閉容器に入れ２５０℃〜６００℃で加熱する加熱工程と、を有する。 - 特許庁

To provide a diamond electrode excellent in durability because detachment and fissure of diamond films are protected in the deposition process of diamond and the use process as an electrode.例文帳に追加

ダイヤモンドの成膜過程及び電極としての使用過程においてダイヤモンド膜の剥離及び亀裂が生じることが防止され、耐久性が優れたダイヤモンド電極を提供する。 - 特許庁

The consumable electrode member 12 is used for an electrical discharge machining process device, mounted free to be replaced with an electrode part 10 of the electrical discharge machining process device and includes foaming metal.例文帳に追加

放電加工処理装置に使用され、該放電加工処理装置の電極部１０に交換できるように取付けられる、発泡金属を含む消耗電極部材１２を提供する。 - 特許庁

Regarding a positive electrode plate, a thickness Dp of a positive electrode mixture layer W2 of both sides of a positive current collector shall be Dp≤100 after a pressing process.例文帳に追加

正極板は、正極集電体両面の正極合剤層Ｗ２の厚さＤｐがＤｐ≦１００にプレス加工されている。 - 特許庁

To provide an electrode plate for a nonaqueous secondary battery designed to shorten a time in an electrode manufacturing process, and its manufacturing method.例文帳に追加

電極作製工程の時間短縮化を図る非水電解液二次電池用電極板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The electrode 3 is made closer to the metallic sheet 2 and electrical discharge is generated in a process that the interval between the electrode 3 and the metallic sheet 2 is varied.例文帳に追加

電極３を金属板２に接近させ、電極３と金属板２との間隔を変化させる過程で放電を発生させる。 - 特許庁

To provide a magnetic head assembly capable of strongly bonding the electrode pad of a slider and the electrode pad of a flexible wiring board by a simple process.例文帳に追加

スライダの電極パッドとフレキシブル配線基板の電極パッドを簡単な工程で強固に接合できる磁気ヘッドアッセンブリを得る。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for pixel electrode for a liquid crystal display device by which the manufacturing process of the pixel electrode for a liquid crystal display device is simplified and the manufacture cost thereof is reduced.例文帳に追加

製造工程を簡略化し、製造コストを低減した液晶表示器の画素電極の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a transistor element in which low voltage large current modulation can be carried out between the emitter electrode and the collector electrode, and to provide its fabrication process, a light emitting element, and a display having that transistor element.例文帳に追加

エミッタ電極−コレクタ電極間において、低電圧で大電流変調を可能とするトランジスタ素子を提供する。 - 特許庁

To suppress advance of siliciding of the other gate electrode at the time of forming a silicide film of an upper layer electrode film in a post-process.例文帳に追加

上層電極膜のシリサイド膜を後工程で形成する際に、他のゲート電極のシリサイド化の進行を抑制できるようにする。 - 特許庁

The sides of the silicon electrode 5 exposed at the process are covered by an insulating film 21 with the surface of the silicon electrode 5 exposed.例文帳に追加

シリコン電極５の表面を露出させた状態で、先の工程で露出したシリコン電極５の側壁を絶縁膜２１で覆う。 - 特許庁

To process a memory cell having a MONOS type gate electrode and each gate electrode of normal MOS transistors at the same time.例文帳に追加

ＭＯＮＯＳ型のゲート電極を有するメモリセルと、通常のＭＯＳトランジスタの各ゲート電極を同時に加工できるようにする。 - 特許庁

DEPOSITED FILM FORMING BY PLASMA CVD PROCESS, PLASMA GENERATING HIGH FREQUENCY ELECTRODE, AND PLASMA CVD APPARATUS CONSTITUTED OF THE ELECTRODE例文帳に追加

プラズマＣＶＤ法による堆積膜形成方法、及びプラズマ発生用高周波電極と該電極で構成したプラズマＣＶＤ装置 - 特許庁

So, the gate electrode of each transistor CMOS part Rc and a gate electrode of DRAM memory cell are manufactured in a common process.例文帳に追加

よって、ＣＭＯＳ部Rcの各トランジスタのゲート電極とＤＲＡＭメモリセルのゲート電極とを共通の工程により製造することができる。 - 特許庁

There are provided a process where a lower electrode 3 of a capacitor is formed above a semiconductor substrate 1, a process where a ferroelectrics film 4 is formed on the lower electrode 3, and a process where an upper electrode 5 is formed on the ferroelectrics film 4 by sputtering using DC pulse discharge.例文帳に追加

半導体基板１の上方にキャパシタの下部電極３を形成する工程と、下部電極３上に強誘電体膜４を形成する工程と、ＤＣパルス放電のスパッタにより上部電極５を強誘電体膜４の上に形成する工程とを含む。 - 特許庁

A process for forming the one-side electrodes 5 includes: a process for forming electrode films 5a by a deposition method between the plurality of separators 4; and a process for further arranging an electrode material (5a) on the formed electrode films 5a by the deposition method between the plurality of separators 4.例文帳に追加

その一方の電極５を形成する工程は、複数のセパレータ４同士間に蒸着法により電極膜５ａを形成する工程と、複数のセパレート４同士間における蒸着法で形成した電極膜５ａ上にさらに電極材料（５ａ）を配置する工程とを含む。 - 特許庁

After the arrangement process, positioning of the ground electrode 27 along a peripheral direction is carried out in the positioning process.例文帳に追加

配置工程の後、転造工程の前における位置合わせ工程では、周方向に沿った接地電極２７の位置合わせが行われる。 - 特許庁

Upon manufacturing an active carbon for electrode, a carbonizing process of a composite mesophase pitch and an alkaline-activating process of a carbonized compound are carried out.例文帳に追加

電極用活性炭を製造するに当り，合成メソフェーズピッチの炭素化処理および炭素化物のアルカリ賦活処理を行う。 - 特許庁

The termination method of the diamond electrode includes a rare gas terminating process for sputtering the surface of the diamond electrode 42, which is terminated by hydrogen, by a rare gas to terminate the diamond electrode 42 by the rare gas and a target substance terminating process for replacing the rare gas on the surface of the diamond electrode 42 with a target substance to terminate the diamond electrode 42.例文帳に追加

水素終端化されているダイヤモンド電極４２の表面を、希ガスをスパッタリングすることにより、当該希ガスで終端化する希ガス終端化工程と、そのダイヤモンド電極４２の表面の希ガスを、目的物質で置き換えて終端化する目的物質終端化工程とを備えるようにした。 - 特許庁

The stage of forming the second electrode 35a includes a process of forming an electrode film 355a by bringing the electrode film 355a of one of iridium, ruthenium, and alloy thereof into contact with the ferroelectric film 34a, and a process of forming an oxide electrode film 351a by subjecting the electrode film 355a to thermal oxidation.例文帳に追加

第２電極３５ａを形成する工程は、イリジウム、ルテニウム、及びこれらの合金のうちいずれか一つからなる電極膜３５５ａを強誘電体膜３４ａに当接させて形成する処理と、電極膜３５５ａを熱酸化して酸化物電極膜３５１ａを形成する処理と、を含む。 - 特許庁

The manufacturing method comprises an application process 11 in which an electrode agent is applied on the film shape metal foil for forming a film electrode and a roll press process 14 in which the film electrode is passed between the rolling rollers and the electrode agent is crimped on the film shaped metal foil, while at the same time the electrode agent adhered to the rollers is continuously wiped out.例文帳に追加

本発明は、フィルム状金属箔に電極剤を塗布してフィルム電極にする塗布工程１１と、回転するロール間にフィルム電極を通過させて電極剤をフィルム状金属箔へ圧着するとともに、ロールに付着した電極剤を連続的に払拭するロールプレス工程１４とを備えている。 - 特許庁

Above the lower electrode 20, an upper electrode 35 formed in the same process as that of a control gate electrode 75 is disposed via an insulation film 80 formed in the same process as that of an intergate insulation film 55 in the memory cell section.例文帳に追加

下部電極２０上には、メモリセル部でのゲート間絶縁膜７０と同一工程で形成された絶縁膜７０を介して、制御ゲート電極７５と同一工程で形成される上部電極３５が設けられている。 - 特許庁

Prior to the plating process, the method includes a plating resist film forming process of forming a plating resist film 10 at a part (electrode non-scheduled part 4) excluding an electrode scheduled part 3 where it is scheduled to form the electrode 21 in the inner surface 1n of the base body 1.例文帳に追加

メッキ工程に先立って、基体１の内表面１ｎのうち電極２１を形成する予定の電極予定部３を除いた部位（非電極予定部４）にメッキレジスト膜１０を形成するメッキレジスト膜形成工程を備える。 - 特許庁

The -Z surface side electrode forming process and +Z surface side electrode forming process are processes of forming electrodes on the +Z surface side and -Z surface side by vacuum-depositing metal, wherein the -Z surface side electrode 24 is formed via the insulation film.例文帳に追加

-Z面側電極形成工程及び+Z面側電極形成工程は金属を真空蒸着することによって+Z面側及び-Z面側に電極を形成する工程であり、-Z面側電極24は、絶縁膜を挟んで形成される。 - 特許庁

Preferably, this manufacturing method of the iontophoresis apparatus includes a first process of allowing the polarizable electrode to adsorb the second medical substance and a second process being executed after the first process and bringing the polarizable electrode in contact with the medical solution.例文帳に追加

好ましくは、分極性電極に第２の薬物を吸着させる第１工程と、第１工程の後に実施される第２工程であって、分極性電極に前記薬液を接触させる第２工程とを実施する。 - 特許庁

A sheet forming process to form a sheet 400 mainly composed of the carbon fibers, and a gas diffusion electrode forming process to form the gas diffusion electrode based on the sheet 400 formed in the sheet forming process are carried out.例文帳に追加

カーボン繊維を主要成分とするシート４００を形成するシート形成工程工程と、シート形成工程で形成したシート４００に基づいてガス拡散電極を形成するガス拡散電極形成工程とを実施する。 - 特許庁

It is desirable that a process for immersing the varistor after the ground electrode is formed in fatty acid water solution or fatty acid salt water solution and drying it is disposed between the ground electrode forming process and the primary plating process.例文帳に追加

また、下地電極形成工程と前記一次メッキ工程の間に、前記下地電極形成後のバリスタを脂肪酸水溶液または脂肪酸塩水溶液に浸漬させた後に乾燥させる工程をさらに備えることが好ましい。 - 特許庁