「feature patterns」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The content feature information and the user feature information respectively represent the features of the content and the user and are shown in predetermined patterns.例文帳に追加

コンテンツ特徴情報及びユーザ特徴情報は、それぞれ、コンテンツ又はユーザの特徴を表す情報であり、所定のパターンにより表されている。 - 特許庁

A multilayer substrate having repetitive patterns formed thereon is inspected, and position information of defects in the repetitive patterns and feature information of the defects are extracted.例文帳に追加

繰り返しパターンが形成された多層基板を検査し、繰り返しパターン内の欠陥の位置情報および前記欠陥の特徴情報を抽出する。 - 特許庁

An information processing system 10 extracts the plurality of patterns of subtrees from an information group with a tree structure, and generates the feature information of each of those extracted patterns, and classifies the patterns on the basis of the generated feature information of each of those patterns, and generates display information for displaying each pattern according to the classification result.例文帳に追加

情報処理システム１０は、木構造の情報群から部分木の複数のパターンを抽出し、抽出された各パターンの特徴情報を生成し、生成された各パターンの特徴情報に基づいて、当該各パターンを分類し、その分類結果に応じて各パターンを表示する表示情報を生成する。 - 特許庁

The image processing method searches for preset feature patterns in an image of a search object by scanning the image of the search object.例文帳に追加

探索対象の画像を走査して探索対象の画像内の所定の特徴パターンを探索する。 - 特許庁

A partial image feature value calculating unit 1045 calculates feature values corresponding to patterns of a plurality of partial images in the image corresponding to the respective partial images.例文帳に追加

部分画像特徴値計算部１０４５は、画像内の複数の部分画像のそれぞれに対応して、当該部分画像の模様に応じた特徴値を算出する。 - 特許庁

A partial image feature value calculating unit 1045 calculates feature values corresponding to patterns of a plurality of partial images in the image in accordance with the respective partial images.例文帳に追加

部分画像特徴値計算部１０４５は、画像内の複数の部分画像のそれぞれに対応して、当該部分画像の模様に応じた特徴値を算出する。 - 特許庁

A partial image feature value calculating unit 1045 calculates feature quantities corresponding to patterns of a plurality of partial images in accordance with the partial images in the image.例文帳に追加

部分画像特徴値計算部１０４５は、画像内の複数の部分画像のそれぞれに対応して、当該部分画像の模様に応じた特徴値を算出する。 - 特許庁

Unlike Edo-komon with a simple and stylish impression using fine geometrical patterns preferred by samurai, the feature of Kyo-komon is a colorful and free impression based on the yuzen patterns. 例文帳に追加

武士が好んだ細かな幾何学模様で簡素で粋な印象の江戸小紋とは違い、友禅模様を基本にした色鮮やかで伸びやかな印象が持ち味である。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The display patterns, when temporarily stopped a second time, have the common feature of being elliptical in outer shape, with this feature indicating the reliability with which the jackpot will be won (d).例文帳に追加

そして、２回目の仮停止を行った際の表示図柄は、いずれも外形形状がだ円であるという共通の特徴を持ち、この特徴が大当たり信頼度を示している（ｄ）。 - 特許庁

In case of comparing an input waveform data pattern with a plurality of internal waveform data patterns whose pattern start time is different, when there exists a plurality of internal waveform data patterns whose number of errors is smaller than a prescribed value, a feature section data pattern generation part 28 generates a feature section data pattern including the code of a feature section including a prescribed time based on the pattern start time of the plurality of internal waveform data patterns.例文帳に追加

入力波形データパターンと、パターン開始時刻が異なる複数の内部波形データパターンとの比較において、エラー数が所定より小さい内部波形データパターンが複数存在する場合に、特徴区間データパターン生成部２８は、複数の内部波形データパターンのパターン開始時刻に基づいて、所定の時刻を含む特徴区間の符号を含む特徴区間データパターンを生成する。 - 特許庁

Also, when an operation to move the marks cf-k on the feature distribution screen is performed, the CPU 11 replaces the same kind of feature data as in a feature input field 33-j out of four kinds of the feature data C-k of the phrase patterns pp-k corresponding to the marks cf-k by new feature data C-k corresponding to the positions of the destinations.例文帳に追加

また、ＣＰＵ１１は、この特徴分布画面におけるマークｃｆ−ｋを移動させる操作が行われると、そのマークｃｆ−ｋと対応するフレーズパターンｐｐ−ｋの４種の特徴データＣ−ｋのうち、特徴入力欄３３−ｊのものと同じ種類のものを、その移動先の位置に応じた新たな特徴データＣ−ｋに置き換える。 - 特許庁

The polishing dummy feature patterns are specifically tailored to a semiconductor device and polishing conditions used in forming the semiconductor device.例文帳に追加

研磨ダミーフィーチャパターンは半導体デバイス及び半導体デバイスの作製に使用される研磨条件に特に適合されている。 - 特許庁

To provide a feature extraction technique from image patterns that can obtain a high character identification performance with a small amount of data.例文帳に追加

少量のデータで高い文字識別性能がを得ることができる画像パターンからの特徴抽出技術を提供する。 - 特許庁

The metal patterns can be one, two, or three dimensional and have high resolution resulting in feature sizes in the order of micron down to nanometers.例文帳に追加

このパターンは一次元、二次元または三次元で、高い解像度であり、ミクロンからナノメーターのオーダーの特徴サイズをもたらす。 - 特許庁

The display patterns, when temporarily stopped a third time, have the common feature of having an outer form in the shape of the figure 7, with this feature indicating the reliability with which the jackpot will be won (f).例文帳に追加

また、３回目の仮停止を行った際の表示図柄は、いずれも外形形状が数字の７であるという共通の特徴を持ち、この特徴が大当たり信頼度を示している（ｆ）。 - 特許庁

A feature extractor 16 extracts feature value patterns Fmax and Fmin representing features of the complex demodulation signal, in analysis periods Ta1-TaN each having a period length of ΔT.例文帳に追加

特徴抽出器１６は、期間長ΔＴをそれぞれ有する解析期間Ｔａ１〜ＴａＮにおいて複素復調信号の特徴を表す特徴量パターンＦｍａｘ，Ｆｍｉｎを抽出する。 - 特許庁

This device calculates such a recess/projection feature quantity that the recessed/projections are formed into some patterns, calculates edge pairs from a directional edge image of the object image, and calculates such an image feature quantity that their interval satisfies a threshold.例文帳に追加

その凹凸が或るパターンとなる凹凸特徴量を算出し、対象画像の方向エッジ画像からエッジペアを算出し、その間隔が閾値を満たす画像特徴量を算出する。 - 特許庁

The inspection pattern image includes a plurality of positioning patterns corresponding to feature patterns present on the object of inspection, and an adhesion area that is the area where the film medium should be adhered.例文帳に追加

検査用パターン画像は、検査対象物上に存在する特徴的パターンに対応する複数の位置合わせパターン及び前記フィルム状媒体が貼り付けられるべき領域である貼付領域を含む。 - 特許庁

To attain robust collation with a small amount of calculation by moving feature points in a direction to enlarge the degree of similarity between both patterns when performing the collation on the basis of similarity at the feature points between two pattern images.例文帳に追加

２つのパターン画像間での特徴点での類似度に基づいて照合を行う際に、特徴点を両パターンの類似度が大きくなる方向に移動させて、少ない計算量でロバストな照合を可能にする。 - 特許庁

The geometrical feature quantities of a temporary character pattern, which temporarily integrates those adjacent partial character patterns is obtained (S5) and an evaluation value of the temporary character pattern is calculated from the geometrical feature quantities of the temporary character pattern and statistical feature quantities of the partial character pattern included in the temporary character pattern (S6).例文帳に追加

それらの隣接する部分文字パターンを仮に統合した仮文字パターンの幾何学的特徴量を求め（Ｓ５）、仮文字パターンの幾何学的特徴量とその仮文字パターンに含まれる部分文字パターンの統計的特徴量から、仮文字パターンの評価値を算出する（Ｓ６）。 - 特許庁

Based on the feature value patterns Fmax and Fmin, a discriminator 17 identifies whether the intruder enters a detection area by using a reference feature value pattern representing entry time of the intruder, and a reference feature value pattern representing non-entry time of the intruder.例文帳に追加

識別器１７は特徴量パターンＦｍａｘ，Ｆｍｉｎに基づいて、侵入物の侵入時を表す参照特徴量パターンと、侵入者の非侵入時を表す参照特徴量パターンとを用いて、検知領域に侵入者が侵入したか否かを識別する。 - 特許庁

The method has the first process for extracting a single or plurality of feature points from the image of the search object, and the second process for searching for the feature pattern based on a positional relation between each feature point extracted in the first process and reference points predetermined for the preset feature patterns.例文帳に追加

このとき、探索対象の画像から、単数または複数の特徴点を抽出する第１の工程と、前記第１の工程で抽出した特徴点の各々と、前記所定の特徴パターンに対して予め決められた参照特徴点との位置関係に基づいて、前記特徴パターンを探索する第２の工程とを有する。 - 特許庁

To flexibly generate a rhythm pattern with a specified feature and rhythm patterns which are similar and contradictory to an inputted motif rhythm pattern with simple constitution.例文帳に追加

指定された特徴を有するリズムパターンや、入力されたモチーフリズムパターンに類似／対比的なリズムパターンを簡単な構成で柔軟に生成する。 - 特許庁

Many model patterns are previously sorted into respective classes and a scale and shape expressing the feature of each class are selected class by class to prepare a model pattern vector.例文帳に追加

予め多くのモデルパターンをクラス毎に分類し、各クラスの特徴を表現する縮尺及び形をクラス毎に選択してモデルパターンベクトルを作成する。 - 特許庁

A selection circuit 53 selects optimum one of the plural halftone generating matrix patterns according to the combination of the feature values x1 and x2.例文帳に追加

選択回路５３は、特徴量ｘ１およびｘ２の組み合わせに応じて、その複数の中間調生成マトリックスパターンのうちの最適な一つを選択する。 - 特許庁

By this method, feature patterns which become candidates of a classification rule are generated automatically, further for example, a specific feature pattern as a classification rule which must be applied hereafter can be selected from the first set.例文帳に追加

このようにすれば、分類ルールの候補となる特徴パターンが自動的に生成され、さらに例えば第１の集合から、これから適用すべき分類ルールとして特定の特徴パターンを選択させることができるようになる。 - 特許庁

A pattern measuring apparatus and a computer program are proposed for extracting the feature quantities regarding one end of a pattern where a plurality of patterns is arranged, and another feature quantity regarding the other end of the pattern from a signal detected, based on scanning of charged particle beams, and for determining the types of spaces among the plurality of patterns based on the comparison of the two types of feature quantity.例文帳に追加

上記目的を達成するための一態様として、荷電粒子ビームの走査に基づいて検出される信号から、複数のパターンが配列されたパターンの一端側に関する特徴量と、当該パターンの他端側に関する特徴量を抽出し、当該２つの特徴量の比較に基づいて、前記複数のパターン間のスペースの種類を判定するパターン測定装置、及びコンピュータープログラムを提案する。 - 特許庁

Respective coefficients of a calculation expression for likelihood which is expanded into a power series of observation feature parameters for respective standard patterns are previously stored, the power of an inputted observation feature parameter is calculated (step S302), and the observation feature parameter and its power, and respective corresponding coefficients are applied to the calculation expression (step S305) for the respective standard patterns, thereby calculating the likelihood.例文帳に追加

各標準パターンに対する、観測特徴パラメータのべき級数に展開された尤度の算出式における各係数をあらかじめ記憶しておき、入力された観測特徴パラメータのべき乗を計算し（ステップＳ３０２）、各標準パターンに対して、観測特徴パラメータおよびそのべき乗と、対応する各係数とを上記算出式に適用する（ステップＳ３０５）ことにより、尤度を算出する。 - 特許庁

The feature amount extracting section calculates at least two plane patterns from the image data of each camera based on an identical actual image included in the common imaging section as feature amount information of the common imaging section.例文帳に追加

特徴量抽出部は、前記カメラ毎の画像データから前記共通撮影領域の特徴量情報として、前記共通撮影領域に存在する同一の実像に基づいた少なくとも２つの平面上パターンを算出する。 - 特許庁

This is compared with references by patterns to judge whether or not an image is a target image, and the flesh-color distribution feature quantity of the image data of the image which is not the target image is compared with a face image feature quantity table to judge whether or not the image is the target image.例文帳に追加

これをパターン別基準に照らして目的外画像か否か判断し、目的外画像でない画像データの肌色分布特徴量について、顔画像特徴量テーブルに照らし、目的外画像であるか否かを判断する。 - 特許庁

Data obtained by qualification in the qualifying means and preliminarily stored work feature patterns are compared with each other to extract features of an object work by a work feature extraction means, and a modeling means makes a model of the work in accordance with relations between works.例文帳に追加

定量化手段で定量化されたデータと予め記憶されている業務特徴パターンとを比較して業務特徴抽出手段が対象業務の特徴を抽出し、各業務間の関連からモデル化手段が業務をモデル化する。 - 特許庁

A pattern for constituting a position detecting mark used when a position detection on a substrate is carried out by an exposure device has a plurality of layers of patterns as a feature.例文帳に追加

基板上の位置検出を露光装置で行う場合に用いる位置検出マークを構成するパターンが、複数の層のパターンを有することを特徴とするものである。 - 特許庁

They also include short swords of relatively large size like famous Goto Toshiro and Hirano Toshiro, and those that feature a mixture of different wavy patterns. 例文帳に追加

また、名物後藤藤四郎（短刀）、名物平野藤四郎（短刀）のようにやや大振りのものから、刃文も湾れ（のたれ）に丁子を交えるなど乱れ刃主体のものもある。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

A feature extraction means maximize inter-class variance being between patterns corresponding to different classes inside of each pattern set and across two pattern sets and minimizes intra-class variance being variance between the patterns included in the same class.例文帳に追加

それぞれのパターンセットの内部、及び、２つのパターンセットまたがって、異なるクラスに対応するパターン間の散らばりであるクラス間分散を最大化し、同一のクラスに含まれパターンの間の散らばりであるクラス内分散を最小化する特徴抽出手段を備える。 - 特許庁

To provide a system and a method capable of measuring or detecting alignment patterns of an upper layer and one or a plurality of layers formed precedently before the formation of the next feature pattern.例文帳に追加

次のフィーチャパターンの形成前に、上部の層および先行して形成される１つまたは複数の層のアライメントパターンを測定または検出できるシステムおよび方法を提供する。 - 特許庁

A voice analysis means 3 calculates the feature parameters of the voice data string for study and the input voice data string and outputs standard patterns and a pattern for recognition.例文帳に追加

音声分析手段３は学習用音声データ列及び入力音声データ列に対しそれぞれ特徴パラメータを算出し、標準パターン及び認識用パターンを出力する。 - 特許庁

As a result, a patterned medium may be formed having one- or two-dimensional patterns with a feature pitch of 5-100 nm and/or a bit density of at least 1 Tdpsi.例文帳に追加

その結果、５〜１００ｎｍの特徴ピッチおよび／または少なくとも１Ｔｄｐｓｉのビット密度を有する一次元もしくは二次元のパターンを有するパターンド媒体が形成され得る。 - 特許庁

This correction information calculating device is equipped with a calculation part calculating correction information by comparing positions of a plurality of feature points in an imaged pattern obtained by imaging first and second measuring patterns D11, D12 projected on a projection object surface by first and second projectors with positions of a plurality of feature points on the original data of the first and second measuring patterns D11, D12.例文帳に追加

第１及び第２のプロジェクターにより被投写面上に投写された第１及び第２の測定用パターンＤ１１、Ｄ１２を撮影した撮影パターンに占める複数の前記特徴点の位置と、第１及び第２の測定用パターンＤ１１、Ｄ１２の元データ上の複数の特徴点の位置とを比較して、補正情報を算出する算出部とを備える。 - 特許庁

On the basis of a structural feature wherein each cross-section of the two coil patterns 31, 32 has the right and left asymmetric inverse trapezoidal shape, since a facing area between the two coil patterns 31, 32 which contributes to capacitance becomes as small as possible, the capacitance of the thin film coil 30 becomes as small as possible.例文帳に追加

２つのコイルパターン３１，３２の断面がいずれも左右非対称の逆台形状を有している構造的特徴に基づき、キャパシタンスに寄与する２つのコイルパターン３１，３２間の対向面積が可能な限り小さくなるため、薄膜コイル３０のキャパシタンスが可能な限り小さくなる。 - 特許庁

When a medium disposed with various patterns detected by multiple detecting parts detecting multiple types of feature quantities from paper sheets respectively is inserted, the respective detecting parts detect the multiple types of the feature quantities from the medium and compare the feature quantities detected by the medium with a prescribed reference value so as to determine the state of the device.例文帳に追加

この発明は、紙葉類から複数種類の特徴量をそれぞれ検出する複数の検知部にて検知される種々のパターンが配置された媒体が投入された場合、前記各検知部が前記媒体から複数種類の特徴量を検出し、前記媒体から検出した特徴量と所定の基準値とを比較して装置の状態を判定するようにしたものである。 - 特許庁

When a voice is inputted to a voice input part 2, a voice recognition part 1 takes a frequency analysis of the inputted voice to generate the feature pattern of words and match it against feature patterns of words registered in a recognition dictionary 6 and then outputs operation information corresponding to the feature pattern of matching or similar words to an operation part 4, thereby placing the operation part 4 in operation.例文帳に追加

音声入力部２に音声を入力すると、音声認識部１では入力された音声を周波数分析して言葉の特徴パターンを作成し、認識辞書６に登録されている言葉の特徴パターンと照合し、一致或いは近似する言葉の特徴パターンに対応する操作情報を操作部４へ出力し、操作部４を動作させる。 - 特許庁

To evaluate validity of a feature set for a small number of learning patterns by introducing a new index in a learning result by a support vector machine with regard to a classification problem.例文帳に追加

分類問題において、サポートベクターマシンでの学習結果における新たな指標を導入することによって、少ない学習パターン数においても特徴セットの有効性を評価することを可能にする。 - 特許庁

The face image recognition device extracts a nonlinear feature from a plurality of input patterns acquired from an identified object, and calculates the similarity between the generated input partial space and a predetermined registered dictionary partial space.例文帳に追加

識別対象から獲得した複数の入力パターンから非線形特徴を抽出し、生成した入力部分空間と予め登録していた辞書部分空間との類似度を算出する。 - 特許庁

The sound collating means 4 collates respective standard patterns throughout the entire section of the feature vector time series of the input speech to find collation result for each standard pattern as a time series.例文帳に追加

音響照合手段４では、各標準パタンを前記入力音声の特徴ベクトル時系列の全区間にわたって照合して各標準パタン毎に照合結果を時系列として求める。 - 特許庁

A feature point detection section 6 refers to the test patterns S_PTN1 to S_PTN4 and detects an event that fluctuates a power supply voltage V_DD of a power supply terminal P1.例文帳に追加

特徴点検出部６は、パターン発生器ＡＬＰＧが発生するテストパターンＳ_ＰＴＮ１〜Ｓ_ＰＴＮ４を参照し、電源端子Ｐ１の電源電圧Ｖ_ＤＤに変動を発生させるイベントを検出する。 - 特許庁