「fine-pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(26ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method of manufacturing a circuit board, capable of forming a highly-fine circuit pattern even for a large area, and to provide a surface pressure distribution sensor manufactured by using the method of manufacturing the circuit board.例文帳に追加

大面積であっても高精細に回路パターンを形成することができる回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a heat radiation substrate in which a fine circuit pattern can be formed and which is improved in heat radiation characteristics, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

微細回路パターンの形成が可能であるうえ、放熱特性が向上した放熱基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a fine pattern measuring method which can efficiently measure a large number of light proximity effect correction patterns by an easy method.例文帳に追加

簡便な方法で大量の光近接効果補正パターンを効率よく測定することができる微細パターン測定方法を提供する。 - 特許庁

Further, a data analysis unit 38 generates a relational chart between the differential peak values and focus positions, and calculates a difference in level of the fine pattern from the relational chart.例文帳に追加

また、データ解析部３８は、微分ピーク値とフォーカス位置の関係図を作成し、関係図から微細パターンの段差を算出する。 - 特許庁

A fine view is imparted to the surface by providing a pattern having a grade to the surface or the colored surface in the above-mentioned structure.例文帳に追加

前記構造においてその表面に品位のある模様又は着色を施したものを提供することでその美観を与えられる。 - 特許庁

To provide a paste composition for conductor/dielectric formation having high resolution even in a large film thickness and capable of forming a fine pattern.例文帳に追加

高膜厚でも高解像度が得られ、ファインパターン形成を可能とする導体／誘電体形成のためのペースト組成物を提供する。 - 特許庁

The columnar structures 17 are formed by an etching process using a fine dot pattern 16 formed on the substrate 11 as a mask.例文帳に追加

柱状構造体１７は、基板１１上に形成された微細なドットパターン１６をマスクとして利用したエッチングプロセスで形成される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method and equipment of an EL (electroluminescence) element simple to constitute and easy to manufacture, and capable of forming a fine luminescent pattern.例文帳に追加

簡単な構成で製造が容易であり、微細な発光パターンを可能にしたＥＬ素子の製造方法と製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing molding rolls whereby the seamless rolls having an accurate fine bumpy pattern can be formed in a simple process.例文帳に追加

シームレスで精度の良い微細凹凸パターンを有するロールを、簡単な工程で形成できる成形ロールの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a phase shift mask for forming a fine line pattern at a relatively low cost and to provide an exposure method using the mask.例文帳に追加

比較的低コストで微細なラインパターンを形成することが可能な位相シフトマスク及びそれを用いた露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a fine pattern with high accuracy and high alignment accuracy in a fewer number of processes.例文帳に追加

本発明は、工程数が少なく、高精度かつ高アライメント精度で微細パターンを形成できる方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device preventing an increase of manufacturing process time and capable of forming a fine line and space pattern.例文帳に追加

製造工程時間の増加を抑制して、微細なラインアンドスペースパターンを形成可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To efficiently perform transfer in a transfer system which transfers a fine transfer pattern formed on a sheet-like mold to a molded article.例文帳に追加

シート状のモールドに形成されている微細な転写パターンを被成型品に転写する転写システムにおいて、転写を効率よく行う。 - 特許庁

To provide a multilayered circuit board and its manufacturing method where a fine circuit pattern is formed at high precision and peeling is suppressed.例文帳に追加

微細で高精度な回路パターンが形成され、剥がれの発生が抑制された多層回路基板およびその製造方法を提供する - 特許庁

To form a fine pattern of uniform line width with high accuracy by reducing focus error caused by flexure of mask.例文帳に追加

マスクの撓みに起因するフォーカス誤差を低減することにより、均一な線幅の微細なパターンを高い精度で形成できるようにする。 - 特許庁

To easily rapidly inspect a mask with accuracy beyond necessary accuracy even when a pattern to be formed on a substrate is made fine.例文帳に追加

基板に形成すべきパターンが微細化しても容易且つ迅速に必要となる精度以上の精度でマスクを検査できるようにする。 - 特許庁

To provide a substrate drying method capable of drying a fine-patterned semiconductor substrate at a low cost while preventing pattern collapse.例文帳に追加

微細パターンが形成された半導体基板を、パターン倒壊を防止しつつ、低コストに乾燥させる基板乾燥方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a molded body with a fine pattern on its surface, while adequately preventing wrinkles and transfer failure.例文帳に追加

皺や転写不良の発生を充分に抑えることができる、微細パターンを表面に有する成型体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a circuit board wherein a patterning process is unnecessary, productivity is high and circuit formation is enabled with fine pattern.例文帳に追加

パターンニング工程を必要とすることなく生産性高く、しかもファインパターンで回路形成をすることができる回路基板を提供する。 - 特許庁

To perform a fine and highly accurate pattern printing by intensely pressing a printing mask and a base sheet to each other without deforming the printing mask.例文帳に追加

印刷マスクを変形させずに印刷マスクと基板とを強く密着させることにより、微細かつ高精度のパターン印刷を行う。 - 特許庁

To provide a method for forming a conductor pattern and a method for manufacturing an inductor, by which a fine high aspect line can be formed stably.例文帳に追加

微細高アスペクトラインを安定して形成することができる導体パターンの形成方法およびインダクタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device for achieving a fine-pitch pattern and improving stability in patterning precision.例文帳に追加

微細ピッチのパターンを実現可能であってパターニング精度の安定性を向上できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a printed wiring board with a fine circuit pattern which can be electrically connected to a counter wiring board.例文帳に追加

相手方配線基板との電気的接続を確保し得る微細な回路パタ−ンを備えたプリント配線板の製造法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a fine pattern in a semiconductor element so that CD control is possible, and spaces between cell lines are different from one another.例文帳に追加

ＣＤ制御を可能にし且つセルのライン間のスペースを異にするための半導体素子の微細パターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of optical element capable of easily performing fine adjustment of optical characteristics in the lamination direction, and to provide a thin-film pattern substrate.例文帳に追加

積層方向の光学特性を容易に微調整可能な光学素子の製造方法、および薄膜パターン基板を提供する。 - 特許庁

To form a fine pattern eliminating a residue of a resist layer when imprinting by a nanoimprint device and to manufacture a bit patterned medium of a high density.例文帳に追加

ナノインプリント装置におけるインプリント時のレジスト層の残渣を無くして、微細なパターンの形成、高密度なビットパターンド媒体を製作する。 - 特許庁

To provide a treatment method capable of surely treatment the inside of a recess in a trench, a contact hole, a deep pattern, or a fine hole of a porous substrate.例文帳に追加

トレンチ、コンタクトホール、ディープパターン、或いは多孔質基板の細孔等の窪み内を確実に処理しうる処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a metal fine particle-containing resin particle, a metal fine particle-containing resin layer and a method for forming the metal fine particle-containing resin layer by which an efficient electroless plating is made possible and a more uniform metal conductive pattern layer is formed by forming a layer which allows an easy control of the etching thickness on the surface of an underlying pattern layer forming a pattern.例文帳に追加

パターンを形成する下地パターン層の表面にエッチングする厚さを容易にコントロールすることができる層を形成することにより、効率的な無電解めっき処理が可能となり、より均一な金属導体パターン層を形成することができる金属微粒子含有樹脂粒子、金属微粒子含有樹脂層および金属微粒子含有樹脂層の形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a semiconductor element which can prevent misalignment in forming a contact hole to expose a fine pattern.例文帳に追加

微細なパターンを露出させるためのコンタクトホールの形成時、ミスアラインメントを防止できる半導体素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To excellently embed Cu into a fine pattern of a semiconductor device, and to suppress diffusion of the Cu into an interlayer insulating film.例文帳に追加

半導体装置において、微細パターンへのＣｕの埋め込みを良好にし、且つＣｕの層間絶縁膜中への拡散を抑制する。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF MOLD FOR MOLDING FINE PATTERN, OPTICAL PART MOLDED USING MOLD AND LIGHT CONTROL PLATE FOR SURFACE LIGHT SOURCE ELEMENT例文帳に追加

微細パターン成形用金型の製造方法、並びにこの金型を用いて成形した光学部品および面光源素子用光制御板 - 特許庁

POLYMER MEMBRANE FOR HARD MASK COMPOSED OF TETRAHEDRAL CARBON COMPOUND AND ITS PRODUCING METHOD, AND METHOD FOR FORMING FINE PATTERN USING IT例文帳に追加

四面体炭素化合物からなるハードマスク用のポリマー膜及びその製造方法、並びにそれを利用した微細パターンの形成方法 - 特許庁

Continuously, a first resist film having a fine first pattern is formed on the hard mask film for patterning of the hard mask film (S108).例文帳に追加

つづいて、ハードマスク膜上に微細な第１のパターンを有する第１のレジスト膜を形成してハードマスク膜をパターニングする（Ｓ１０８）。 - 特許庁

To make a photomask responding to a fine design rule in a short exposure time by using a conventional pattern design tool and an exposure apparatus.例文帳に追加

微細な設計ルールに対応したフォトマスクを、既存のパターン設計ツールや露光装置を利用して、短い露光時間で作成する。 - 特許庁

To provide an aligner which enables exposure under the optimum illumination condition, without depending on the directivity of fine pattern on a reticle.例文帳に追加

レチクル上の微細パターンの方向性に依存することなく、最適な照明条件にしたがって露光を行うことのできる露光装置。 - 特許庁

To make usable of copper powder as a filler for electric conductive ink suitable to form ultra-fine wiring pattern with an ink-jet system.例文帳に追加

インクジェット方式等で超微細配線パターンを形成するのに好適な導電インクのフイラーとして，銅粉を使用できるようにする。 - 特許庁

To provide an etching method capable of comparatively safely forming a fine pattern with high precision on a silicon carbide substrate.例文帳に追加

シリコンカーバイド基板上に微細パターンを比較的安全に且つ高精度に形成することが可能なエッチング方法を提供すること。 - 特許庁

A fine channel is formed by growing vertically a water-repellent nano wire at a catalyst pattern site formed on a hydrophilic substrate.例文帳に追加

親水性基板上に形成させた触媒パターン位置に、撥水性を有するナノワイヤを垂直成長させて、微細流路を製造する。 - 特許庁

The fine grains 12 are charged when being jetted from the atomizer 14 and selectively electrostatically adsorbed in the pattern forming region of the board 38.例文帳に追加

微粒子１２は、アトマイザー１４から吐出された際に帯電し、基板３８のパターン形成領域に選択的に静電吸着される。 - 特許庁

To provide a method of developing a resist, capable of obtaining a fine resist pattern of designed dimensions and to provide an apparatus for developing a resist.例文帳に追加

設計された寸法の微細レジストパターンを得ることを可能とするレジスト現像方法およびレジスト現像装置を提供すること。 - 特許庁

Therefore, the first conductive film 11 is set thin, whereby the first conductive wiring layer 11A can be formed into a fine pattern.例文帳に追加

従って、第１の導電膜１１を薄く形成することにより、導電配線層１１Ａを微細なパターンとすることが可能となる。 - 特許庁

The fine pattern is formed on the material 14 by superimposing the laminated body 10 on the die 30 and passing the superimposed body through between rolling rolls.例文帳に追加

積層体１０と型３０を重ね合わせて圧延ロール間に通すことにより、被加工材１４に微細パターンを形成する。 - 特許庁

The printing control pattern 60 can be composed of a region (60) having high water repellency, a fine recessed structure or protruded structure, or columnar bodies.例文帳に追加

印刷制御パターン６０は、撥水性の高い領域（６０）、微小な凹構造または凸構造または柱状体により構成できる。 - 特許庁

To provide an inspection apparatus which is capable of properly inspecting a fine pattern keeping an environment, where a semiconductor wafer or the like is inspected, maintaining high cleanliness.例文帳に追加

半導体ウェハ等の検査を行う環境を高いクリーン度に保ち、微細なパターンの検査を適切に行うことを可能にする。 - 特許庁

To provide a method for obtaining a desired cross-sectional shape as a cross-sectional shape of a fine groove pattern composed of a photosensitive resin material.例文帳に追加

感光性樹脂材料からなる、微細溝パターンの断面形状を、希望とする断面形状に得るための方法を提供する。 - 特許庁