「fine-pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(25ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an X-ray projection aligner which can compensate for the magnification of projection and enables a desired fine pattern to be laid, with high accuracy on the circuit pattern on a wafer, prior to exposure.例文帳に追加

投影倍率の補正ができ、所望の微細パターンをウエハ上の回路パターンに高精度に重ねて露光することができるＸ線投影露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing the same of a nanoparticle thin film pattern which makes fine patterning possible, a circuit pattern forming method, a nanoparticle thin film suited to it, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

微細なパターンニングを可能とするナノ粒子薄膜パターンの製造方法、回路パターン形成方法およびこれに適したナノ粒子薄膜およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To efficiently form a fine magnetized pattern more accurately in the technology of forming a magnetized pattern on a magnetic disk by combining local heating and external magnetic field application.例文帳に追加

局所加熱と外部磁界印加を組み合わせて磁気ディスクに磁化パターンを形成する技術において、微細な磁化パターンを効率よく更に精度よく形成することができるようにする。 - 特許庁

The fine adjustment alignment target 31 formed at a cross part with the scribe line 29Y in the Y-direction is used for alignment, after a metal pattern 30 is formed at the edge part of each chip pattern 21.例文帳に追加

各チップパターン２１のエッジ部にメタルパターン３０を形成した後のアライメントには、Ｙ方向のスクライブライン２９Ｙとの交差部に形成する微調アライメントターゲット３１を使用する。 - 特許庁

The mold 7 is obtained by applying metallurgical treatment, which uses a fine powder 6 comprising a metal or ceramic powder, to a substrate 1, which has a predetermined formed pattern 4, on the side of the formed pattern 4.例文帳に追加

所定の形成パターン４を有した基板１の形成パターン４側に金属粉末もしくはセラミック粉末からなる微粉末６を用いた冶金処理を施して金型７を得る。 - 特許庁

In this way, the electroformed product 3 having the fine pattern formed on the surface can be produced without damaging the pattern of the electroformed product 3 and also, causing the softening of the electroformed product 3.例文帳に追加

これにより、電鋳品３のパターンを傷つけたり、電鋳品３の軟化を引き起こすことなく、微細なパターンが表面に形成された電鋳品３を製造することができる。 - 特許庁

To express a woven pattern representing a woven fabric by the brightness of a jewelry in a foil-clad yarn cut in a fine width by forming a pattern layer on a sheet base material and then assuring a yarn sequence.例文帳に追加

シート基材上に模様層を形成した後これを糸順を確保して細幅に裁断した引箔糸において、織物に宝石の輝きで表現した織模様を表すこと - 特許庁

HIGHLY FINE PATTERN FORMING RELIEF PRINTING PLATE, PLANAR PHOTOSENSITIVE RESIN LAMINATE, ELECTRONIC CIRCUIT PATTERN, FORMING METHOD OF ORGANIC EL ELEMENT, ORGANIC EL ELEMENT, AND ORGANIC EL DISPLAY例文帳に追加

高精細パターン形成用凸版および板状感光性樹脂積層体ならびに電子回路パターンならびに有機ＥＬ素子の形成方法ならびに有機ＥＬ素子ならびに有機ＥＬディスプレイ - 特許庁

To provide a method for manufacturing a photomask and a pattern by which degeneracy of lines in an isolated fine exposure pattern can be easily improved and reliability is improved, and to provide a semiconductor device.例文帳に追加

孤立した微細な露光パターンに対するライン縮退改善が容易にでき、信頼性の向上するフォトマスク及びパターン作製方法及び半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a metallic mold for press-molding a glass made optical device having a mold pattern easily reflecting a fine pattern and improved precision and a method of producing the same.例文帳に追加

微細な形状を容易に金型形状に反映でき、金型精度を高めることが可能な、ガラス製光学素子のプレス成形用金型およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the moth-eye structure, apexes and side surfaces of a structure pattern are constituted of resin layers and, thus, the fine structure pattern can be formed as moderate conical shapes.例文帳に追加

本発明のモスアイ構造体は、構造パターンの頂点および側面が樹脂層で構成されることにより、微細構造パターンをなだらかな錐形の形状にすることが出来る。 - 特許庁

To provide a single particle pattern laminated membrane of high quality having functional fine particles formed only to the desired pattern region on the surface thereof in a single-layered state, and its manufacturing method.例文帳に追加

表面に機能性微粒子が所望のパターン領域のみに単層状態で形成された、高品質な単粒子パターン積層薄膜、及び、その製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a fine pattern with a high aspect in a plastic material consisting of a UV-curing resin, to provide optical parts having the pattern and to provide a method for manufacturing the parts.例文帳に追加

紫外線硬化樹脂のプラスチック材に微細で高アスペクトの微細なパタンを形成する方法、及びそのようなパタンを備える光学部品、並びに、その製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of forming fine patterning of a semiconductor device in which patterns differing in pattern density or pattern width and having various sizes and various pitches are formed on one substrate at the same time.例文帳に追加

同じ基板上にパターン密度またはパターン幅の相異なる多様な大きさ及び多様なピッチのパターンを同時に形成できる半導体素子の微細パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition having enhanced lithographic characteristics and capable of forming fine resist pattern having a satisfactory shape in a resist film having a super thin film, and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

超薄膜のレジスト膜において、リソグラフィー特性が向上し、良好な形状の微細なレジストパターンを形成することができるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a material for forming a low-resistance extra-fine conductive pattern having a dense film condition and small surface roughness; a conductive pattern formation method; and a wiring board.例文帳に追加

膜状態が緻密で、表面粗さの小さい、低抵抗の微細導電性パターンを形成するための材料、導電性パターン形成方法および配線基板を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist ink having a property suitable for forming a fine resist pattern by a reverse printing method, and a method for forming the resist pattern by using such resist ink.例文帳に追加

微細なレジストパターンを反転印刷法により形成するのに適した性質を備えたレジストインキならびにそのようなレジストインキを用いたレジストパターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁

To obtain an insulating resin composition having characteristics excellent in high adhering property of a circuit pattern, fine pattern-forming property, high heat resistance, low thermal expansion coefficient, or the like, and to provide a multi-layered printed circuit board.例文帳に追加

回路パターンの高密着性、微細パターン形成性、高耐熱性、低熱膨張率などに優れた特性の絶縁性樹脂組成物および多層プリント配線板を提供する。 - 特許庁

The forming method is repeated to form a first layer 6a, a second layer 6b and a third layer 6c of the pattern layer 6 to produce a mold precursor 7 with the fine pattern formed thereon.例文帳に追加

前記の形成方法にて繰り返し、一層目６ａ、二層目６ｂ、三層目６ｃとパターン層６の形成を行い、微細パターンを形成した金型原版７を作製した。 - 特許庁

To provide a roll coater capable of controlling to decrease the error of the coating thickness of a coating resin, small in the variation of the dimension of a formed pattern and capable of forming a fine pattern.例文帳に追加

コーティング樹脂の塗膜厚みの誤差の少ない管理を可能にし、かつ形成されるパターン寸法のバラツキが小さく、微細なパターンの形成が可能となるロールコータを提供する。 - 特許庁

To provide a fine-pattern drawing method for drawing while uniformly keeping a coating space of drops even in not only a straight line but also a complex pattern profile mixed with a curve, and to provide its apparatus.例文帳に追加

直線のみならず曲線を交えた複雑なパターン形状においても、液滴の塗布間隔を均一にして描画する微細パターンの描画方法およびその装置を提供する。 - 特許庁

To provide a printed wiring board wherein a fine circuit pattern is achieved using "additive method" or "semi-additive method" and the variation in the height (thickness) of the circuit pattern is sufficiently suppressed.例文帳に追加

「アディティブ法」や「セミアディティブ法」を用いて回路パターンの微細化を図ったプリント配線板であって、回路パターンの高さ（厚さ）のばらつきが十分に抑えられたプリント配線板を提供する。 - 特許庁

The present invention discloses a mask for forming a fine pattern to completely transfer a first and a second pattern from the mask through a double patterning step onto a transfer object below, and a method for forming the mask.例文帳に追加

二重パターニング工程でマスク上の第１及び第２パターンをそのまま下部の被転写物に転写させる微細パターンを形成するためのマスク及びその形成方法である。 - 特許庁

In the heat shrinkable film with the perforated line made of a row of fine and small holes, the perforated line (1) is made of a row of the fine and small holes constructed by repeating a unit pattern (U) in which the hole pitches of the fine and small holes (2) roughly closely change.例文帳に追加

微小孔の列からなる切取り線が形成された切取り線付き熱収縮性フィルムであって、該切取り線（１）は、微小孔（２）の孔ピッチが粗密に変化して並ぶ単位パターン（Ｕ）の繰り返しで構成された微小孔の列からなる。 - 特許庁

The light pervious resin plate P1 is constituted by forming fine unevenness 21 on the whole of the one side 2 of the light pervious resin plate 1 and partially forming pattern parts 4, of which the fine unevenness is larger than the fine unevenness of one side of the light pervious resin plate, to the other surface 3 thereof.例文帳に追加

透光性樹脂基材１の片面２全面に微細な凹凸２１を形成すると共に、他面３に前記片面の微細凹凸より大きな凹凸の模様部４を部分的に形成した構成の透光性樹脂板Ｐ１とする。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist underlay film having a function as an antireflection film as well as excellent pattern transfer performance and etching resistance, and causing no bend in a pattern during transferring a fine pattern, and to provide a composition for a resist underlay film used for the above method, and a pattern forming method.例文帳に追加

反射防止膜としての機能を有するとともに、パターン転写性能及びエッチング耐性に優れ、微細化したパターンの転写時においてもパターンが曲がらないレジスト下層膜形成方法及びそれに用いるレジスト下層膜用組成物並びにパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition excellent in pattern collapse margin with excellent fine pattern formation, excellent pattern shape, and less development defect even in not only normal exposure (dry exposure) but also immersion exposure, and to provide a pattern forming method using it.例文帳に追加

通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光においても、微細で良好なパターン形成が可能で、パターン形状が良好であり、現像欠陥が極めて少なく、且つパターン倒れマージンに優れた、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an imprint mold which is capable of forming a fine mold pattern with high pattern accuracy and is capable of finally removing a thin film pattern formed for etching processing on a substrate, without damaging the mold pattern.例文帳に追加

インプリント用モールドの製造において微細なモールドパターンを高いパターン精度で形成することができ、しかも基板をエッチング加工するために形成した薄膜パターンを最終的にモールドパターンにダメージを与えないように除去できるインプリント用モールドの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a nanoimprint mold manufacturing method and a resist pattern formation method capable of preventing a resist pattern shape from deteriorating even in an atmosphere in which oxygen exists and forming a fine transfer pattern in means for improving dry etching resistance of a resist pattern via electron beam irradiation.例文帳に追加

電子線照射によるレジストパターンのドライエッチング耐性を向上させる手段において、酸素が存在する雰囲気中でも、レジストパターンの形状劣化を防止し、微細な転写パターンを形成することを可能とするナノインプリント用モールドの製造方法およびレジストパターンの形成方法を提供する - 特許庁

To provide a resist pattern thickening material, which can utilize ArF laser light, which can thicken a resist pattern regardless of the size by only applying the material on the ArF resist pattern or the like, which is excellent in etching durability and capable of easily and inexpensively forming a fine resist space pattern or the like exceeding an exposure limit.例文帳に追加

ＡｒＦレーザー光を利用でき、ＡｒＦレジストパターン等上に塗布等するだけで、そのサイズ依存性なく厚肉化可能で、エッチング耐性に優れ、露光限界を超えて微細なレジスト抜きパターン等を低コストで簡便に形成可能なレジストパターン厚肉化材料等の提供。 - 特許庁

To provide a printed matter with a character on a part of a color pattern in which by applying no restriction on a color pattern constituting the printed matter and constituting with a fine character utilizing a part of the color pattern, it is constituted of only the color pattern by the naked eyes, but it can be recognized only by those who know the information that the fine character exists on the genuine article.例文帳に追加

印刷物を構成する彩紋模様に制限をかけず、彩紋の一部を利用した微小な文字で構成することで、肉眼では単に彩紋模様が構成されているように認識されるが、その情報を知っている者に限り、真正品には当該微小文字の存在が認識可能な彩紋の一部に文字を有した印刷物を提供する。 - 特許庁

To conquer chipping of a resist pattern and instability of a resist pattern in a low exposure region, which become problematic when a fine pattern is formed using a laminate comprising a substrate, a photosensitive resin layer and a support layer in circuit formation for a printed wiring board, a flexible wiring board, a TAB substrate or a COF substrate, and to provide a stable fine resist pattern and a circuit.例文帳に追加

プリント配線板、フレキシブル配線板、ＴＡＢ基板、ＣＯＦ基板の回路形成において、基材と感光性樹脂層と支持体層からなる積層体をもちいてファインパターンを形成する際問題となる、レジストパターンの欠損、低露光領域下でのレジストパターンの不安定を克服し、安定したファインなレジストパターンおよび回路を提供することを目的とする。 - 特許庁

For instance, by pressing a mold including a part having a fine pattern of lines and spaces and a part not having the fine pattern to the polymer liquid crystal, a part aligned in a specified direction and a part of random alignment are intentionally arranged and simultaneously formed in the liquid crystal.例文帳に追加

たとえば、ラインアンドスペースの微細パターンを有する部分と有しない部分とを含むモールドを高分子液晶に押し付けることによって、当該液晶中に、特定方向へ配向した部分と配向がランダムな部分とを意図的に配置して同時に形成する。 - 特許庁

To provide a method of forming a fine pattern having the width and the diameter of the pattern of ≤100 nm and an excellent uniformity (uniformity in surface) in an ultra-fine manufacturing process using a high energy light beam of which the wavelength is 200 nm or smaller or an electron beam.例文帳に追加

波長２００ｎｍ以下の高エネルギー光または電子線を用いた極微細加工プロセスにおいて、パターン幅や径が１００ｎｍ以下でユニフォーミティー（面内均一性）などの点においても優れる微細パターンの形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The exposure of the substrate P during relative scanning includes performing fine period exposure using a fine period mask pattern formed in the first region of the mask M1 and middle density exposure using a middle density mask pattern formed in the second region of the mask M1.例文帳に追加

相対走査中に基板Ｐを露光することは、マスクＭ１の第１領域に形成された微細周期マスクパターンを用いる微細周期露光と、マスクＭ１の第２領域に形成された中密度マスクパターンを用いる中密度露光とを、ともに行うことを含む。 - 特許庁

To provide a method for releasing an optical element to be able to protect occurring of a crack or a defect on a fine pattern and to improve poor releasing by dispersing impact strength in contact with molded glass when releasing to a plurality of times and protecting excessive stress on the fine pattern.例文帳に追加

離型の際のガラス成形品への接触による衝撃力を、複数回に分散させ、微細パターンへ過大な応力がかかることを防ぎ、微細パターンのワレ、カケなどを防ぐと共に、離型不良を改善できる光学素子の離型方法を提供する。 - 特許庁

To provide a conductive circuit device that can simplify its manufacturing process by forming a fine pattern, can significantly reduce environmental burdens, and can be manufactured continuously at a high speed without causing the omission etc., of the fine pattern, and to provide a method of manufacturing the device.例文帳に追加

ファインパターンの形成が可能で、生産工程を簡素化することができ、環境負荷を著しく軽減することができ、ファインパターンの欠落などを起こさず、高速かつ連続して製造できる導電性回路装置とその作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a copper foil for a fine pattern printed circuit, which has adequate adhesive strength to a resin substrate, solves problems such as remaining copper and narrowing of a wiring line occurring when forming a fine pattern, and has superior heat resistance and electric characteristics; and to provide a manufacturing method therefor.例文帳に追加

樹脂基板との間で充分な接着強度を有し、ファインパターン形成時の残銅、配線ラインの足喰われ等の問題を解消し、耐熱性、電気特性においても優れたファインパターンプリント配線用銅箔及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

In the cleaning method, at first, superheated steam is sprayed from a steam nozzle to the fine pattern surface, thereby, steam is caused to penetrate to the inner part of fine grooves and particles are moistened by dew condensation.例文帳に追加

本発明の洗浄方式は、まず初めに微細パターン面に蒸気ノズルから過熱水蒸気ガスを噴射して微細溝内部に蒸気を侵入させ、結露によってパーティクルを湿潤させる。 - 特許庁

To provide a terminal connecting method of an extra-fine wire and a terminal connecting part wherein a single wire conductor of the extra-fine wire can be connected easily and strongly with a conductor pattern such as an FPC or a printed-circuit board or the like.例文帳に追加

極細線の単線導体を、ＦＰＣやプリント基板等の導体パターンに容易かつ強固に接続できる極細線の端末接続方法及び端末接続部を提供する。 - 特許庁

Therefore, an incident light into the decorative material 100 from the transparent substrate 10 side is partly reflected at the fine uneven part 40, a clear pattern can be obtained at a position corresponding to the fine uneven part 40.例文帳に追加

そのため、透明基材１０側から加飾材１００に入射する光は、一部が微細凹凸部４０で反射されるようになり、微細凹凸部４０に対応する位置に鮮明な図柄が得られる。 - 特許庁

To prevent a film formation from fine particles produced in a laser CVD as a CVD nucleus and the film edge from swelling outside the laser irradiation pattern in a conventional correction method of fine clear defect.例文帳に追加

従来び白欠陥の修正方法では、レーザＣＶＤ時に生成した微粒子がＣＶＤの核となり膜が形成され、レーザ光の照射形状の外側に膜のエッジが膨らんでしまう。 - 特許庁

The fine dot pattern 16 is obtained by introducing a mask material (noble metal, especially gold) into fine pillar pores 14 of a porous film 45 formed on the substrate 11 and then removing the film 45 therefrom.例文帳に追加

微細なドットパターン１６は、基板１１上に形成した多孔質膜４５の柱状の細孔１４内にマスク材料（貴金属、とくに金）を導入した後に多孔質膜４５を除去して得られる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a magnetic disk, which both has flatness and permits the application of a fine control pattern.例文帳に追加

磁気ディスクの平坦度と該磁気ディスクの高精細な制御パターンの印加とを両立させた磁気ディスクの作製方法を提供する。 - 特許庁

To prevent a resist from falling caused by the cohesive force of a liquid present between the resist patterns and to form a fine resist pattern with a high aspect ratio.例文帳に追加

レジスト間に存在する液体の凝集力に起因するレジスト倒壊を防止し、高アスペクト比の微細レジストパターンを形成する。 - 特許庁