「fine-pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(28ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method of forming a mask pattern capable of overcoming the limit of resolution even in an already-provided exposure apparatus when exposing a photosensitive film and of making it possible to form a fine pattern below the resolution.例文帳に追加

感光膜を露光する場合に既設の露光装備であっても解像度の限界を克服でき、解像度以下の微細パターンの形成を可能とするマスクパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mask for vacuum deposition suitably used for forming a fine thin film pattern by vacuum deposition and also to provide a method for depositing a thin film pattern and a method for manufacturing an EL (electroluminescence) element using the mask.例文帳に追加

微細な薄膜パターンを真空蒸着して形成するのに好適な真空蒸着用マスク、それを用いた薄膜パターンの形成方法及びＥＬ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive resin composition having high exposure sensitivity to i-line, forming a fine pattern free from peeling particularly in development and excellent in heat resistance, a method for producing a pattern using the composition and electronic parts.例文帳に追加

ｉ線に対する露光感度が高く、特に現像時に微細パターンの剥離の無い、耐熱性に優れるポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターンの製造法の提供。 - 特許庁

To provide a method of fabricating an electromagnetic wave shielding material which can form a fine metal pattern with high accuracy without carrying out an etching process, and which can achieve good adhesion between the metal pattern and a substrate.例文帳に追加

エッチング工程を行うことなく、微細な金属パターンを高精度で形成することができ、該金属パターンの基材との密着性も良好な、電磁波シールド材料の作製方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist composition used in production of semiconductor devices, etc., giving a fine pattern of a good profile even on a special substrate, excellent in storage stability, and capable of pattern formation with high sensitivity.例文帳に追加

半導体素子等の製造に於て用いられる、特殊基板上でも形状の良好な微細パターンが得られ、保存安定性に優れ、且つ高感度でパターン形成可能なレジスト組成物の提供。 - 特許庁

To make the shrinkage quantity of an opening part constant irrelevantly to whether a resist pattern is fine or coarse by a method of reducing the opening part by baking the resist pattern having been formed and making resist flow.例文帳に追加

本発明の課題は、レジストパターン形成後にベークしてレジストをフローさせて開口部を縮小する方法において、パターンの疎密にかかわらず開口部分の縮小量を一定にすることである。 - 特許庁

To provide a method for finely processing a glass substrate where recessed parts are formed on the surface of the glass substrate and a fine recessed and projecting pattern being highly accurate and having a high aspect ratio can be easily formed and to provide the glass substrate having the recessed and projecting pattern.例文帳に追加

ガラス基板表面に凹部を形成し、高精度で高アスペクト比の微細な凹凸部パターンを容易に形成できる微細加工方法および凹凸部パターンを有するガラス基板を提供する。 - 特許庁

Waka of the Thirty-six Immortal Poets were discretely written in a gorgeous book with various ryoshi decorations such as yaburitsugi (a Heian-style collage technique used to decorate poetry sheets), kirihaku (decorative metal pattern on sculptures or paintings), fine powder in gold and silver, suminagashi (a marbleized pattern produced by dropping black ink on damp paper; frequently used during the Heian period on poetry sheets) and so on. 例文帳に追加

破り継ぎ、金銀の切箔・砂子、墨流しなどさまざまな料紙装飾を施した華麗な冊子に三十六歌仙の和歌を散らし書きにしたものである。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide a method for forming a fine pattern of a semiconductor element which can prevent failure of a photoresist pattern such as undercutting and footing which are to be caused by mutual mixing between an organic antireflection film and photoresist.例文帳に追加

有機反射防止膜とフォトレジストとの間の相互混合によるアンダーカッティングやフッティングのようなフォトレジストパターンの不良を防止できる半導体素子の微細パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which has hydrophobicity suitable for the formation of a fine resist pattern and ensures excellent solubility of its exposed part in an alkali developer in development, and a resist pattern forming method.例文帳に追加

微細なレジストパターンの形成等に好適な疎水性を有し、現像処理時には、露光部がアルカリ現像液に対する溶解性に優れたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

Gas blown from the gas blowholes 32 marks the identification surface 34E with a fine pattern 40 of combustion of a chemical filling the inflator 14 and a pattern of cloth shrinkage by high speed gas.例文帳に追加

従って、ガス噴出口３２から吹き出すガスによって、インフレータ１４内に充填された薬剤の燃焼後の微少の模様４０や高速ガスによって布が縮む模様が識別面３４Ｅに付く。 - 特許庁

To make fine conductive material pattern possible to be formed on a ceramic base plate by permitting metallic toner adaptable to a conductive pattern with an excellent image property to be stably developed.例文帳に追加

画像特性に優れた導体パターンに対応した金属トナーを安定して現像することができ、セラミック基板上に微細な導体パターンを形成可能な金属トナー用乾式現像方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method for improving uniformity in adherence and ensuring formation of a pattern with less defects without generating an acid at the adherence portion of fine particles, and to provide a device production process.例文帳に追加

微粒子の付着部分に酸を発生させることがなく、付着の均一性を向上させ、低欠陥なパターンを形成することが可能となるパターン形成方法、デバイス作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which ensures a small viscosity change during storage, achieves resolution up to a fine pattern, and can form a pattern or a film excellent in solvent and heat resistances.例文帳に追加

保存時の粘度変化が小さく、微細なパターンまで解像可能であり、耐溶剤性、耐熱性に優れたパターンや塗膜を形成できる感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

When the pattern is formed using the imprinting mold, the physical contact of the fine uneven pattern with the substrate can be prevented in a process for bonding the substrate to the mold under pressure.例文帳に追加

これにより、本発明のインプリントモールドを用いたパターン形成を行うとき、基板とモールドを圧着させる工程において、微細なパターン部分と基板が物理的に接触することを防ぐことが出来る。 - 特許庁

The position deviation of a lower layer circuit pattern and an upper layer resist pattern is measured by using positional deviation measurement marks X1, Y1, X2, and Y2 which constitute of fine patterns equivalent to patterns arranged inside an integrated circuit.例文帳に追加

下層回路パターンと上層レジストパターンとの位置ずれを、集積回路内部に配置されているパターン相当の微細パターンにより構成された位置ずれ計測マークＸ１，Ｙ１，Ｘ２，Ｙ２を用いて計測する。 - 特許庁

To provide a cleaning device or cleaning method which is capable of cleaning a mask for fine pattern exposure with high performance without the occurrence of the change in the pattern dimensions of the mask and film stress distortion and to provide a semiconductor device transferred with the high-accuracy patterns.例文帳に追加

微細パターン露光用マスクのパターン寸法変化や膜応力歪みを生じさせない高性能なマスク洗浄が可能となる洗浄装置あるいは洗浄方法を提供する。 - 特許庁

A part of corner sections in an electrode pattern, which is connected to a pattern wiring or a device formed by injecting a fine particle-containing solution on a substrate with the action force of mechanical displacement, is chamfered.例文帳に追加

基板上において、機械的変位による作用力で微粒子含有溶液を噴射させて形成されるパターン配線あるいはデバイスに接続される電極パターンのコーナー部を面取り形状とする。 - 特許庁

To provide a metal wiring forming method for a semiconductor element in which a fine metal pattern is prevented from being formed by forming a spacer film on a side wall of a photoresist pattern, and bringing spacers into contact with each other by narrowing the interval between photoresist patterns at a breaking part of metal wiring while forming a fine metal pattern using the spacers as etching masks.例文帳に追加

フォトレジストパターンの側壁にスペーサ膜を形成し、スペーサをエッチングマスクとして用いて微細金属パターンを形成すると同時に、金属配線の断線部分は前記フォトレジストパターン間の間隔を狭めて前記スペーサが接し合うようにし、微細金属パターンが形成されることを防止する半導体素子の金属配線方法の提供。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a master disk for manufacturing optical recording media and a manufacturing method of a stamper for manufacturing optical recording media capable of stably manufacturing a stamper with a fine rugged pattern with high yield by preventing the rugged pattern of the stamper from being damaged in exfoliating the stamper with the fine rugged pattern formed thereto from the master disk.例文帳に追加

微細な凹凸パターンが形成されたスタンパーを原盤から剥離する際のスタンパーの凹凸パターンの破損を防いで、微細な凹凸パターンを有するスタンパーを安定して歩留まりよく製造することが可能になる光記録媒体作製用原盤の製造方法及び光記録媒体作製用スタンパーの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide etching equipment which is capable of uniformizing the treatment over a fine pattern part and reducing the damage and superior in productivity.例文帳に追加

微細パターン部分についての処理の均一化やダメージを低減させることができ、生産性にも優れるエッチング装置を提供することである。 - 特許庁

Power density of a laser beam in the fine pattern correction method is lowered by preparing an objective lens 34 at a designated position at first.例文帳に追加

この微細パターン修正方法では、最初は対物レンズ３４を所定のデフォーカス位置に配置してレーザ光のパワー密度を低くしておく。 - 特許庁

To provide a method for forming a highly precise fine pattern by reducing side etch in the case of using wet etching.例文帳に追加

ウエットエッチングを用いた際のサイドエッチを低減することにより精度の高い微細なパターンを形成できる、パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and an aligner for exposure which can transfer an image of a fine isolated pattern formed on a mask to a wafer with high resolution.例文帳に追加

マスク上に形成された微細な孤立パターンの像を高い解像力でウェハ上に転写可能な露光方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive paste which can form a fine pattern and ensures no variation in characteristic values such as resistance for a resistor layer after baking.例文帳に追加

微細パターンが形成可能で、さらに焼成後の抵抗体層の抵抗値等特性値等のばらつきのない、感光性ペーストを提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition capable of forming a fine pattern without swellings having practical sensitivy by developing it using a basic aqueous solution.例文帳に追加

塩基性水溶液で現像して、実用可能な感度を有していて膨潤のない微細パターンを形成できるレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a speech synthetic device capable of efficiently generating the fine structure of a pitch pattern and improving the naturalness and personality of generated synthetic speech.例文帳に追加

ピッチパタンの細かな構造を効率よく生成し、生成する合成音声の自然性や個人性を向上する音声合成装置の提供。 - 特許庁

To provide a high-definition liquid crystal display panel manufactured by precisely forming an extra-fine pattern of a conductive film in which different widths are connected with the fewer number of processes.例文帳に追加

異なる幅を連結した導電膜の極細パターンを少ないプロセス数で高精度に形成して高精細な液晶表示パネルを得る。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin laminate excellent in adhesion and fine pattern formation.例文帳に追加

接着性、及び微細パターン形成性に優れ、離型処理をしないモールドに対しても離型性に優れた感光性樹脂積層体を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition which can be developed with a basic aqueous solution and can form a fine pattern without swelling while having practicable sensitivity.例文帳に追加

塩基性水溶液で現像して、実用可能な感度を有していて膨潤のない微細パターンを形成できるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an etching solution capable of yielding a conductor pattern having a cross section close to a rectangle in whole, even when coarse and fine patterns exist in a mixed state.例文帳に追加

粗密のパターンが混在する場合でも、全体的に断面形状が矩形に近い導体パターンが得られるエッチング液を提供する。 - 特許庁

To accurately control the dimensions of a fine working pattern such as a gate electrode of a MOS transistor in a manufacturing process for a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造工程において、ＭＯＳトランジスタのゲート電極のような微細な加工パターンの寸法を高精度に制御する。 - 特許庁

To provide a method for forming a fine pattern of a semiconductor element, which embodies double patterning by utilizing a difference of solubility between a plurality of substance layers.例文帳に追加

複数の物質層間の溶解度差を利用してダブルパターニングを具現する半導体素子の微細パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing solder balls capable of responding to a fine pattern and inexpensively forming the solder balls.例文帳に追加

本発明は、精細なパターン形状に対応可能であり、かつ、安価に形成可能なはんだボールの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a pattern correction method which corrects disconnected electrodes by using a fine wire as thin as 10 μm while less contaminating the panel.例文帳に追加

１０μｍ前後の細線で電極断線部などを修正することができ、かつ、基板の汚染が少ないパターン修正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method which simplify a process and can be performed at a low cost, with respect to a method for forming a fine pattern by combining a plurality of patterns.例文帳に追加

複数のパターンを合成して微細パターンを形成する方法において、プロセスを簡易化し、低コストで実施できる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a technique by which a fine high-accuracy pattern preferably excellent in high sensitivity and/or etching resistance can be provided.例文帳に追加

微細かつ高精度で、好ましくは高感度性とエッチング耐性の一方あるいは両方に優れたパターンを供給できる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a method for efficiently manufacturing an inorganic material surface, especially a TiO_2 surface and a SiO_2 surface, on each of which a fine unevenness pattern is formed.例文帳に追加

微細な凹凸パターンが表面に形成された無機系材料表面、特にTiO_2、SiO_2表面を効率よく作製する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a copper-clad board for a printed wiring board in which a wiring pattern of a fine pitch is suitably formed, and the printed wiring board using it.例文帳に追加

微細ピッチの配線パタ−ンを好適に形成可能なプリント配線板用銅張板及びこれを用いたプリント配線板を提供する。 - 特許庁

To provide a wiring board for an electrical test facilitating tests of semiconductor devices, wiring boards, or the like having a high-density, ultra-fine wiring pattern.例文帳に追加

高密度、超微細配線パターンの半導体デバイス及び配線基板等のテストを容易にするエレクトリカルテスト用配線基板を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a ceramic part, which forms the interconnection of a fine pattern comparatively simply and securely, and furthermore at low cost.例文帳に追加

微細パターンの配線を比較的簡単にかつ確実にしかも低コストで形成可能なセラミック部品の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method wherein a fine pattern is prevented from collapsing by reducing the surface tension of pure water.例文帳に追加

純水の表面張力を低減することにより、微細パターン倒れを防止する基板処理装置及び基板処理方法を提供する。 - 特許庁

By using a photochemical method, the solder mask 30 is opened in equal angles in a part corresponding to a part 22 upward of the conductor pattern, thereby forming a fine hole.例文帳に追加

光化学法を用いてソルダマスク３０を導体パターンの導接部２２上方に対応する部分で等角に開いて微孔を形成させる。 - 特許庁

Then, a fine spindle pattern composed of a plurality of concentric circle-shaped grooves with different diameters is formed on the surface of the UV cured resin layer 3.例文帳に追加

そして、ＵＶ硬化樹脂層３の表面には、径の異なる同心円状の複数の溝からなる微細スピンドルパターンが形成されている。 - 特許庁

Since the respective divided local data are expressed in 256 gradation widths, fine expressions are duplicated even with respect to a low leather tie-dyed pattern part.例文帳に追加

分割したそれぞれのローカルデータが２５６階調幅で表現されるから、高さの低い皮絞模様部分でも微細な表現が再現される。 - 特許庁