「fine-pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(30ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a manufacturing method of a floor material capable of giving soft and high-class impression to an observer without collapsing the contour of a pattern even in the case where the pattern is fine in the floor material having the pattern in which each color changes so as to flow in a non-uniform shape.例文帳に追加

不定形で各色が流れるように変化する模様を有する床材において、模様を細かくした場合でも、模様の輪郭が崩れることがなく、かつ、ソフトで、高級な印象を観者に与えることができる床材の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a post processing method of a resist pattern that is not restricted with respect to a resist composition to be used, and can make LER and LWR smaller especially when forming a fine resist pattern while suppressing variation in dimensions of the resist pattern itself.例文帳に追加

使用するレジスト組成物について制約を受けず、特に微細なレジストパターンを形成した際においても、レジストパターン自体の寸法変動を抑えつつ、ＬＥＲ及びＬＷＲを小さくすることが可能なレジストパターンの後処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a conductor pattern forming method capable of eliminating residuals of a conductor film and resist, generation of burrs of a conductor pattern, defects such as resist peeling or the like, further shortening a peeling operation in a liftoff process, and accurately forming a fine conductor pattern.例文帳に追加

導体膜やレジストの残滓、導体パターンのバリの発生、レジスト剥離不良等を解消し、しかも、リフトオフ工程における剥離作業の短縮化を図り、かつ微細な導体パターンを精度良く形成することができる導体パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To make detectable defects in a fine pattern on a transparent layer insulating film and on the same layer with high sensitivity while detecting the defects of a lower layer pattern and the same pattern in the defocused state to detect only the defect of a process to be originally inspected.例文帳に追加

透明な層間絶縁膜上の微細パターンおよび同一層の欠陥を感度良く検出する一方、下層のパターンおよび同一層の欠陥をデフォーカスした状態で検出し、本来検査したい工程の欠陥のみを検出可能とすること。 - 特許庁

To provide a printed substrate which resolves a peeling problem of a circuit pattern by widening an area adhered to an insulation layer, minimizes the occurrence of damage to the circuit pattern due to under cut, and realizes the fine circuit pattern, and to provide a manufacturing method of the printed substrate.例文帳に追加

絶縁層との密着面積を広くすることにより、回路パターンの剥離問題を解決し、アンダーカットによる回路パターンの損傷発生を最小化するうえ、微細な回路パターンを実現することができるプリント基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The light diffusing pattern 21R facing the red light emitting diode 18R is comparatively coarse, the light diffusing pattern 21G facing the green light emitting diode is medium and the light diffusing pattern 21B facing the blue color emitting diode 18B is comparatively fine.例文帳に追加

赤色発光ダイオード１８Ｒに対向する光拡散パターン２１Ｒは比較的粗く、緑色発光ダイオード１８Ｇに対向する光拡散パターン２１Ｇは中程度で、青色発光ダイオード１８Ｂに対向する光拡散パターン２１Ｂは比較的細かくなっている。 - 特許庁

To provide a pattern shape inspection method capable of inspecting fine pattern shape formed in an object to be inspected such as a discrete track medium and having nearly several ten nm or finer at high speed and with high sensitivity including a pattern edge state and to provide a device thereof.例文帳に追加

ディスクリートトラックメディア等の被検査対象に形成された数１０ｎｍ程度以下の微細なパターンの形状を、パターンエッジの状態を含めて、高速、かつ高感度に検査できるようにしたパターン形状検査方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

A fine pattern can be easily produced, although a large photomask is used, by forming an additional pattern inside a photomask window and using reinforcing/compensating interference of light to allow a production of a smaller pattern.例文帳に追加

本発明は、フォトマスクウィンドウの内部に追加的なパターンを形成することによって、光の補強／相殺干渉を用いて、より小さなパターン製作が可能であるようにすることで、大きいフォトマスクを利用しながらも微細パターン製作が容易であるという長所を有する。 - 特許庁

To provide an inspecting device and an inspecting method that remove a fine defect desirous of being ignored which originates from an OPC pattern of a scattering bar etc., in defect inspection of a mask with a pattern, and a manufacturing method for a pattern substrate using the inspecting device and inspecting method.例文帳に追加

パターン付きマスクの欠陥検査において、スキャッタリングバーなどのＯＰＣパターンに由来する微小な無視したい欠陥を除去する検査装置及び検査方法とその検査装置及び検査方法を用いたパターン基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

One layer is formed by plural times of exposure including high- resolution exposure using plural fine patterns (gate finger parts) and plural phase shift patterns (shifters) which are respectively arranged on both sides in the fine line width direction of the fine patterns and negate the interference of light by the phase difference of the light passing the same and ordinary exposure exclusive of the fine pattern points.例文帳に追加

複数の微細パターン（ゲートフィンガ部）と、当該微細パターンの微細線幅方向両側にそれぞれ配置され、透過する光の位相差により光の干渉を打ち消す複数の位相シフトパターン（シフタ）と用いた高解像度露光と、微細パターン箇所以外の通常露光とを含む複数回露光により一つの層を形成する。 - 特許庁

To provide a processing liquid for forming a pattern due to a chemically amplified resist composition superior in in-plane uniformity (CDU) and defect performance of a resist pattern and in addition, for forming the resist pattern reducing an amount of use of the processing liquid in order to stably form a highly precise fine pattern for manufacturing highly integrated and highly precise electronic device, and to provide a method for forming the pattern using it.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンを安定的に形成するために、レジストパターンの面内均一性（ＣＤＵ）及び欠陥性能に優れ、また処理液の使用量を低減できるレジストパターンを形成し得る化学増幅型レジスト組成物によるパターン形成用の処理液及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The fine pattern with a pitch a half of that of the lithography is formed by forming a resist pattern using a lithography technology (a), making small the line width of the resist pattern using a sliming technology (b), forming a new mask pattern in a space widen by sliming by anisotropic etching under a low pressure environment (c), and carrying out etching of the under layer film using the mask pattern (d).例文帳に追加

リソグラフィ技術によりレジストパターン７を形成し（ａ）、スリミング技術によりレジストパターン７のライン幅を細くし（ｂ）、低圧環境下で異方性エッチング処理を行うことによってスリミングにより広くなったスペースに新たなマスクパターンを形成し（ｃ）、そのマスクパターンを利用して下層の膜のエッチングを行って（ｄ）、リソグラフィパターンの１／２倍のピッチの微細パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a fine structure drying treatment method and a fine structure drying treatment apparatus for efficiently, quickly, and uniformly drying a large-diameter substrate of 100 mm or larger, in which a fine pattern is formed where pattern falls and element adhesion may occur by the influence of the surface tension of a rinse liquid simply by locally heating only a dry fluid in drying.例文帳に追加

本発明の目的は、乾燥時に乾燥流体だけを局部的に加熱するだけで、リンス液の表面張力の影響によりパターン倒れや素子の固着が発生しうる微細なパターンを形成した１００ｍｍ以上の大口径基板に対して効率良く短時間で均一に乾燥させることができる微細構造乾燥処理法及びその装置を提供することにある。 - 特許庁

The method of manufacturing the pattern electrode formed of a conductive layer formed on a support body and containing metal fine particles, includes a step of forming the conductive layer by coating a liquid containing metal fine particles on the support body, a step of pattern-printing metal fine particle-removing liquid on the conductive layer, and a cleaning step.例文帳に追加

支持体上に形成された金属微粒子を含有する導電層からなるパターン電極の製造方法であって、支持体上に金属微粒子含有液を塗設して導電層を形成する工程、当該導電層の上に金属微粒子除去液をパターン印刷する工程、及び洗浄工程を有することを特徴とするパターン電極の製造方法。 - 特許庁

The pattern forming composition is a photosensitive negative pattern forming composition comprising a metal fine particle dispersion containing metal fine particles and a dispersant keeping these in a dispersed state, wherein the dispersant is a photosensitive dispersant which itself is photosensitized and becomes detached from the metal fine particles to release the particles from the dispersed state.例文帳に追加

金属微粒子及びそれを分散状態に保つ分散剤を含む金属微粒子分散液からなる光感受性ネガ型パターン形成用組成物であって、前記分散剤が、それ自身が感光して金属微粒子から遊離し、分散状態の解除を引き起こすことができる光感受性分散剤であることを特徴とする、上記光感受性ネガ型パターン形成用組成物。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition excellent in adhesion to a substrate when formed into a film and capable of forming a fine resin pattern having a large film thickness and a high aspect ratio, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

成膜した際の基板との密着性に優れ、高膜厚、高アスペクト比の微細な樹脂パターンを形成することが可能な感光性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A fine resist aperture pattern is formed of single layer EB resist on a semiconductor substrate, a first metal thin film is formed on the entire surface, and second resist is applied to form an aperture pattern at the umbrella part of a T-type gate.例文帳に追加

半導体基板に単層EBレジストにより微細なレジスト開口パターンを形成し、全面に第１の金属薄膜を形成し、更に第２のレジストを塗布し、Ｔ型ゲートの傘の部分の開口パターンを形成。 - 特許庁

This highly durable fine-pattern forming intaglio plate is equipped with a board 11 having a notched part 14 comprising the predetermined pattern and a metal film 15 formed on the notched part side surface 12.例文帳に追加

本発明の高耐久性ファインパターン形成用凹版は、所定のパターンをなす凹欠部１４を有する基板１１と、基板１１の凹欠部側表面１２に形成されてなる金属被膜１５と、を備えるものである。 - 特許庁

To provide a screen printer with small fluctuation in a pattern shape by which very fine and high aspect ratio pattern can be formed, a screen printing method and a manufacturing method of electromagnetic wave shield plate using the same.例文帳に追加

パターン形状のばらつきが少なく、かつ非常に微細かつ高アスペクト比なパターンが形成可能なスクリーン印刷機並びにそれを用いたスクリーン印刷方法及び電磁波シールド板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a printing plate capable of continuously printing a highly fine pattern while hardly causing defects even when a reverse offset printing method is used as a pattern formation method, and a method of manufacturing the printing plate.例文帳に追加

パターン形成方法として反転オフセット印刷法を用いた場合においても、欠陥を生じ難く、連続的に高精細パターンを印刷可能な印刷用版およびその製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To reduce undercut caused by wet etching and to improve the working precision at the time of forming a surface wave element aluminum vapor deposition film or aluminum alloy vapor deposition film electrode by applying lithography technology to a thin film formed on the film surface on a substrate and executing etching with the formed resist pattern and a thin film fine pattern as masks.例文帳に追加

表面波素子、中でも表面波共振器電極形成プロセスでは、アルミニウム電極、アルミニウム蒸着膜厚が１μｍから２μｍで、線幅２μｍから５μｍに対して厚い。 - 特許庁

To provide a method for printing by which a specified pattern such as a picture pattern and letters can be continuously and clearly printed on the surface of a cake material containing oils and fats such as a biscuit base and deposits such as fine particles.例文帳に追加

ビスケット生地などの油脂や微小粒子などの付着物を含んでいる菓子材料の表面に、絵柄や文字等の所定パターンを連続して鮮明に印刷することができる印刷方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plate for electrodeposition metal pattern transfer in which a fine metal pattern having a width of about 20 μm can be easily used many times over (e.g. 100 times), and a wiring board fabricated by using the same.例文帳に追加

２０μｍ程度の微細な線幅の金属パターンが容易に、且つ、繰り返し多数回(例えば１００回)使用することのできる電着金属パターン転写用基板と、を使用して作製した配線板を提供する。 - 特許庁

To provide a device for producing a pattern forming element capable of forming a fine pattern high in the degree of freedom on a substrate and also capable of uniformizing the film thickness of the upper layer of a slant face, and to provide a method therefor.例文帳に追加

自由度が高くかつ微細なパタンを基板に形成することができ、かつ斜面の上部層の膜厚をほぼ均一化することができるパタン形成素子の製造装置およびその方法の提供。 - 特許庁

To obtain optimum conditions for processing of a thin film lithography element by one time of etching when the surface of one glass substrate is provided with fine pattern parts and coarse pattern parts varying in the sizes of the patterns in combination.例文帳に追加

薄膜リソグラフィ素子において、パターンの寸法が異なる微細パターン部および粗大パターン部がひとつのガラス基板の表面に併設される場合、１回のエッチングで加工するための最適条件が得られない。 - 特許庁

To provide a method for forming an etching mask, a control program, and a program storage medium, which can form easily with sufficient precision an fine pattern etching mask of nonlinear shape without using a reticle of complicated pattern.例文帳に追加

複雑なパターンのレチクルを用いることなく非直線状の微細なパターンのエッチングマスクを精度良く容易に形成することのできるエッチングマスクの形成方法、制御プログラム及びプログラム記憶媒体を提供する。 - 特許庁

To form a conductor pattern of fine pitch and with flat upper surface with a high precision by setting the width of an outermost conductor pattern among a plurality of conductor patterns to be larger than that of remaining conductor patterns.例文帳に追加

ファインピッチでかつ上面が平坦な導体パターンを精度よく形成することが可能なプリント配線板の導体パターンの形成方法およびそのような導体パターンを有するプリント配線板を提供することである。 - 特許庁

To provide a method for forming a rugged pattern and a method for manufacturing an optical element by which a fine rugged resist pattern with high aspect ratio is formed only by light irradiation by making an etching process unnecessary.例文帳に追加

エッチング工程を不要として、光照射のみでアスペクト比の高い微細な凹凸状のレジストパターンを形成することができる凹凸状パターンの形成方法、及び光学素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a multilayer printed wiring board where an outer layer pattern made on an insulating layer can be made into a fine pattern by enabling the insulating layer on a core board, where a plated through hole is made smooth.例文帳に追加

メッキスルーホールが形成されているコア基板上の絶縁層が平滑に形成されることにより、絶縁層上に形成される外層パターンをファインパターンに形成することができる多層プリント配線基板を提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplified photoresist which exhibits excellent sensitivity and resolution and gives a pattern having a good section shape when a fine resist pattern of 0.15-0.22 μm is formed using a KrF excimer laser.例文帳に追加

ＫｒＦエキシマレーザーを用いて０．１５〜０．２２μｍのような微細なレジストパターンを形成する際に、優れた感度、解像度を示し、かつ断面形状の良好なパターンを与える化学増幅型ホトレジストを提供する。 - 特許庁

To dispense with fine alignment between a contact terminal of a printed circuit board inspection device and a pattern for inspecting the function of the printed circuit board, and to avoid the mounting efficiency of the printed circuit board from being degraded by the pattern for inspecting function.例文帳に追加

プリント基板検査装置の接触端子とプリント基板の機能検査用パターンとの細かな位置合わせを不要とし、かつ、機能検査用パターンによってプリント基板の実装効率が損なわれないようにする。 - 特許庁

To provide a pattern forming method for stably forming a high-definition fine pattern for use in the production process of a semiconductor, in the production of a circuit substrate of liquid crystal, thermal head and the like or in other photofabrication processes.例文帳に追加

半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、その他のフォトファブリケーション工程等に使用される、高精度な微細パターンを安定的に形成する為のパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a printed circuit board and a method for manufacturing the same, in which a fine circuit pattern is formed by an inkjet method and the adhesive strength between the circuit pattern and a base substrate is improved.例文帳に追加

インクジェット方式を用いて微細な回路パターンを形成し、このような回路パターンとベース基板との間の接着力を向上させることができる印刷回路基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a simple and easy method by which pattern edges can be sharply exposed at a user's request in a patterning technique by photolithography in the vacuum deep UV region, therefore a fine pattern can be accurately formed.例文帳に追加

真空深紫外線領域でのフォトリソグラフィー手法によるパターニング技術において、パターン端が所望通りに綺麗に露光でき、もって微細なパターンを正確に描画できる簡便な手法の確立が課題である。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a pattern form by which a fine pattern form can be manufactured without using a photolithography method even in the case where a micro-contact printing is not appropriate.例文帳に追加

マイクロ・コンタクトプリンティングに適さないような場合であっても、フォトリソグラフィ法を用いることなく精細なパターン形成体を製造することが可能なパターン形成体の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a semiconductor device having fuses capable of being formed without causing pattern disruption and pattern missing, stably cut with low laser energy, and disposed at fine pitches, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

パターン倒れやパターン飛びが生じることなく形成しうると共に、低いレーザエネルギーで安定して切断可能であり、微細なピッチで配置可能なヒューズを有する半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The antenna pattern 2 can be constituted of a coil, or the antenna pattern 2 can be constituted by carrying out fine working such as etching working or laser beam working to a conductive film formed on the surface of the insulating layer 4.例文帳に追加

アンテナパターン２は、巻線をもって構成することもできるし、絶縁層４の表面に形成された導体膜に例えばエッチング加工やレーザビーム加工等の微細加工を施すことにより構成することもできる。 - 特許庁

To provide an electrostatic chucking device which is resistant to a corrosive substance and can keep high insulation in the gap of an electrode pattern and respond to fine patterning of the electrode pattern.例文帳に追加

腐食性物質に対する耐蝕性があり、電極パターンの間隙における絶縁性を高く維持することが可能であり、これによって電極パターンの微細化に対応可能な構造の静電吸着装置を提供する。 - 特許庁

The optical processing element has a pattern formed by arraying a plurality of metal fine structural bodies, having a diameter D<λ to incident light, having a wavelength λ of linear shape on a substrate at an interval d1<D as a unit array pattern.例文帳に追加

波長λの入射光に対し、直径ＤがＤ＜λである金属微細構造体の複数個を基板上に間隔ｄ１＜Ｄで離隔して直線状に配列させたパターンを単位配列パターンとする。 - 特許庁

The fluid discharged by carrying out the discharge of the fluid from the fluid discharge head 200 is attracted to the deposition charge 50 to form the stable fine pattern on the charged pattern.例文帳に追加

そして、この電荷パターン上で、流体吐出ヘッド２００による流体吐出を行うことにより吐出される流体は上記付着電荷５０に引き寄せられ、安定した微細パターンを形成することができる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a resist composition, restraining the occurrence of a defect in a resist pattern after development, especially fine scum and micro-bridge and having small line edge roughness, and to provide a resist composition and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

現像後のレジストパターンのディフェクト、特に微細なスカムやマイクロブリッジの発生を抑制でき、またラインエッジラフネスの小さいレジスト組成物の製造方法、レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern for fabricating a semiconductor elements without requiring an exposure process where misalignment takes places as the design rule becomes fine and the minimum line width of a pattern decreases.例文帳に追加

デザインルールが微細になりパターンの最小線幅が減少するにつれてミスアラインメント発生しやすくなる露光工程を行うことなく、半導体素子を製造するためのパターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist processing method by which a pattern obtained by a resist composition for the formation of a first resist pattern is formed in an ultra-fine high-precision state, in a multiple patterning method such as a double patterning method.例文帳に追加

ダブルパターニング法等のマルチパターニング法において、１回目のレジストパターン形成用のレジスト組成物によって得られたパターンを、極微細に、かつ精度良く形成するレジスト処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To improve shape accuracy and positional accuracy of a pattern to be formed and to increase the service life of a sheet plate for transfer in the sheet plate for transfer used when a fine pattern is formed on a base plate.例文帳に追加

基板上に微細なパターンを形成する際に使用される転写用シート版において、形成されるパターンの形状精度及び位置精度を改善するとともに、転写用シート版の寿命の増大を図る。 - 特許庁

To provide a method for forming a fine structural pattern having an uneven shape uniformly and densely formed to a region wider than a conventional one, and a method for forming a matrix for the pattern.例文帳に追加

本発明は、従来よりも広い領域に均一かつ高密度で形成された凹凸形状を有する微細構造パターンを形成する方法、及びその母型を形成する方法を提供することである。 - 特許庁