「fine-pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(34ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a resist pattern having a structure capable of alleviating a standing wave effect generated by interference of an incident light with a reflected light in a photolithographic process of a lifting off method suitable for forming a fine wiring pattern, and to provide a method for forming wiring by using the resist pattern.例文帳に追加

微細配線パターンの形成に適したリフトオフ法のフォトリソプロセスにおいて、入射光と反射光との干渉から生じる定在波効果を緩和しうる構造を有するレジストパターンを提供すること、および該レジストパターンを用いた配線形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a forming method of a resist pattern, a manufacturing method of a semiconductor device and a forming device for the resist pattern, which are capable of forming a fine pattern by comparatively simple and inexpensive equipment, and further, excellent in a dimensional accuracy and productivity and the less production of a substandard article.例文帳に追加

比較的に簡易且つ低コストの設備で微細パターンを形成することができ、しかも、寸法精度に優れて規格外れが少ない生産性に優れたレジストパターンの形成方法、半導体装置の製造方法およびレジストパターンの形成装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a stamper for pattern transfer in which the edge shape of a pattern formed on the surface thereof by film deposition or etching has satisfactory linearity, and capable of corresponding to a fine pattern accompanying the increase of the density and capacity in an information recording medium or the like, and to provide its production method.例文帳に追加

成膜又はエッチングによりスタンパ表面に形成されたパターンの端形状が良好な直線性を有し、情報記録媒体等の高密度、高容量化に伴う微細パターンに対応可能な、パターン転写用スタンパ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

This light guide plate includes a side surface having at least one incidence plane to receive incidence light, and an emission plane on which a first prism pattern for collecting light and fine unevenness pattern for diffusing light are formed, and a reflection plane on which a second prism pattern is formed opposite to the emission plane.例文帳に追加

導光板は、光が入射される少なくとも一つの入射面を含む側面と、光の集光のための第１プリズムパターンと光の拡散のための微細凹凸パターンとが形成される出射面と、出射面と向き合い第２プリズムパターンが形成される反射面と、を含む。 - 特許庁

A fine slit pattern structure of a predetermined shape is executed in respective printing elements and/or dots of a line drawing and/or a dot pattern on a basic image A expressing the face image of a person by continuously changing the printing element width or the diameter of the line drawing and/or the dot pattern.例文帳に追加

線画及び／又はドットパターンにおける画線幅や直径を連続的に変化させて人物の顔画像を表現した基本画像Ａに対して、前記線画及び／又はドットパターンのそれぞれの各画線内及び／又は各ドット内に一定形状の微小スリットパターン構造を施す。 - 特許庁

The reversal pattern of a mold having the reversal pattern of the fine pattern is coated with a solution, which is prepared by dissolving a fluorine-containing polymer (A) not substantially containing a reactive functional group (x) in a solvent, and the solvent is removed to form a fluorine-containing polymer layer 1 on the surface of the mold 4.例文帳に追加

微細パターンの反転パターンを有するモールド４の該パターン上に、反応性官能基（ｘ）を実質的に有さない含フッ素重合体（Ａ）を溶媒に溶解させた溶液を塗布し、溶媒を除去して、モールド４の表面に含フッ素重合体層１を形成する。 - 特許庁

To provide techniques for realizing a fine wiring pattern through an energy-saving process without using expensive manufacturing equipment, effectively using materials so as to realize a resource-saving process, and obtaining a wiring member which is high in dimensional accuracy and reliability even when it has a very fine pattern.例文帳に追加

微細な配線パターンを高価な製造装置を必要とせず、また、省エネルギープロセスで実現できる技術、材料の有効利用を図り、省資源のプロセスを実現する技術、極微細なパターンを持つ配線部材であっても、寸法精度が良好で、信頼性の高い配線部材が得られる技術を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a fine etching mask which can equalize and thin the residue thickness of a pattern transfer layer after transformation in a transfer layer, and having an equalized thickness after an etching process, in a method of manufacturing a fine etching mask by pattern transfer to a processed material, and to provide an exposure processing apparatus.例文帳に追加

被加工材上へのパターン転写による微細エッチングマスクの製造方法において、転写後のパターン転写層の残渣厚みを転写層内で均一且つ薄膜にすることができ、しかもエッチング処理後の厚さが均一な微細エッチングマスクの製造方法及びそれに用いる露光処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing cylinders for intaglio printing capable of appropriately forming a fine pattern on a surface of the cylinder for intaglio printing, transferring the fine pattern required for printable electronics and a nanoimprint, using the cylinder and performing the intaglio printing at high productivity, and to provide a cylinder for intaglio printing.例文帳に追加

凹版印刷用のシリンダの表面に微細パターンを適切に形成できるとともに、このシリンダを用いてプリンタブルエレクトロニクスやナノインプリントで必要とする微細パターンを転写することが可能で生産性高く凹版印刷できる凹版印刷用シリンダの製造方法及び凹版印刷用シリンダを提供する。 - 特許庁

The fixed mold 2 of a mold 1 for molding, for example, the light guide plate of a liquid crystal display is constituted by fixedly attaching the stamper 6, which is formed into a thin plate shape with a thickness of 1 mm, for example, by electroforming processing and has a fine pattern wherein the fine pattern on the surface of a molded article is reversed, to a fixing stand 7.例文帳に追加

例えば液晶ディスプレイの導光板を成形するための金型１のうち固定型２を、電鋳加工により例えば１ｍｍの薄板状をなし、その表面成型品の表面の微細パターンを反転した微細パターンが形成されたスタンパ６を、固定台７に固定的に取付けて構成する。 - 特許庁

After carbon dioxide being gas having a plasticizing effect is infiltrated in the surface layer of the molten resin 1, the fine pattern 2 of a die core 3 having the fine pattern 2 on its surface is pressed to the surface of the carbon dioxide-infiltrated molten resin 1 to be transferred to the surface of the carbon dioxide-infiltrated resin.例文帳に追加

溶融樹脂１の表層に可塑化効果のあるガス体としての二酸化炭素を含浸させた後、二酸化炭素が含浸した溶融樹脂１の表面に、表面に微細パターン２を有する金型入れ子３の微細パターン２を加圧して、二酸化炭素が含浸した樹脂の表面に微細パターン２を転写する。 - 特許庁

A region where fine bubbles 16B are formed can be enlarged by making a dot pattern 16A convex, and since a plurality of fine bubbles 16B are formed, irregular reflection of light is promoted at a boundary film between the bubbles 16B, and the inside and outside of the dot pattern 16A can be made markedly different from each other in reflectance.例文帳に追加

ドットパターン１６Ａを凸状とすることで、微細な気泡１６Ｂの形成領域を大きくとることでき、複数の微細の気泡１６Ｂが形成されることで、この気泡１６Ｂ間の境界膜で、光の乱反射が助長され、ドットパターン１６Ａ内外とで、反射率に大きな差をつけることができる。 - 特許庁

To provide a highly fine electric conductor pattern excellent in long term reliability with low migration by using a photosensitive silver paste which uses a glass composition developed for an electric conductive paste capable of preventing the induction of electrode migration even if used for the highly fine electric conductor pattern.例文帳に追加

高精細な導電体パターンに用いた場合にも電極マイグレーションの誘発を抑制し得る導電性ペースト用ガラス組成物を開発し、該ガラス組成物を用いた感光性銀ペーストを使用することにより、低マイグレーション性による長期信頼性に優れる高精細導電体パターンを提供すること。 - 特許庁

To provide an aluminum ink composition advantageous for inkjet printing or fine line pattern printing, excellent in a coloring property (printing precision for fine character, symbol, drawing and the like), and suitable for imparting metallic feeling and/or conductivity to a printed matter.例文帳に追加

インクジェット印刷又は細線パターン印刷に有利な、発色性（微細な文字、記号、描画等の印刷精度）が良好であり、印刷物にメタリック感及び／又は導電性を付与するのに適したアルミニウムインク組成物を提供する。 - 特許庁

To easily form optimum mask patterns for ordinary exposure at the time of forming circuit patterns of the smallest line width corresponding to the line width of fine line patterns by the multiple exposure of fine line pattern exposure and the ordinary exposure.例文帳に追加

微細線パターン露光と通常露光との多重露光によって微細線パターンの線幅に対応する最小線幅の回路パターンを形成する際の、前記通常露光用として最適なマスクパターンを容易に作成する。 - 特許庁

By this method, a fine structure pattern is formed by making fluid flow into a fine flow passage by a capillary phenomenon and fixing at least one kind of fluid component in a flow passage.例文帳に追加

微細な流路内に毛管現象により流体を流入させ、少くとも１種の流体構成成分を流路内に固定化することで微細構造パターンを形成する方法であって、次の工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To prevent a pattern from being destroyed by preventing the surface of a fine structure of a substrate or the like from being naturally dried in the atmosphere, when the fine structure of the semiconductor substrate is dried after it is developed with a liquefied or supercritical fluid.例文帳に追加

液化または超臨界流体で現像後の半導体基板等の微細構造体を乾燥するに当たり、基板等の微細構造体の表面が大気で自然乾燥しないようにして、パターンの倒壊等を防止する。 - 特許庁

To realize a highly fine pattern over a wide region on a large sized substrate by a method wherein the highly accurate transferring removal of a coating liquid is performed by utilizing a reversing printing process without employing a large sized highly fine removing plate.例文帳に追加

反転方式の印刷法を利用して大型サイズの高精細除去版を使用することなく、高精度で塗布液の転写除去を行なえるようにし、大型基板上の広い領域にも高精細なパターンを実現する。 - 特許庁

By this method, fine particles can be two-dimensionally arrayed in a closest packed state in fine regions arrayed by self organization of di-block copolymers, and the array body exhibits excellent performance as an etching mask for forming a thin film pattern.例文帳に追加

この方法によれば、ジブロックコポリマーの自己組織化されて配列された微小領域に微粒子を二次元的に最密充填することができ、薄膜パターンを形成するためのエッチング用マスクとして優れた性能を示す。 - 特許庁

To provide a biaxially stretching lamination film for fine processing which is capable of easily molding a pattern of a high aspect ratio in a large area and is excellent in mechanical strength, to provide a manufacturing method of the biaxially stretching lamination film for fine processing, and to provide a molding processing sheet and a molding method of the molding processing sheet.例文帳に追加

高アスペクト比のパターンを大面積で容易に成形でき、且つ機械的強度に優れた微細加工用二軸延伸積層フィルム、および製法、成形加工シート、並びに成形方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of a glass component equipped with a fine pattern comprises: an application process of applying a heatless glass 40 on the fine pattern 21 of a replica 20 which is made of a specific material soluble in a specified solvent exhibiting no solubility for glass and has the fine pattern; a curing process of curing the applied heatless glass 40; and a dissolution process of dissolving the replica 20 by the specified solvent.例文帳に追加

本発明のガラス部品の製造方法は、微細パターンを具備したガラス部品の製造方法であって、ガラスに対して溶解性を示さない特定溶媒に溶解可能な特定材料からなり、且つ微細パターンを有するレプリカ２０に対し、当該レプリカ２０の微細パターン２１上にヒートレスガラス４０を塗布する塗布工程と、前記塗布したヒートレスガラス４０を硬化する硬化工程と、前記レプリカ２０を前記特定溶媒により溶解させる溶解工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a photoresist, and a metal pattern forming method and a metal wiring pattern forming method capable of forming a fine pattern of a metal oxide and a metal wiring by an additive method without necessitating operations such as a high-temperature treatment or an ultraviolet ray irradiation, and a wiring substrate formed with the metal wiring by employing the metal wiring pattern forming method.例文帳に追加

フォトレジスト、高温処理または紫外線照射などの操作を要さずに、アディティブ工法で金属酸化物・金属配線の微細パターンを形成することができる金属パターン形成方法、及び金属配線パターン形成方法、並びに該金属配線パターン形成方法を用いて金属配線が形成された配線基板を提供する。 - 特許庁

The method for forming a fine pattern includes processes of treating a substrate having a photoresist pattern to convert into hydrophilic and then applying a coating agent for producing a finer pattern on the substrate; thermally shrinking the coating agent by heat treatment to narrow the gap in the photoresist pattern by using the heat shrinking effect; and removing the above coating agent.例文帳に追加

ホトレジストパターンを有する基板を親水化処理した後、該基板上にパターン微細化用被覆形成剤を塗布する工程、熱処理により前記被覆形成剤を熱収縮させ、その熱収縮作用を利用してホトレジストパターン間の間隔を狭小せしめる工程、および上記被覆形成剤を除去する工程を含む、微細パターンの形成方法。 - 特許庁

This single particle pattern laminated membrane is manufactured by developing a fine particle-containing liquid or the like on the support having the surface on which the hydrophilic graft polymer chain is present patternwise and two-dimensionally flocculating the fine particles while controlling the developing thickness of the fine particle-containing liquid or the like to form the single particle layer.例文帳に追加

このような単粒子パターン積層薄膜は、微粒子含有液体等を親水性グラフトポリマー鎖がパターン状に存在する表面を有する支持体上に展開し、該微粒子含有液体等の展開厚みを制御しつつ微粒子を２次元凝集させ、単粒子層を形成させることにより製造しうる。 - 特許庁

The fine metal thin-film pattern with superior adherence properties is formed on the surface of the transition metal thin film layer, by applying a liquid, in which metal fine particles with average size of 1 to 100 nm are dispersed at a prescribed thickness, and by forming a layer in which fine metal particles are sintered mutually, by heating and sintering the above.例文帳に追加

この遷移金属薄膜層表面に、平均粒子径が１〜１００ｎｍの範囲に選択される金属微粒子の分散液を所定の膜厚塗布し、加熱焼成によって金属微粒子相互の焼結体層を形成することで、密着性に優れる、微細な金属薄膜パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a color filter by a nano-inprint process method with excellent productivity and with high precision by using a die having a reversed pattern of a fine projecting and recessing pattern to generate structural colors of R (red), G (green), and B (blue).例文帳に追加

Ｒ（赤）Ｇ（緑）Ｂ（青）の構造色を生成する微細凹凸パターンの反転パターンを有する金型を用いて、ナノインプリントプロセス法によりカラーフィルタを優れた生産性で精度良く製造する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of forming a pattern for stably forming an accurate fine pattern to be used in semiconductor manufacturing process such as IC or the like, manufacturing of a circuit board for a liquid crystal, thermal head or the like, and other photo fabrication processes.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される、高精度な微細パターンを安定的に形成する為のパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a correction method for design pattern data of semiconductor circuits which adopts the correction of the design pattern data relating to making of fine patterns onto semiconductor wafers at a practicable level amidst the recent increasing tendency to the higher fineness and hither density of patterns.例文帳に追加

最近の、パタンの微細化、高密度化がますます進む中、半導体ウエハ上への微細パタン作製に係わる設計パタンデータの補正を、実用レベルで採り入れた半導体回路の設計パタンデータの補正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a translucent body formed with a shading pattern, which is readily formed into a fine pattern, requiring no waste fluid, with production process that is simple, and at low cost for plant and equipment, or for production cost.例文帳に追加

ファインパターンの形成が容易で、廃液処理の必要がなく、生産工程が単純で設備費や生産コストが少なくて済む遮光パターンの形成された透光体の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To realize a processing mask capable of sufficiently corresponding to the formation of a fine pattern even in the case of using trilevel resist without generating a defective pattern on a 1st resin film which is the lowermost layer of the constitutional elements of the tri-level resist.例文帳に追加

トリレベルレジストを用いるも、当該トリレベルレジストの構成要素である最下層の第１の樹脂膜にパターン不良を発生せしめることなく、更なる微細パターン形成にも十分に対応できる加工用マスクを実現する。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern wherein a fine pattern is formed on a body to be processed simply, precisely and at low cost without using a large scale device , and also to provide record sheet and a transfer sheet used in this method.例文帳に追加

微細なパターンであっても、大掛かりな装置を用いることなく、簡便に、高精度かつ低コストで被処理体に形成できるパターン形成方法、および該方法で使用される記録シートおよび転写シートを提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive silver paste which is enhanced in leveling property which is a problem in a conventional electrode pattern production method and free of breaking after producing an electrode because a trace of a screen print does not remain, and also to form a high-precision fine electrode pattern.例文帳に追加

従来の電極パターン作成法の問題点であるレベリング性を高め、スクリーン版の跡が残らず電極作成後に断線のない感光性銀ペーストを提供し、高精度な微細電極パターンを形成することにある。 - 特許庁

To provide a method of forming a resist pattern, capable of forming a fine resist pattern with good lithography characteristics by a negative development process using a developer containing an organic solvent, and a resist composition for negative development used in the method.例文帳に追加

有機溶剤を含有する現像液を用いたネガ型現像プロセスにより、微細なレジストパターンを良好なリソグラフィー特性にて形成できるレジストパターン形成方法、該方法に用いられるネガ型現像用レジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide transparent conductive paste capable of simply forming an accurate fine pattern on a transparent conductive pattern to be formed, especially on a plasma display panel, a member for the plasma display panel, and a transparent electrode for a display member.例文帳に追加

形成する透明導電パターン、特にプラズマディスプレイパネル、プラズマディスプレイパネル用部材、ディスプレイ用部材の透明電極に対して、簡便に、精度良い微細パターンの形成が可能である透明導電ペーストを提供することにある。 - 特許庁

To form a fine conductor pattern at high accuracy by fully suppressing gelation of a coat on a support in a conductor pattern forming process by the transfer method using a photosensitive conductor paste.例文帳に追加

感光性導体ペーストを用いた転写法による導体パターン形成方法において、感光性導体ペーストのゲル化並びに支持体上塗布物のゲル化を十分に抑制して、高精度に微細な導体パターンを形成すること。 - 特許庁

To provide a barrier rib forming material excellent in a resist pattern adhering property even when an excessive development is applied at a process of forming the fine resist pattern on a substrate, and to provide a manufacturing method of a plasma display panel applying a sand blast treatment by using the barrier rib forming material.例文帳に追加

現像が過剰になされた場合であっても、レジストパターンの密着性に優れる隔壁形成材料並びに該隔壁形成材料を用いてサンドブラスト処理を行うプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive resin composition capable of forming a polyimide film that excels in transparency, has fine pattern forming capability and combines a low dielectric constant and high heat resistance, and to provide a manufacturing method of a positive type pattern.例文帳に追加

透明性に優れ、微細なパターン形成能を有し、且つ低誘電率及び高耐熱性を併せ持つポリイミド膜を形成することのできるポジ型感光性樹脂組成物及びポジ型パターンの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing method capable of reducing a process cost when performing substrate processing by preventing pattern collapse when a rinse liquid is removed from the substrate where a fine resist pattern is formed, with the amount of use of hydrophobing agent being reduced.例文帳に追加

微細なレジストパターンが形成された基板からリンス液を除去する際にパターン倒れを防止でき、また、疎水化剤の使用量を低減し、基板処理を行う際の処理コストを低減できる基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a printed circuit board manufacturing method that enables implementation of a fine circuit pattern and a high density circuit pattern, reduction of cost and time involved in the manufacturing process, and enhancement of reliability in insulation between patterns.例文帳に追加

微細回路パターン及び高密度回路パターンが実現でき、かつ、製造工程にかかる費用及び時間を減らすことができ、パターン間の絶縁信頼性を向上させることができる印刷回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a forming method of a wiring pattern capable of forming a fine wiring pattern without using resist like a dry film, and a semiconductor device in which a semiconductor element is mounted on a wiring board formed by the above method.例文帳に追加

ドライフィルム等のレジストを用いず、微細な配線パターンを形成することができる配線パターンの形成方法、及びその方法を用いて作製された配線基板に半導体素子が搭載された半導体装置を提供すること。 - 特許庁

The insulating plate 63 is provided with a ridge part 71 projecting from an electrode pattern 68 and the ridge part 71 abuts on the surface of the workpiece in forming the groove and secures the fine clearance for electrolyte between the electrode pattern 68 and the workpiece.例文帳に追加

絶縁プレート６３は電極パターン６８より突出する畝部７１を有し、畝部７１は溝形成時に被加工物の表面に当接して電極パターン６８と被加工物との間に電解液用の微少間隙を確保する。 - 特許庁

The plurality of patterns formed along the moving direction constitute pattern groups for coarse adjustment, and the plurality of patterns, which are formed in the direction crossing the moving direction, constitute pattern groups for fine adjustment.例文帳に追加

そして、前記移動方向に沿って形成された複数のパターンが、粗調用のパターン群を構成し、前記移動方向と交差する方向に沿って形成された複数のパターンが、微調用のパターン群を構成することを特徴とする。 - 特許庁

A pattern part 11 having a size corresponding to the printing surface of a substrate is provided on the plate surface of the printing plate 10 consisting of a photosetting resin, and a large number of fine protrusions are formed at dense intervals over the nearly entire area of the pattern part.例文帳に追加

光硬化性樹脂から成る印刷版１０の版面上に、基板の印刷面に対応する大きさのパターン部１１を設けて、これには、ほぼ全域に亙って多数の微小突起を密な間隔で形成する。 - 特許庁

Since the melting temperature of a resist material 2, which is irradiated with laser beam energy, lowers, the resist material 2 melts at a relatively low temperature and the space of the resist pattern 2a becomes narrow and a fine resist pattern 2b can be formed precisely.例文帳に追加

レーザ光エネルギが照射されたレジスト材２は、溶融温度が低下するので、比較的低温度でこのレジスト材２が溶融し、レジストパターン２ａの間隔が狭くなり、微細なレジストパターン２ｂを精度よく形成することができる。 - 特許庁

On a substrate, solution containing fine particles is ejected with the growth action force of a film boiling bubble produced instantaneously to form a pattern wiring or an electrode pattern being connected with a device wherein the corner part is beveled.例文帳に追加

基板上において、瞬時に発生させた膜沸騰気泡の成長作用力で微粒子含有溶液を噴射させて形成されるパターン配線あるいはデバイスに接続される電極パターンのコーナー部を面取り形状とする。 - 特許庁