「first process」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

The key selection module selects first information from the plurality of first information through a Media Key Block process.例文帳に追加

鍵選択部は、メディアキーブロック処理により複数の第１情報から１の第１情報を選択する。 - 特許庁

To process high temperature workpieces discharged from plural processing machines in a first process by processing machines in a second process without lowering their temperature.例文帳に追加

前工程の複数の加工機より排出された高温のワークを、温度を低下させずに、後工程の加工機により加工しうるようにする。 - 特許庁

A retrieval part 303 retrieves the past operation process data similar to the present operation process data based on the first or second process data.例文帳に追加

検索部３０３では、第１又は第２のプロセスデータに基づいて現在の操業プロセスデータと類似する過去の操業プロセスデータを検索する。 - 特許庁

In a first process, the natural oxide film is removed with a 10% hydrofluoric(HF) acid which is diluted with pure water (process (1)).例文帳に追加

最初の工程では、これを１０％に純水で希釈したフッ酸（ＨＦ）を用いて除去した（工程（１））。 - 特許庁

In this method of forming a thin film, the semiconductor substrate is first subjected to wet-cleaning in cleaning equipment 1 (process A1) and dried (process A2).例文帳に追加

洗浄装置１内で半導体基板のウェット洗浄を行い（プロセスＡ１）、次に乾燥させる（プロセスＡ２）。 - 特許庁

The inverse ECMEA process utilizes a first inverse transformation, the iteration of the CMEA process, and a second inverse transformation.例文帳に追加

逆ＥＣＭＥＡプロセスは、第１の逆変換、ＣＭＥＡプロセスの反復及び第２の逆変換を利用する。 - 特許庁

Preferably, the temperature of the second conversion process 1b is lower than that of the first conversion process 1a.例文帳に追加

第２変換工程１ｂの温度は、第１変換工程１ａの温度よりも低温であることが好ましい。 - 特許庁

In a second process 32, a softening treatment and a lubricating treatment are executed to the material 35 after the first process 31.例文帳に追加

第２工程３２にて、第１工程３１後に素材３５に対して軟化処理と潤滑処理とを行う。 - 特許庁

A first encryption key is used only in the authentication process and a second encryption key is used in both the authentication process and as the key for encrypting subsequent communications.例文帳に追加

第１は確認プロセスで、第２は確認プロセスとその後の通信を暗号化するキーとして使われる。 - 特許庁

The manufacturing method shown in the figure is constituted of a first process and a second process in a continued state.例文帳に追加

同図に示した製造方法では、連続した状態の第一工程と第二工程とから構成されている。 - 特許庁

The processing system 102 processes the fluid process information to select a first one of the fluid process systems.例文帳に追加

処理システム１０２は流体処理情報を処理し、流体処理システムのうちの第１のシステムを選択する。 - 特許庁

Two-stage shot peening (a first shot peening process and a second shot peening process) is implemented on a spring element wire.例文帳に追加

ばね素線に２段階のショットピーニング（第１のショットピーニング工程と第２のショットピーニング工程）が行なわれる。 - 特許庁

A second process that disposes an on-chip capacitor is performed in a region which is vacant even after the first process.例文帳に追加

次に、第１の過程の後も空き地となっている領域にオンチップキャパシタを配置する第２の過程を行う。 - 特許庁

Drying process of the electrolyte layer 20 is carried out at a temperature higher than the drying process temperature of the first catalyst layer 10.例文帳に追加

第１触媒層１０の乾燥処理温度よりも高い温度で電解質層２０の乾燥処理を行う。 - 特許庁

A terminal is manufactured by carrying out a first punching process and second punching process sequentially to punch a metal plate 2.例文帳に追加

第１打ち抜き工程と第２打ち抜き工程とを順次行って、金属板２を打ち抜いて端子を製造する。 - 特許庁

The utase is a part of the brewing process from the aragai (stirring with a mash paddle) to the hatsudaki (the first warming process). 例文帳に追加

打瀬（うたせ）とは、醸造の工程のなかで、荒櫂（あらがい）から初暖気（はつだき）までの間をいう。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

In a second process, the edge part of the wafer obtained in the first process is ground by an edge grinding part.例文帳に追加

第２工程では、第１工程において得られたウェハのエッジ部がエッジ研削部により研削加工される。 - 特許庁

In the pachinko slot machine, a process of announcing the number of put-out tokens is executed after the first stop of reels in a stopping control process.例文帳に追加

パチスロ機では、停止制御処理において、リールの第１停止後に払出枚数告知処理が行われる。 - 特許庁

After a first aging process for executing first aging discharge to a PDP that is formed in advance for a first time length, the lit state of the PDP is measured in an inspection process.例文帳に追加

あらかじめ形成したＰＤＰに第１エージング放電を第１時間長で実施させる第１エージング工程の後、検査工程でＰＤＰの点灯状態を測定する。 - 特許庁

After a first sealing film 14 is formed on a second electrode 13 by a CVD method in a first sealing film formation process, the first sealing film 14 is etched in an etching process.例文帳に追加

第１封止膜形成工程で、ＣＶＤ法によって第２電極１３上に第１封止膜１４を形成した後、エッチング工程で、第１封止膜１４をエッチングする。 - 特許庁

The first knitted fabric portions and the second knitted fabric portions are formed by alternately and continuously carrying out the first knitting process for knitting the first knitted fabric portions and the second knitting process for knitting the second knitted fabric portions.例文帳に追加

第１編地部分と第２編地部分とは第１編地部分を編成する第１編成工程と第２編地部分を編成する第２編成工程を交互に連続して行う。 - 特許庁

The rule change part changes the rule information at determining the assignment object by the scheduling part regarding the first process of a predetermined process group, makes the scheduling part assign a succeeding process of the process group to the same processor core as the first process, and restores the rule information at determination of the assignment object by the scheduling part regarding the first process of the process group.例文帳に追加

ルール変更部は、予め決定された処理群の最初の処理に関してスケジューリング部で割り当て先が決定されるのに伴ってルール情報を変更し、スケジューリング部に処理群の後続の処理を最初の処理と同一のプロセッサコアに割り当てさせ、処理群の最後の処理に関してスケジューリング部で割り当て先が決定されるのに伴ってルール情報を復元する。 - 特許庁

The gas injection system (140) is configured to introduce the first process gas and the second process gas to the process chamber (100) at a first location and a second location, where at least one of the first process gas and the second process gas is alternatingly and sequentially introduced between the first location and the second location.例文帳に追加

前記ガス注入装置（１４０）は、前記第１のプロセスガス及び第２のプロセスガスを、前記処理チャンバ（１００）の第１の位置及び第２の位置から導入するように構成されており、前記第１のプロセスガス及び第２のプロセスガスの少なくとも一方は、前記第１の位置と第２の位置とから、交互にかつ連続に導入される。 - 特許庁

This process is performed from the first region 51 to the fourth region 54.例文帳に追加

これを、第１の領域５１から第４の領域５４まで実行する。 - 特許庁

In the first process, a cover layer is formed by electrodeposition.例文帳に追加

第一工程においては、電着塗装により、被膜層の形成がおこなわれる。 - 特許庁

As such, this first part of the process is subject to the limitations of the BIOS interface. 例文帳に追加

そのため、この最初のプロセスは BIOS インタフェースによって制限を受けます。 - FreeBSD

Gas of a fluorine system is used as etching gas in this first etching process step.例文帳に追加

この第１エッチング工程では、エッチングガスとしてフッ素系のガスを用いる。 - 特許庁

In a first process, an image for setting a fault plane is imaged.例文帳に追加

第１のプロセスにおいては、断層面設定用画像の撮影が行われる。 - 特許庁

At first, a process gas is introduced through the upper part of the process chamber 301 by way of a first gas supply pipe 309 from the gas supply system 306.例文帳に追加

まず、処理ガスを第１のガス供給系３０６から第１のガス供給管３０９を介して、処理室３０１の上部から導入する。 - 特許庁

Prior to the second printing process after the first printing process, the first printed ink is dried by a drying unit 22.例文帳に追加

一回目の印刷工程を実行したら、二回目の印刷工程を実行する前に、乾燥ユニット２２により、一回目に印刷したインクの乾燥を促す。 - 特許庁

The manufacturing method of the solid tire includes a first forming process of forming the first elastic part, and a second forming process of forming the second elastic part.例文帳に追加

このソリッドタイヤの製造方法は、第１弾性部を成形する第１成形工程と、第２弾性部を成形する第２成形工程とを含む。 - 特許庁

In a stress impression process S5, a second reverse bias voltage higher than the first reverse bias voltage impressed in the first leak inspection process S4 is impressed.例文帳に追加

ストレス印加工程Ｓ５は、第１のリーク検査工程Ｓ４により印加された前記第１の逆バイアス電圧以上の第２の逆バイアス電圧を印加する。 - 特許庁

In a plasma polymerization process, a plasma polymerization film 13 is formed on the first substrate 11, and in a lamination process, the first substrate 11 and the second substrate 12 are laminated together.例文帳に追加

プラズマ重合工程で、第一基材１１にプラズマ重合膜１３を形成し、貼合工程で、第一基材１１と第二基材１２とを貼り合わせる。 - 特許庁

A cleaning system is constituted of a first process of subjecting laundry waste water to fluidized bed type biological treatment, a second process of treating the treated water from the first process by an ultrafiltration membrane and a third process of trating the treated water from the second process by a reverse osmosis membrane.例文帳に追加

洗濯排水を流動床式生物処理する第一工程と、第一工程からの処理水を限外濾過膜で処理する第二工程と、第二工程からの処理水を逆浸透膜で処理する第三工程とで構成される、洗濯排水の浄化システム。 - 特許庁

The first shift register unit and the first data latch unit are shared by upper and lower blocks to process the first and second group channel data together.例文帳に追加

第1シフトレジスタ部及び第1データラッチ部は、上下ブロックによって共有されて第1及び第2グループチャンネルデータを共通で処理できる。 - 特許庁

In a first closing process at closing operation of the vacuum valve, a first closing medium passage 36 for pressurizing a first closing function space 11 is blocked.例文帳に追加

真空バルブの閉動作時に第１閉過程において、第１閉機能空間１１の加圧のための第１閉媒体通路３６が遮断される。 - 特許庁

The raw image data D1 is output to the first image generating process 42, and the first image data D2 is obtained in the first image generating mode.例文帳に追加

第１画像生成モードでは、生画像データＤ１を第１画像生成プロセス４２に出力し、第１画像データＤ２を得る。 - 特許庁

In a primary peeling process S8, the first peeling layer 11 is peeled off from the first conductive layer 12 on the first peeling sheet 10.例文帳に追加

第１剥離工程Ｓ８では、第１剥離シート１０において第１導電層１２から第１剥離層１１が剥離される。 - 特許庁

This image pickup apparatus includes: an optical system; a first focusing section 340 that controls a focal position of the optical system to perform a first focusing process; a second focusing section 350 that controls the focal position of the optical system to perform a second focusing process; and a focusing process switching section 360 that switches a focusing process between the first focusing process and the second focusing process.例文帳に追加

撮像装置は、光学系と、光学系の焦点位置を制御して第１の合焦処理を行う第１合焦処理部３４０と、光学系の焦点位置を制御して第２の合焦処理を行う第２合焦処理部３５０と、第１の合焦処理と第２の合焦処理を切り替える制御を行う合焦処理切り替え部３６０と、を含む。 - 特許庁

The process (d) includes a first polishing process executed by using a first polishing pad conditioned by using a first dresser, and a second polishing process executed by using a second polishing pad conditioned by using a second dresser different from the first dresser.例文帳に追加

工程（ｄ）は、第１のドレッサを用いてコンディショニングを行った第１の研磨パッドを用いて行う第１の研磨工程と、第１のドレッサとは異なる第２のドレッサを用いてコンディショニングを行った第２の研磨パッドを用いて行う第２の研磨工程とを含む。 - 特許庁

The method of manufacturing a semiconductor device includes: a first suction process (step S30); a releasing process (step S40); a second suction process (step S50); and an exposure process (step S60).例文帳に追加

この半導体装置の製造方法は、第１吸着工程（ステップＳ３０）、開放工程（ステップＳ４０）、第２吸着工程（ステップＳ５０）、及び露光工程（ステップＳ６０）を有する。 - 特許庁

In the winding method, a first and a second signal lines, and a first dummy line are used; and a wire rod positioning process S1, a wire rod winding process S2, and a dummy line removing process S3 as a wire rod removing process, are included.例文帳に追加

第１及び第２信号線と第１ダミー線とを用いて巻線する方法であり、線材位置決め過程Ｓ１と線材巻付過程Ｓ２と線材除去過程としてのダミー線除去過程Ｓ３とを具備してなる。 - 特許庁

A predicting means 103 predicts the change of second process data based on similarity between the first process data and the second process data calculated by the similarity calculating means 101 and the current changing status of the first process data.例文帳に追加

予測手段１０３は、類似度算出手段１０１により算出された、第１のプロセスデータおよび第２のプロセスデータ間の類似度と、第１のプロセスデータの現在の変化状況と、に基づいて、第２のプロセスデータの変化を予測する。 - 特許庁

The first thermally treating process for forming the second resist layer is carried out at a lower temperature than the second thermally treating process for forming the first resist layer, or at the same temperature with the second thermally treating process for a shorter time than the second thermally treating process.例文帳に追加

２層目のレジスト層を形成するための熱処理工程は、１層目のレジスト層を形成するための熱処理工程に比べて、熱処理の温度が低いか、あるいは熱処理の温度が等しく且つ熱処理の時間が短い。 - 特許庁

In Fig. 1 is the resin plate; 11 is a press (first process); 2 is hot water (second process); 13 is a rear roll (third process); 14 is a front roll (third process); 15 and 16 are re-orientation processes (fourth process); 30 is the final product (resin net).例文帳に追加

１‥樹脂プレート、１１‥プレス機（第１工程）、１２‥温水（第２工程）、１３‥後方のロール（第３工程）、１４‥前方のロール（第３工程）、１５、１６‥再延伸工程（第４工程）、３０‥最終製品（樹脂製ネット）。 - 特許庁