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formation patternsの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 268件
To provide a pattern formation method that can form fine patterns simply and effectively and is reduced in the occurrence of a defect.例文帳に追加
微細パターンを簡易で、効率よく形成することができ、かつ、欠陥の発生が少ないパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
Patterns 2 for address electrode are formed and dried on a rear glass substrate 1 using silver paste for address electrode formation.例文帳に追加
背面ガラス基板1上に、アドレス電極形成用の銀ペーストを用いて、アドレス電極用パターン2を形成し乾燥させる。 - 特許庁
To provide injection molding equipment for lens formation which can easily enhance the accuracy of optical lenses having optical information patterns.例文帳に追加
光学情報パターンを有する光学レンズの精度出しが容易にできるレンズ形成用射出成形装置を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method for a glass ceramic board which method reduces the formation of a deformation and/or a warp due to baking without allowing formed dummy patterns to reduce the ratio of chip formation areas.例文帳に追加
ダミーパターンの形成によってチップ形成領域の割合を少なくすることなく、焼成による変形、反りの発生が低減されるガラスセラミック基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
The lower photo resist 6 is developed after a repair processing and the rib formation member layer is selectively removed by using the remaining two layers of upper and lower photo resist patterns 62, 64, 72 as resist masks for pattern formation.例文帳に追加
リペア処理後に下側フォトレジスト6を現像し、残存する上下2層のフォトレジストパターン62,64,72をパターン形成用レジストマスクとしてリブ形成部材層を選択除去する。 - 特許庁
In the pattern formation area 3 of the photomask 1, a plurality of patterns 5B for the measurement of the pattern arrangement in the pattern formation area 3 are disposed dispersed.例文帳に追加
フォトマスク1のパターン形成領域3内に、そのパターン形成領域3内のパターンの配置位置を測定するための位置測定用パターン5Bを複数分散させて配置した。 - 特許庁
The image formation of a set of image misregistration correcting patterns 22-1 is started; sensors 17, 18, and 19 start detecting the set, when a predetermined time has elapsed after the start of image formation for the first set; and detect positional information of the set is read upon detection of the set.例文帳に追加
第1セットの位置ずれ補正用パターン22−1の作像を開始し、所定時間後にセンサ17,18,19により、それを検出し、位置情報を読み取る。 - 特許庁
Thus, the inductor element is highly integrated further without the need of securing the formation area of the external connection terminal around the formation areas of the conductor patterns 200 and 400.例文帳に追加
従って、インダクタ素子は、導体パターン200及び400の形成領域の周辺に外部接続端子の形成領域を確保する必要がなく、更なる高集積化を図ることができる。 - 特許庁
The positions of base patterns formed on a substrate are detected, pattern data on patterns to be formed on the substrate are corrected on the basis of information on the positions of the base patterns, mask patterns based on the corrected pattern data are displayed in a liquid crystal panel and pattern formation is carried out by lithography using this liquid crystal panel as a mask.例文帳に追加
基板上に形成された下地パターンの位置を検出し、下地パターンの位置情報に基づいて基板上に形成すべきパターンのパターンデータを補正し、液晶パネルに補正パターンデータに基づくマスクパターンを表示し、この液晶パネルをマスクに用いてリソグラフィーによりパターン形成を行う。 - 特許庁
To provide a method for forming conductive pattern without deterioration in shape accuracy of printing patterns with initial formation of printing when selectively forming conductive patterns on the printing pattern.例文帳に追加
印刷パターン上に選択的に導電性パターンを成膜する際、初期の印刷形成による印刷パターンの形状精度を損なうことなく導電性パターンを形成可能な方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for forming a display pattern of an organic EL element, allowing the formation of various display patterns in simple processes.例文帳に追加
簡単な工程によって様々な表示パターンを形成することができる有機EL素子の表示パターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a dot pattern formation method which can easily form two types of sizes of dot patterns with one liquid droplet ejection head.例文帳に追加
1つの液滴吐出ヘッドで、2種類のサイズのドットパターンを簡単に形成することができるドットパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a charged particle beam drawing apparatus for accurately adjusting a beam size and improving accuracy of formation of fine patterns.例文帳に追加
ビームサイズを正確に調整し、微細パターン形成の精度を向上させることができる荷電粒子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁
Conductor patterns 12 and 22 are each formed on insulating layers 11 and 21 for the formation of a first inductor 1 and a second inductor 2.例文帳に追加
第1及び第2のインダクタンス素子1、2は有機成分を含む絶縁層11、21の上に導体パターン12、22を形成してある。 - 特許庁
Respective color patterns 27B and 27R are dry-etched to form blue pixels 20B, red pixels 20R, and green pixel formation regions 39.例文帳に追加
各色パターン27B,27Rをドライエッチングして、青色・赤色画素20B,20R、及び緑色画素形成領域39を形成する。 - 特許庁
Respective color patterns 27R and 27B are dry-etched to form blue pixels 20B, red pixels 20R, and green pixel formation regions 39.例文帳に追加
各パターン27R,27Bをドライエッチングして、青色・赤色画素20B,20R、及び緑色画素形成領域39を形成する。 - 特許庁
To provide a method of forming an organic material layer which realizes formation of extremely fine patterns with retaining electric properties of the layer.例文帳に追加
有機材料層の電気的特性を維持しながら、極微細パターンの形成を実現する有機材料層形成方法を提供する。 - 特許庁
The mail forming function 14 is constituted so as to be capable of selecting the quotation pattern from the main patterns A-E in the formation of a return mail to a prescribed received mail and also selecting the quotation pattern with the sub-patterns A-C composed to the main patterns.例文帳に追加
メール作成機能14では、所定の受信メールに対する返信メールの作成時に、主パタンA乃至Eの中から引用パタンが選択可能に構成され、また、副パタンA乃至Cを前記主パタンに複合させる選択も可能に構成されている。 - 特許庁
It is desirable that the linear patterns are formed after the bulge-inducing patterns are formed, and therefore, the method may further involve the step for forming bulge-confirming patterns for confirming the bulge generation positions by previously applying droplets of the composition to regions other than the pattern formation regions.例文帳に追加
バルジ誘導用パターンを形成した後、線状パターンを形成することが望ましく、予めパターン形成領域外に組成物の液滴を付与してバルジ発生位置を確認するためのバルジ確認用パターンを形成する工程をさらに含んでもよい。 - 特許庁
After the formation of the aluminum film 8 on the base films (2-7), a photoresist is applied, and exposure/development is performed for the formation of photoresist patterns 10-16 at locations different from each other in height.例文帳に追加
下地膜(2〜7)の上にアルミ配線膜8を成膜した後にホトレジストを塗布し、露光・現像を行って、前記高さが異なる各部位においてそれぞれホトレジストパターン10〜16を形成する。 - 特許庁
One piece or plural pieces of wiring pattern formation blocks 22 are made at a work board 21, and wiring patterns for one piece or plural pieces of build-up multilayer boards 11 are made at each wiring pattern formation block 22.例文帳に追加
ワーク基板21に、1個又は複数個の配線パターン形成ブロック22を形成し、各配線パターン形成ブロック22に、ビルドアップ多層基板11の1個分又は複数個分の配線パターンを形成する。 - 特許庁
To provide a pattern formation method and a pattern formation device such that when two coating patterns crossing each other are formed, at least one of the coating patterns is a thick film (with a high aspect ratio) and unevenness of a surface of a crossing part thereof is suppressed.例文帳に追加
互いに交差する2つの塗布パターンを形成する際に、少なくとも一方の塗布パターンを厚膜(高アスペクト比)に形成することができるとともに、その交差部における表面が凸凹になることを抑制することができるパターン形成方法およびパターン形成装置を提供する。 - 特許庁
The conductor patterns 2a-2f formation surfaces of the transfer substrates 1a-1f are opposed, and are stuck with resinous sheets 4a-4d between the opposing surfaces.例文帳に追加
転写用基板1a〜1fの導体パターン2a〜2f形成面を対向させ、対向面間に樹脂シート4a〜4dを挟んで固着する。 - 特許庁
To provide a convenient coating method permitting coating with a uniform film thickness and preventing the formation of nibbling patterns.例文帳に追加
均一な膜厚で塗装を行うことができるとともに、虫食い状の模様が生じることを防止できる簡便な塗装方法を提供する。 - 特許庁
More specifically, the formation positions P(1) to P(3) and P(5) to P(9) are set as the positions for forming the first to eighth registration patterns RP1 to RP8, respectively.例文帳に追加
より具体的には、第1〜8レジストパターンRP1〜RP8の形成位置として、それぞれ形成位置P(1)〜P(3)、P(5)〜P(9)が設定される。 - 特許庁
To arrange a light emitting region with a variety of patterns without relying on an arrangement pattern in the formation region of a TFT or the like in an organic EL display device.例文帳に追加
有機EL表示装置において、TFT等の形成領域の配列パターンに依らずに、発光領域を多様なパターンで配置する。 - 特許庁
To provide a vapor deposition mask which realizes elimination of the influence of radiation heat on the positional accuracy of opening patterns formed at a mask body, and consequently realizes formation of vapor deposition patterns with satisfactory positional accuracy.例文帳に追加
マスク本体に形成された開口パターンの位置精度に対する複写熱の影響を排除することが可能で、位置精度の良好な蒸着パターン形成を行うことが可能な蒸着マスクを提供する。 - 特許庁
Etching masks 5, corresponding to individual patterns, are formed by patterning on the whole surface of a conductive material 14 including a peripheral region not requiring pattern formation, and patterns are formed by etching on the whole surface of a substrate 3.例文帳に追加
個々のパターンに対応するエッチングマスク5をパターンを形成する必要のない導電性材料14の外周領域まで含めた全面にパターニングし、エッチングによって基板3の全面にパターンを形成する。 - 特許庁
The plurality of wiring patterns 2 are formed in one portion of the metal foil pattern formation region 4 so that the ratio of the width of the wiring pattern 2 to the interval between the wiring patterns 2 becomes not less than 1 and not more than 8.7.例文帳に追加
金属箔パターン形成領域4の一部では、配線パターン2同士の間隔に対する配線パターン2の幅の比率が1を越え且つ8.7以下となるように、複数の配線パターン2を形成している。 - 特許庁
A control part 30 makes the image formation part 22 and the transfer part 8 form a plurality of toner patterns so that the plurality of toner patterns including different input gradations are arranged at a random order on the intermediate transfer belt 11.例文帳に追加
制御部30は、異なる入力階調を有する複数のトナーパターンがランダムな順番で中間転写ベルト11上に並ぶように、作像部22及び転写部8に複数のトナーパターンを形成させる。 - 特許庁
In the process for forming the mask for exposure, correction is performed as necessary so as to allow the widths of mask patterns 153, 154 arranged at least at either one of formation planning positions among a plurality of line patterns 53 for grounding and a plurality of line patterns 54 for a power source, to be set to a size being not more than a design value.例文帳に追加
露光用マスク作成工程では、複数のグランド用ラインパターン53及び複数の電源用ラインパターン54のうちの少なくともいずれかの形成予定位置に配置されるマスクパターン153,154の幅を設計値以下の大きさに設定する補正を、必要に応じて実施する。 - 特許庁
To provide a semiconductor device manufacturing method, capable of surely connecting the divided patterns together, lessening a width change in a line at a joint between the transferred patterns, when the divided patterns are formed on a mask and then transferred to a resist for the formation of the pattern of a semiconductor device.例文帳に追加
分割されたパターンをマスク上に形成し、レジストに転写して半導体装置のパターンを形成する際に、転写されたパターンの接続部の線幅変化を小さくし、分割されたパターンを確実に接続できるような半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a method of forming printing patterns of a liquid crystal display element wherein the printing patterns of a plurality of colors are formed in a short time on the front of the element and which enables reduction of the manufacturing cost of the element and also formation of the printing patterns of excellent quality.例文帳に追加
液晶表示素子の前面に、複数の色の印刷パターンを短時間で形成し、液晶表示素子の製造コストを低減するとともに、良好な品質の印刷パターンを形成することができる液晶表示素子の印刷パターン形成方法を提供する。 - 特許庁
The heater layer 140C has an area along a coil formation region in which the conductor patterns 142B_1 are formed, and the heater 144 extending in the layer via an area along a non-coil formation region.例文帳に追加
ヒータ層140Cは、複数の導線パターン142B_1が形成されたコイル形成領域に沿った箇所と、コイル非形成領域に沿った箇所とを経由して層中を延びたヒータ144を有するものである。 - 特許庁
To provide a method for forming a resist pattern, the method capable of responding to formation of various types of resist patterns and allowing formation of a resist pattern excellent in depth of focus, a pattern profile, resolution, CDU (critical dimension uniformity) and resistance to pattern collapse.例文帳に追加
種々のレジストパターンの形成に対応でき、焦点深度、パターン形状、解像性、CDU及びパターン倒れ耐性に優れるレジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法の提供を目的とする。 - 特許庁
To provide a long film for pattern formation that is low in moisture content fluctuations and can form highly accurate patterns, and a patterned long film that is low in moisture content fluctuations after pattern formation and permits highly accurate subsequent machining.例文帳に追加
含水率のバラツキが小さく、高精度のパターン形成が可能なパターン形成用の長尺フィルムと、パターン形成後の含水率のバラツキが小さく、高い精度での後加工が可能なパターン付き長尺フィルムとを提供する。 - 特許庁
A plurality of position accuracy measurement patterns 16 comprising openings are formed in the circumference of the pattern formation inhibition region 19 within a light-shielding zone 14.例文帳に追加
遮光帯領域14内のパターン形成禁止領域19の周囲に、開口部からなる複数の位置精度測定用パターン16が形成されている。 - 特許庁
To provide an inspection method of a pattern formation body capable of easily detecting defects of patterns having different wettability.例文帳に追加
本発明は、容易に濡れ性の異なるパターンの欠陥を検出することができるパターン形成体の検査方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁
To finally form a pattern at optional size when patterns are formed by conducting exposure treatment plural times between resist film formation and development.例文帳に追加
レジスト膜形成処理と現像処理との間に複数回の露光処理を行うパターン形成処理において、最終的に所望の寸法のパターンを形成する。 - 特許庁
By utilizing a cured layer of the composition for fine pattern formation formed by the method, other patterns being made finer can be formed.例文帳に追加
この方法により形成された、微細パターン形成用組成物の硬化層を利用することで、別の微細化されたパターンを形成させることもできる。 - 特許庁
Flexible boards with prescribed conductive patterns formed thereon are bent and connected into rings for the formation of electromagnetic induction coils 1-3.例文帳に追加
電磁誘導コイル1〜3においては、所定の導体パターンが形成されたフレキシブル基板を屈曲させ、環状に接続することによって、コイルが構成される。 - 特許庁
An aligning mark is disposed in the pattern formation and second and later patterns are formed by exposure after alignment using the mark.例文帳に追加
本発明は第1のパターン形成時にウエファ周端部に透明窓を複数個設けたフォトマスクを使用することにより、プリアライメント補正を可能にするものである。 - 特許庁
The pattern forming method includes applying and curing a composition for fine pattern formation, having a silazane bond on surfaces of patterns formed on a substrate.例文帳に追加
基板上に形成されたパターンの表面に、シラザン結合を有する微細パターン形成用組成物を塗布し、硬化させることを含む、パターン形成方法。 - 特許庁
To provide a baseball protector which enables the formation of desired shapes and patterns on the surface thereof and prevents the breakage of the surface by improving the impact absorbency.例文帳に追加
表面に所望の形状・模様を形成でき、衝撃吸収性が向上し、表面の破損を防止するプロテクターを提供することを目的とする。 - 特許庁
The day type formation part 19 analyzes daily power usage patterns for each demander to which power is supplied, and generates some day types.例文帳に追加
この日タイプ作成部19は、電力を供給する各需要家ごとに日々の電力使用パターンを分析して、いくつかの日タイプを生成する。 - 特許庁
A composite scanning pattern 12 for an ultrasonic image formation includes a linear scanning patten 14 and one or more sector scanning patterns 16 and 18.例文帳に追加
超音波画像形成のための複合走査パターン12は、1つの直線走査パターン14と1つ以上のセクタ走査パターン16,18とを含むものである。 - 特許庁
When manufacturing the capacitor 1, a laminate 29 is formed first, and external electrode patterns 30, 31 are formed on the laminate 29 over a plurality of capacitor formation regions R, are electrically connected to internal electrode patterns 21, 23 in each capacitor formation region R, and are baked to external electrode layers 8, 9.例文帳に追加
コンデンサ1を製造する際には、まず、積層体29を形成し、積層体29上に、複数のコンデンサ形成領域Rに跨り、各コンデンサ形成領域R内において内部電極パターン21,23と電気的に接続され、焼成により外部電極層8,9となる外部電極パターン30,31を形成する。 - 特許庁
To provide a method for forming simply and conveniently a first wiring pattern including patterns of less than resolution limit in a first wiring pattern formation region and a second wiring pattern comprised of usual patterns of more than or equal to resolution limit in a second wiring pattern formation region, by using an SADP method (Self Align Double Patterning) through two-time lithography steps is used to form.例文帳に追加
2回のリソグラフィ工程によるSADP法(Self Align Double Patterning)を用いて、第1配線パターン形成領域には解像限界未満のパターンを含む第1配線パターンを形成し、第2配線パターン形成領域には解像限界以上の通常パターンからなる第2配線パターンを簡便に形成する方法を提供する。 - 特許庁
To provide an epoch-making constitutive body of a wall surface, allowing various patterns to be simply drawn on the wall surface when the appropriate patterns are drawn on the wall surface during the formation of the wall surface in a relative large place such as a dam.例文帳に追加
ダムなどの比較的大きな箇所での壁面を形成するに際し、この壁面に適宜な図柄を施そうとする場合、壁面に種々の図柄を簡易に施すことができる極めて画期的な壁面構成体を提供する。 - 特許庁
In the patterns 51, a conductive layer 5, formed in the entire wall surface of the opening 73, is formed by etching non-formed portions of the side patterns, with the side pattern formation portions covered with a side pattern resist film.例文帳に追加
側面パターン51は、搭載用開口部73の壁面全体に形成した導体層5を、側面パターン用レジスト膜により側面パターン形成部分を被覆した状態で側面パターン非形成部分をエッチングして形成したものである。 - 特許庁
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