| 例文 |
formation patternsの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 268件
To provide a pattern formation method by which the direction of bulges formed in a linear pattern is controlled as compared with that in the case linear patterns are formed by applying droplets of a composition without forming patterns for inducing bulges on the surface of a substrate.例文帳に追加
基材の表面にバルジを誘導するためのパターンを形成せずに組成物の液滴を付与して線状パターンを形成する場合に比べ、線状パターンに生じるバルジの方向が制御されるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To prevent continuous formation of mottled patterns produced by developing, reducing the occurrence of the mottled patterns and to supply liquid toner to a surface of a developing roller flatly and uniformly while raising the rate of transferring.例文帳に追加
本発明は、現像により生じるまだら模様の連続形成を阻害し、まだら模様の発生を低減して、現像ローラの面に均一かつ一様に、かつ転写率を上げて、液体トナーを供給することを目的としている。 - 特許庁
The image forming device forms a plurality of color shift detection patterns used for color shift correction for correcting the shift of the formation position of a plurality of toners of different colors on an image carrier, and corrects the formation position of the toners of the corresponding colors.例文帳に追加
画像形成装置は、色の異なる複数のトナーの形成位置のずれを補正するための色ずれ補正に使用される複数の色ずれ検出パターンを像担持体に形成し、対応する色のトナーの形成位置のずれを補正する。 - 特許庁
To provide a pattern formation method capable of forming a highly accurate pattern having no shortcircuit between conductive patterns at a high degree of freedom in pattern formation using an energy beam and a colloidal material containing ultrafine particles.例文帳に追加
エネルギービームと超微粒子を含むコロイド材料を用いたパターン形成において、導電パターン間の短絡の無い高精細なパターンを自由度高く形成することが出来るパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a light emitting device which reduces and thus facilitates processes of obtaining circuit patterns having bright surfaces by eliminating a plating step or an etching step, enables easy formation of high-density circuit patterns, and enables efficient formation of the circuit patterns having bright surfaces while omitting the bright surfaces where unnecessary.例文帳に追加
めっき加工やエッチング加工を行うことなく光沢面を有する回路パターンを得ることができて工程を数少なくして簡略化することができ、また、高密度の回路パターンを容易に形成することができ、さらに、光沢が不要な回路パターンには光沢面が形成されないようにして、光沢面を有する回路パターンを効率よく形成することができる発光装置を提供することを目的とするものである。 - 特許庁
The method of manufacturing a laminated ceramic electronic part includes a pattern formation step to form a plurality of conductor patterns and a connection pattern for connecting the conductor patterns on the same layer with each other by using thin-film formation method, a lamination step to stack ceramic green sheets wherein the conductor patterns and the connection pattern are formed, and a cutting step to cut a laminated body formed in the lamination step.例文帳に追加
複数の導体パターンと、同一層上の各導体パターンどうしを連結する連結パターンとを、薄膜形成法を用いてセラミックグリーンシート上に形成するパターン形成ステップと、前記導体パターン及び前記連結パターンが形成されたセラミックグリーンシートを積層する積層ステップと、前記積層ステップで得られる積層体を切断する切断ステップとを含む積層セラミック電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a photosetting resin composition which permits the formation of exact and fine rugged patterns even by embossing at a relatively low temperature in a short time and the prevention of blocking when the composition is made into a rolled body, a method of forming the fine rugged patterns, a rolled body, and optical articles.例文帳に追加
比較的低温・短時間でエンボスしても、正確な微細凹凸パターンが形成でき、巻取体としたときにブロッキングを防止できる光硬化性樹脂組成物、微細凹凸パターン形成方法、巻取体、及び光学用物品を提供する。 - 特許庁
Because of the dummy patterns 7, the problem of the residual caused by the loading effect of dry etching for pattern formation, which occurs in the inter-wiring spaces 6, is resolved.例文帳に追加
ダミーパターン7によって配線間スペース6で発生していたパターン形成のためのドライエッチングによるローディング効果に起因する残さの問題を解決できる。 - 特許庁
To provide a photosensitive composition that find applications in formation of microscopic patterns for semiconductor production and that is superior to conventional products in exposure latitude, LWR (line width roughness) and pattern collapse performance.例文帳に追加
半導体製造の微細なパターン形成に用いられ、従来品よりも露光ラチチュード、LWR、パターン倒れ性能に優れた感光性組成物を提供すること。 - 特許庁
To provide sporting goods capable of preventing the formation of poor appearance of decorating patterns formed at its outside and maintaining an excellent appearance for a long period of time.例文帳に追加
外側に形成した装飾模様の外観不良の発生を防止し、長期間にわたって優れた外観を維持することのできるスポーツ用品を提供すること。 - 特許庁
To provide a method of forming a mask pattern that discriminates the formation history of patterns of workpiece materials formed, and to provide a method of manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加
形成された被加工材のパターンの形成履歴を判別することが可能なマスクパターンの形成方法および半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁
To improve flaw detecting precision by carrying out correction to remove an influence due to a pattern with respect to image data, when a steel plate surface has formation patterns, etc., on it.例文帳に追加
鋼板表面に地合模様等がある場合に、その模様による影響を除去する補正を画像データに対して行うことにより、疵検出精度を向上させる。 - 特許庁
Injection port patterns 24 are formed and opened on one sides 23 in a horizontal direction of seal parts 22 drawn in a panel formation area of a large-sized glass substrate of a large-sized array substrate.例文帳に追加
大型アレイ基板の大型ガラス基板のパネル形成領域に描画するシール部22の横方向の一側の辺23に注入口パターン24を設けて開口させる。 - 特許庁
To prevent the formation of a row of exposure patterns on a part between mutually adjacent exposure areas at the outside of a plurality of exposure areas set in a transfer direction.例文帳に追加
搬送方向に設定された複数の露光領域の外部にて互いに隣接する露光領域の間の部分に露光パターン列が形成されるのを防止する。 - 特許庁
To provide a pattern formation method of forming two parallel wire patterns, often used in various electronic devices, optical device or the like, with high accuracy.例文帳に追加
様々な電子デバイス、光学デバイス等でしばしば用いられている平行な2本線パターンを高精度に形成するパターン形成方法提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a ceramic circuit substrate and a semiconductor light-emitting module, which are excellent in durability against heat shock and high in bonding strength while permitting the formation of minute wiring patterns.例文帳に追加
ヒートショックに対する耐久性に優れ、接合強度が高く、微細な配線パターンが形成できるセラミック回路基板および半導体発光モジュールを提供する。 - 特許庁
To provide a method for producing warp yarns for patterns and improved in formation of each yarn layer, and to provide a sectional warper for patterned warp yarns and for performing the method.例文帳に追加
各糸層の構成を改善した柄用経糸を製造する方法と、その方法を実施するための柄経糸用部分整経機を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a method for forming patterns by which the formation of an organic silicon mask retaining a masking property to a film to be processed without being deteriorated is made possible.例文帳に追加
被加工膜に対するマスク性が劣化することのない有機シリコンマスクを形成することを可能とする、パターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To attain both the formation of one set of deviation detection patterns necessary for maintaining color misalignment correction accuracy equivalent to that of the conventional and speeding-up of a normal image output processing.例文帳に追加
色ずれ補正精度を従来と同等に維持するために必要な1セットのずれ検出用パターンの形成と、通常の画像出力処理の迅速化を両立させる。 - 特許庁
Since differences are produced in the diffraction effects of light by the presence or absence of the grooves 4 between these land parts, the formation of the visibly recognizably patterns in the information recording regions is made possible.例文帳に追加
このランド部間のグルーブ4の有無で光の回折効果に差が出るため、目視により認識可能なパターンを情報記録領域に形成可能となる。 - 特許庁
Variations in the thickness of the circuit pattern are averaged out, by preventing the locations of the nozzles of the head part 100b in the formation of a plurality of layers of circuit patterns from superimposing.例文帳に追加
複数層の回路パターンを形成するときのヘッド部100bのノズル位置が重ならないようにすることで、回路パターンの厚みのばらつきを平均化する。 - 特許庁
To provide a photosensitive polymer which can improve the characteristics of resist compositions, such as transmittance and dry etching resistance, and to enable the formation of fine patterns.例文帳に追加
透過度および乾式エッチングに対する耐性など、レジスト組成物の特性を向上させる感光性ポリマーを提供し、さらに微細なパターン形成を可能にする。 - 特許庁
Pressurization and exhaust orifices 6 and 8 have preset degrees of opening and are set so as to obtain pressurization and decompression patterns wherein a dew formation due to abrupt decompression does not occur.例文帳に追加
加圧用、排気用オリフィス6,8は予めその開度が設定され、急激な減圧により結露が生じないような加圧、減圧パターンが得られるよう設定される。 - 特許庁
To provide a protector which enables formation of desired shapes and patterns on its surface, has an improved impact-absorbing property and has shoulder pads whose surface is prevented from being broken.例文帳に追加
表面に所望の形状・模様を形成でき、衝撃吸収性が向上し、表面の破損を防止する肩パット部を有するプロテクターを提供することを目的とする。 - 特許庁
The step for coating may be performed after formation of the microlens patterns (E_1) or after bleaching (F_1) (W_0>W_1) like a process (E_1/F_1), or after formation of the microlenses 17 by a thermal flow (W_2>W_3) like a process (H_1).例文帳に追加
この被覆する工程は、工程(E_1/F_1)のように、マイクロレンズパターン16形成後(E_1)又はブリーチング後(F_1)に対して行ってもよく(W_0>W_1)、工程(H_1)のように、サーマルフローによるマイクロレンズ17の形成後に行ってもよい(W_2>W_3)。 - 特許庁
To provide a method for forming drawing data capable of shortening the time for formation when forming the drawing data constituting the patterns of an exposure mask used in a process for manufacturing semiconductor devices and the patterns for direct exposure in the process for manufacturing the semiconductor devices.例文帳に追加
半導体装置の製造工程において使用する露光マスクのパターンや半導体装置の製造工程における直接露光用のパターンなどとなる描画データを作成するときに、作成時間を短縮できる描画データの作成方法を提供する。 - 特許庁
To provide an electrolytic solution by which the gaps of via-holes and trenches and overplating on fine patterns can be prevented, in the formation of the fine patterns of a semiconductor device, to provide an electroplating method for copper wiring using the same and to provide a semiconductor device obtained by using the same method.例文帳に追加
半導体素子の微細パターン形成において、ビアホールやトレンチの空隙や、微細パターン上のオーバープレーティングを防ぐことのできる銅メッキ用電解液、これを用いた銅配線用電気メッキ方法、この方法を用いて成る半導体素子を提供する。 - 特許庁
The game machine is provided with a first special mode wherein the number of specified patterns for establishing a probability variable big winning by the formation of a ready-to-win state is determined to be the largest, and a second special mode wherein the number of the specified patterns is determined to be less than that in the first special mode.例文帳に追加
リーチ状態が形成されることで確変大当りが確定する指定図柄の個数を最も多く定めた第1の特別モードと、当該第1の特別モードに比して前記指定図柄の個数を少なく定めた第2の特別モードを設ける。 - 特許庁
The second thin film 13 is anisotropically etched through the etching masks 15b for the formation of fine patterns 13a, and after a selective oxidation process is carried out using the fine patterns 13a as an oxidation mask, the fine patterns 13a are selectively removed, the first thin film 12a is eliminated, and then a quantum fine wire 17 is epitaxially grown on a part where the semiconductor substrate 11 is exposed.例文帳に追加
エッチングマスク15bを介して第2薄膜13を異方性エッチングすることにより形成された微細パターン13aを酸化用マスクとして選択酸化した後、微細パターン13aを選択的に除去すると共に、第1薄膜12aを除去して、半導体基板11が露出した部分に量子細線17をエピタキシャル成長させる。 - 特許庁
To provide a pattern formation method and a liquid droplet discharge apparatus with an improvement in shape controllability of patterns formed by the liquid droplets and at the same time maintaining optical properties of laser light to be radiated to the liquid droplets.例文帳に追加
液滴に照射するレーザ光の光学特性を維持して、液滴からなるパターンの形状制御性を向上したパターン形成方法及び液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method for forming fine and accurate resist patterns without being affected by a PED or a PCD in resist pattern formation using charged particle beams.例文帳に追加
荷電粒子線によるレジストパターン形成において、PED、PCD等によって影響を受けることなく、微細で、かつ、正確なレジストパターンを形成するための方法を開発すること。 - 特許庁
A uniform layer of an ink is coated on a layer of a wet solution 32 and a surface layer on which images can be formed again using an ink application sub-system 46 following the formation of patterns of the surface of the wet solution 32.例文帳に追加
湿潤溶液層32のパターン形成に続き、インク塗布サブシステム46を用い、湿潤溶液32の層と再作像可能表層の上にインクの均一層を塗布する。 - 特許庁
A pattern formation control section causes image forming units by color to form toner patterns PT so that the densities of the leading and trailing ends are higher than that of the middle parts in the running direction of the transfer belt.例文帳に追加
パターン形成制御部が、各色別の作像ユニットに、トナーパターンPTを、転写ベルト走行方向の先端部及び後端部の濃度を中央部よりも薄い濃度で形成させる。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a master disk for an optical disk with which the formation of fine groove patterns and the reduction of a manufacturing cost are made possible, a stamper and a substrate for the optical disk, respectively.例文帳に追加
微細な溝パターンの形成と、製作コストの低減化とを図ることができる光ディスク用原盤、スタンパ、光ディスク用基板のそれぞれの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a simple formation method of barrier ribs of a plasma display panel capable of directly peeling off resin patterns after a barrier rib material is filled between the resin pattern and the resin pattern.例文帳に追加
樹脂パターンと樹脂パターンの間に障壁材料を充填後、樹脂パターンを直接剥離することが可能な簡便なプラズマディスプレイパネルの障壁の作成方法を提供する。 - 特許庁
When contamination is adhered before the step of forming the film 5, its part is raised, and hence a pattern formation is failed to be short-circuited when forming the checking patterns 7a, 7b.例文帳に追加
層間絶縁膜5の形成工程以前で異物が付着すると、その部分が盛り上がるので、チェック用電極パターン7a,7bの形成時にパターン形成が失敗しショートする。 - 特許庁
To provide a system and a method capable of measuring or detecting alignment patterns of an upper layer and one or a plurality of layers formed precedently before the formation of the next feature pattern.例文帳に追加
次のフィーチャパターンの形成前に、上部の層および先行して形成される1つまたは複数の層のアライメントパターンを測定または検出できるシステムおよび方法を提供する。 - 特許庁
To provide the easy manufacturing method of an electronic component which enables formation of different materials between layers and conductor patterns and is free from lamination slippage and deformation due to almost a flat layer.例文帳に追加
層間や導体パターンの間に異なる材質を形成する事が可能で、且つ略平坦な層による積層ズレや変形のない電子部品の簡易的な製造方法の提供。 - 特許庁
The thinned patterns MP1 and MP2 are constructed so that blank dots are compensated mutually and dot formation density is periodically varied in the main scanning direction and the sub scanning direction.例文帳に追加
間引きパターンMP1,MP2は、互いに空きドットを補完し合うとともに、ドットの形成密度が主走査方向および副走査方向に周期的に変化するように構成されている。 - 特許庁
Furthermore, a red layer 33R is formed, and the blue patterns 27 and the red layer 33R are dry-etched to form blue pixels 20B, red pixels 20R, and green pixel formation regions 39.例文帳に追加
更に赤色層33Rを形成し、青色パターン27及び赤色層33Rをドライエッチングして、青色・赤色画素20B、20R、及び緑色画素形成領域39を形成する。 - 特許庁
When a coil l is supposed to be a final target coil, the coil conductor patterns obtained by cutting the coil along the cut surfaces parallel with the laminated surfaces are laminated for the formation of the coil 1.例文帳に追加
コイル1は、最終的に得るべきコイルを想定したとき、積層面に対して平行となる切断面で切断して得られるコイル用導体パターンを積重ねて形成する。 - 特許庁
To enable the formation of a considerably minute conductive portion of high density for electrically connecting wiring patterns which are formed in both sides of a substrate, and facilitates mass production of a circuit board.例文帳に追加
基板の両面に形成される配線パターンを電気的に接続する導通部をきわめて微細にかつ高密度に形成することができ、また、配線基板を容易に量産可能とする。 - 特許庁
In the final coloring resist formation, a primary baking process of setting all coloring resist patterns having been developed together at a time is carried out instead of the photosetting and temporary postbaking process.例文帳に追加
最後の着色レジスト形成時においては、光硬化及び仮ポストベーク工程の代わりに全ての現像後着色レジストパターンを一括して硬化させる本焼成工程を行う。 - 特許庁
To provide an electroless plating method for a resin base material, wherein the formation of flat and smooth plating patterns superior in adhesion property to the resin base material is achieved by way of simple steps.例文帳に追加
簡便な工程により、樹脂基材への密着性に優れ、平滑なめっきパターンが形成できる樹脂基材への無電解めっき方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To shorten the processing time for photo proximity effect correction and to suppress an increase of TATs in formation of pattern data even if the variations in the line widths and base widths of photomask patterns increase.例文帳に追加
光近接効果補正の処理時間の短縮を図り、フォトマスクパターンの線幅やスペース幅のバリエーションが増加しても、パターンデータの作成におけるTATの増加を抑制する。 - 特許庁
To provide a photocurable resin composition having good alkali developability and suitable for use in batch formation of a plurality of patterns in a display device or the like with a photomask.例文帳に追加
階調マスクを用いて表示装置等における複数のパターンを一括形成する場合に好適に用いられ、アルカリ現像性が良好である光硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
A printed wiring board (1) is provided with a conductive layer (13) having wiring patterns on the single side of an insulating layer (11) and a solder formation part (15) provided in a part of a conductive layer (13).例文帳に追加
プリント配線板(1)は、絶縁層(11)の片面に配線パターンをなす導電層(13)を備え、導電層(13)の一部に実装用のハンダ形成部(15)が設けられる。 - 特許庁
To provide a moving body having the same structure and local communication function and performing preset function with the assembly of a number of moving bodies, and a method allowing quick formation of a plurality of sub-patterns or complicated patterns by efficiently gathering a number of moving bodies scattered in a wide range at a pattern formation position to perform to perform given work.例文帳に追加
同じ構造を有し、局所通信機能を持ち、多数が集合して所定の機能を果たすような小型の移動体を提供し、この移動体により所定の作業を行わせるため、広範囲に分散した多数の移動体を効率よくパターン形成位置に集合させて、複数のサブパターンや複雑なパターンも高速に形成することを可能とする方法を提供する。 - 特許庁
In the case of N<M, the flag F=1 is set and the electrostatic charging state of toners for colors is beforehand restored only when the number L of image formation times in the monochromatic mode after the previous image formation (including the formation of reference patterns for image stabilization regulation) in the color mode is greater than a prescribed value P (Yes in S402 and No in S403).例文帳に追加
N<Mである場合には、M≦2Nで、かつ、前回にカラーモードでの画像形成(画像安定化調整用の基準パターンの形成含む)後のモノクロモードでの画像形成回数Lが所定値Pよりも大きい場合にのみ(S402でYes、S403でNo)フラグF=1にし、カラー用トナーの帯電状態を事前に回復させておく。 - 特許庁
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