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layer elementの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 18197件
To provide a conductive liquid crystal element, where a liquid crystal layer is formed as an oriented and satisfactory carrier transport layer by forming a liquid-crystalline carrier transport layer on the electrode in a laminated structure, and thereby a current value flowing through the element is increased.例文帳に追加
電極上に液晶性キャリア輸送層を積層構造で形成することにより、液晶層を配向させた良好なキャリア輸送層として形成し、素子を流れる電流値を増加した導電性液晶素子を提供する。 - 特許庁
Therefore, the interface between the light-emitting layer 10a and the hole-blocking layer 10b is stabilized, so that element defects such as crystallization at the time of forming of the hole-blocking layer 10b will not be given rise to, and the element will be excellent in stability and enjoy a longer life.例文帳に追加
従って、発光層10aとホールブロッキング層10bとの界面が安定するし、ホールブロッキング層10bを形成したときに結晶化等の素子欠陥も生じず、素子の安定性に優れ、素子寿命が長くなる。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing an electronic component, having a passive element formed on a multi-layer ceramics substrate having a penetrating electrode, fusion of the multi-layer ceramics substrate which is suppressed and having an increased distance between the multi-layer ceramics substrate and passive element.例文帳に追加
貫通電極を有する多層セラミック基板上に受動素子を形成する電子部品の製造方法において、多層セラミック基板の溶解を抑制することおよび多層セラミック基板と受動素子との距離を離すこと。 - 特許庁
There is provided a semiconductor device formed by die-bonding a semiconductor element to a mounting substrate, with a silver or Ag alloy metallized layer, a nickel layer, a stress releasing layer, and an adhesion layer disposed in this order on a surface of an opposite side to the surface of the translucent substrate where a semiconductor layer constituting the semiconductor element is disposed.例文帳に追加
半導体素子が実装用基板にダイボンディングされてなる半導体装置であって、半導体素子を構成する半導体層が配置する透光性基板表面の反対側の面に、銀又は銀合金メタライズ層、ニッケル層、応力緩和層、接着層がこの順に配置されてなる半導体装置。 - 特許庁
To eliminate the danger that etching an LED element layer 2 may progress down to a contact layer (n) 105 directly beneath, and optimally sets the thickness of an etching stop layer 106 to prevent a lattice defect from occurring at the boundary between the etching stop layer 106 and the LED element layer 2.例文帳に追加
LED素子層2のエッチング処理中に直下のコンタクト層(n)105にまでエッチングが進行してしまう危険性を排除し、且つ、エッチング停止層106とLED素子層2との境界に格子欠陥が発生するのを未然に防止するために、エッチング停止層106の層厚を最適に設定する。 - 特許庁
The light emitting element has at least electrode layers 2 and 6, a light emitting layer 5, and a p-type semiconductor layer 3 on a substrate 1, and is characterized in having an intermediate layer 4, containing at least one kind of element selected from the fourth to fifth groups of the periodic table, between the light emitting layer 5 and p-type semiconductor layer 3.例文帳に追加
基板1上に、少なくとも電極層2,6と、発光層5と、p型半導体層3を有し、発光層5とp型半導体層3との間に、周期律表の第4族〜第6族から選ばれる少なくとも1種の元素を含有する中間層4を有することを特徴とする。 - 特許庁
In the electroluminescence element in which at least the transparent positive electrode layer, the light emitting medium layer and the negative electrode layer are successively layered on the transmissive substrate and which is coated and sealed by the moisture-proof film, the electroluminescence element having at least one layer of an easy-adhering insulating layer on the light transmissive substrate is provided.例文帳に追加
透光性基板上に、少なくとも透明陽極層、発光媒体層、陰極層を順次積層し、耐湿性フィルムで被覆封止してなるエレクトロルミネッセンス素子において、透光性基板上に少なくとも一層の易接着絶縁層を有することを特徴とするエレクトロルミネッセンス素子を提供する。 - 特許庁
In this organic EL element 100, an element substrate 120, in which a lower electrode 102, a hole injection layer 103, a hole transport layer 104, a luminescent layer 105, an electrode transport layer 106, an electron injection layer 107, and an upper electrode 108 are formed on a support substrate 101, is sealed by a sealing film 110.例文帳に追加
有機EL素子100では、支持基板101上に下部電極102、正孔注入層103、正孔輸送層104、発光層105、電子輸送層106、電子注入層107および上部電極108が形成されて構成された素子基板120が、封止膜110によって封止される。 - 特許庁
The flexible display device includes: the flexible substrate 27; the display element layer 25 formed on the flexible substrate 27; and the insulating protective layer 23 covering the display element layer 25, wherein at least one of the etching ratio of glass to the insulating protection layer and the etching ratio of stainless steel to the insulating protection layer is 1:20 or higher.例文帳に追加
更に、フレキシブル基板27と;フレキシブル基板27上に形成された表示素子層25と;表示素子層25を保護する絶縁保護層23を備えて、ガラス:絶縁保護層のエッチング比及びステンレス:絶縁保護層のエッチング比の中、少なくともいずれか一つは1:20以上であるフレキシブル表示装置。 - 特許庁
The iron based parts are provided with an iron based base material 13X, a surface modification layer 12X in which at least a nitrogen element is diffused as a surface modification diffusing element and formed on the upper layer of the base material 13X, and an oxide layer 11X formed on the upper layer of the surface modification layer 12X and consisting of lithium-iron compound oxide.例文帳に追加
鉄系の基材13Xと、少なくとも窒素元素が表面改質拡散元素として拡散されるとともに、基材13Xの上層に形成された表面改質層12Xと、表面改質層12Xの上層に形成されたリチウム・鉄複合酸化物よりなる酸化物層11Xと、を備える。 - 特許庁
The semiconductor device includes: a first semiconductor layer 33 formed on a support substrate 31 via an embedded oxide layer 32; and a second semiconductor layer 34 formed on the support substrate, a first element is formed in the first semiconductor layer, and a second element is formed in the second semiconductor layer.例文帳に追加
半導体装置は、支持基板31上に埋め込み酸化物層32を介在して形成された第1の半導体層33と、この支持基板上に形成された第2の半導体層34とを備え、上記第1の半導体層中に第1の素子が形成され、上記第2の半導体層中に第2の素子が形成されている。 - 特許庁
The submount has a submount substrate, a solder layer formed on the main surface of the submount substrate, and a solder layer where a transition element layer using at least one kind of transition element as a main constitutent and a precious metal layer using at least one kind of precious metal as a main constituent are laminated from the side of the submount substrate between the submount substrate and solder layer.例文帳に追加
サブマウントは、サブマウント基板と、サブマウント基板の主表面上に形成されたはんだ層と、それらの間に、サブマウント基板側から遷移元素の少なくとも1種を主成分とする遷移元素層と貴金属の少なくとも1種を主成分とする貴金属層とが積層されたはんだ密着層を備える。 - 特許庁
The MR head 10 has a magnetic shield layer 12 also acting as a lower electrode, a magnetic gap controlling layer 14 formed on the lower electrode and magnetic shield layer 12, an MR element 30 formed on the magnetic gap controlling layer 14, and a magnetic shield layer 28 also acting as an upper electrode formed on the MR element 30.例文帳に追加
MRヘッド10は、下電極兼磁気シールド層12と、下電極兼磁気シールド層12上に形成された磁気ギャップ調整層14と、磁気ギャップ調整層14上に形成されたMR素子30と、MR素子30上に形成された上電極兼磁気シールド層28とを備えている。 - 特許庁
In the magnetic recording medium having a substrate, a magnetic body layer formed on the substrate and the surface protective film formed on the magnetic body layer, a monitor layer having a second element whose elution amount is more than that of a first element contained in the magnetic body layer to a prescribed extracting liquid is formed at the lower part of the magnetic body layer.例文帳に追加
基板と基板上に形成された磁性体層と磁性体層上に形成された表面保護膜とを有する磁気記録媒体において、所定の抽出液に対して磁性体層に含まれる第1の元素より溶出量の多い第2の元素を有するモニタ層を、磁性体層の下に形成した。 - 特許庁
An organic light emitting display device comprises: a substrate; an element circuit arranged above the substrate; a pixel electrode electrically connected to the element circuit; a pixel defining layer exposing the pixel electrode; an intermediate layer arranged on the pixel electrode, the intermediate layer being configured to emit light; and a first ion injected layer formed on the pixel defining layer.例文帳に追加
基板と、基板上に配される素子回路部と、素子回路部と電気的に連結される画素電極と、画素電極を露出させる画素定義膜と、画素電極上に配されて光を放出する中間層と、画素定義膜上に形成される第1イオン注入層と、を備える有機発光表示装置。 - 特許庁
POLYMER, MATERIAL FOR LUMINESCENT LAYER, MATERIAL FOR ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT, COMPOSITION FOR ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT, AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT, ORGANIC SOLAR CELL ELEMENT, ORGANIC EL DISPLAY DEVICE, AND ORGANIC EL LIGHTING UTILIZING THE SAME例文帳に追加
重合体、発光層材料、有機電界発光素子材料、有機電界発光素子用組成物、これらを利用した有機電界発光素子、有機太陽電池素子、有機EL表示装置、及び有機EL照明 - 特許庁
In the heat exchanger, a heat exchange element 3 is formed by arranging a heat transfer tube 2 passing a heat transfer element in an external surface of a heat transfer tube 1 passing a heat transfer target element, and a resin layer 4 is provided in an outer circumference of the heat exchange element 3.例文帳に追加
被伝熱体を流す伝熱管1の外面に伝熱体を流す伝熱管2を配して熱交換体3が形成され、熱交換体3の外周に樹脂層4が設けられている熱交換器。 - 特許庁
A light emitting element array comprises: a light emitting element package having a light emitting element and a body containing a first and a second lead frame electrically connected to the light emitting element; and a substrate in which the light emitting element package is arranged thereon and which has a base layer and a metal layer arranged on the base layer and electrically connected to the light emitting package.例文帳に追加
本発明の一実施例は、発光素子、及び前記発光素子と電気的に接続している第1及び第2リードフレームを有するボディーを備える発光素子パッケージと、前記発光素子パッケージが配置され、ベース層、及び前記ベース層上に配置され、前記発光素子パッケージと電気的に接続しているメタル層を有する基板とを備える発光素子アレイである。 - 特許庁
In the semiconductor device 900, the function layer including a projected semiconductor element 13 and a semiconductor element member 500 including an electrode 13h, which drives the semiconductor element and is provided at the surface of the function layer and circumference of the external edge of the semiconductor element, are bonded to a predetermined substrate 600.例文帳に追加
突設された半導体素子13を含む機能層と、半導体素子を駆動させ、機能層の表面でかつ半導体素子の外縁の周囲に設けられている電極13hと含む半導体素子部材500を、所定の基板600に接着してなる半導体装置900である。 - 特許庁
The optical transmitting apparatus has at least a semiconductor laser element having an active layer region for a laser oscillation and a cladding region for an optical confinement, a light emitting element capable of feeding an optical energy to the active layer region of the semiconductor laser element, and a driving circuit of the semiconductor laser element.例文帳に追加
本発明は、レーザ発振の為の活性層領域と光閉じ込め用のクラッド領域とを有する半導体レーザ素子と、前記半導体レーザ素子の前記活性層領域に光エネルギーを供給可能な発光素子と、当該半導体レーザ素子の駆動回路とを、少なくとも有する。 - 特許庁
A better conductive bus line 35 than an element 31a is brought into contact with the element 31a in a lengthwise direction of the element 31a and annexed as a 2-layer film structure on each of both side surfaces of the element 31a of the side opposed to a second electrode layer 15 of a detector 10.例文帳に追加
検出器10の第2電極層15と対向する側のエレメント31aの両サイド面上に、エレメント31aよりも良導電性のバスライン35を、エレメント31aの長さ方向に、該エレメント31aに接触させて2層膜構造として併設する。 - 特許庁
To effectively prevent occurrence of separation and a crack of a mold resin layer around an opening on the surface of a semiconductor element, in the semiconductor element formed so as to expose a part of the surface of the semiconductor element by forming an opening on a mold resin layer molding the semiconductor element.例文帳に追加
半導体素子をモールドするモールド樹脂層に開口部を設けることにより、半導体素子の表面の一部を露出させるようにしたものにあって、半導体素子の表面の開口部の周囲におけるモールド樹脂層の剥離や亀裂の発生を効果的に防止する。 - 特許庁
The semiconductor device includes a semiconductor element region where a semiconductor element is formed by selectively etching a semiconductor layer and a monitor region which is made of the same material with the semiconductor layer and provided with a monitoring semiconductor element for inspecting an amount of selective etching on the semiconductor element.例文帳に追加
半導体層が選択エッチングされることにより半導体素子が形成される半導体素子領域と、前記半導体層と同じ材質からなり、前記半導体素子が選択エッチングされた量を検査するモニタ用半導体素子が設けられたモニタ領域とを有することを特徴とする。 - 特許庁
The image sensor includes: a semiconductor substrate; a plurality of picture elements disposed on the semiconductor substrate, each of which has one picture element electrode; a photoconductive layer and a transparent conductive layer disposed successively on each picture element electrode; and a shield element disposed between the respective picture element electrodes.例文帳に追加
イメージセンサーは、半導体基板と、半導体基板の上に定められ、各々1個の画素電極を有する複数の画素と、画素電極の上に順次設置される光伝導層及び透明導電層と、それぞれの画素電極の間に設けられるシールド素子とを含む。 - 特許庁
The time to reduce the metallic element content within a metallic element diffusion treatment layer to 3-5 wt.% is predicted in a plane analysis by utilizing a behavior of an increase in the ratio of an area occupied by an island-shaped low metallic element concentration phase distributed within the metallic element diffusion treatment layer.例文帳に追加
面分析により、金属元素の拡散処理層内にて島状に分布する低金属元素濃度相が占める面積率の増加挙動を利用してこの金属元素拡散処理層内の金属元素含有率が3〜5重量%にまで低下する時期を予測する。 - 特許庁
An element isolation section includes the element isolating film formed on two regions and made of a silicon oxide film formed on a surface of a silicon substrate, and a field channel isolation layer formed between element isolation films, formed on the two regions and made of a reverse conductivity type layer to the conductivity type of an active element.例文帳に追加
素子分離部が、2つの領域に形成され、シリコン基板表面に形成されたシリコン酸化膜より成る素子分離膜と、2つの領域に形成された素子分離膜間に形成され、前記能動素子の導電型とは逆の導電型層から成るフィールドチャネル分離層よりなる。 - 特許庁
The lamp fitting 10 includes an LED element 11 and a phosphor layer 13 arranged separated from the LED element so that light L from the LED element can enter, and is structured so as to irradiate outside mixed color light L1 of the light from the LED element and the phosphor excited from the phosphor layer.例文帳に追加
LED素子11と、LED素子からの光Lが入射するようにLED素子から離れて配置された蛍光体層13と、を含んでおり、LED素子からの光と蛍光体層で励起された蛍光との混色光L1を外部に照射するように、灯具10を構成する。 - 特許庁
A semiconductor laser element is provided with a lower clad layer 2, an active layer 3, a first upper clad layer 4 and an etching stop layer 5 which are stacked in order on a substrate 1, a second ridge upper clad layer 7 provided on the layer 5, and optical confinement layers 10 provided on the sides of the layer 7.例文帳に追加
半導体レーザ素子は、基板1の上に順に積層された下部クラッド層2、活性層3、上部第1クラッド層4、およびエッチングストップ層5と、エッチングストップ層5の上に設けられたリッジ形の上部第2クラッド層7と、上部第2クラッド層7の側方に設けられた光閉じ込め層10とを備えている。 - 特許庁
The organic electroluminescent element 1 is provided with a hole injection electrode layer 12, an electron injection electrode layer 14, an organic material layer 13 pinched between the hole injection electrode layer 12 and the electron injection electrode layer 14, and a protective film 20 coating an exposed face each of the electron injection electrode layer 14 and the organic material layer 13.例文帳に追加
有機エレクトロルミネッセンス素子1は、ホール注入電極層12と、電子注入電極層14と、ホール注入電極層12と電子注入電極層14との間に挟持された有機物層13と、電子注入電極層14と有機物層13の露出面を被覆する保護膜20とを有する。 - 特許庁
The organic electroluminescent element 1 is provided with a hole injection electrode layer 12, an electron injection electrode layer 14, an organic compound layer 13 pinched between the hole injection electrode layer 12 and the electron injection electrode layer 14, and a protective film 20 coating the exposed faces of the electron injection electrode layer 14 and the organic matter layer 13.例文帳に追加
有機エレクトロルミネッセンス素子1は、ホール注入電極層12と、電子注入電極層14と、ホール注入電極層12と電子注入電極層14との間に挟持された有機物層13と、電子注入電極層14と有機物層13の露出面を被覆する保護膜20とを有する。 - 特許庁
The organic electroluminescent element 1 is provided with a hole injection electrode layer 12, an electron injection electrode layer 14, an organic compound layer 13 laid between the hole injection electrode layer 12 and the electron injection electrode layer 14, and a protection film 20 coating the exposed faces of the electron injection layer 14 and the organic compound layer 13.例文帳に追加
有機エレクトロルミネッセンス素子1は、ホール注入電極層12と、電子注入電極層14と、ホール注入電極層12と電子注入電極層14との間に挟持された有機物層13と、電子注入電極層14と有機物層13の露出面を被覆する保護膜20とを有する。 - 特許庁
To suppress reduction of power loss in a photovoltaic element comprising a transparent electrode layer, a photovoltaic conversion layer, a first rear surface electrode layer, an insulation layer, and a second rear surface electrode layer formed from the light incident side wherein the transparent electrode layer has an electric continuity with the second rear surface electrode layer through holes.例文帳に追加
光入射側から、少なくとも透明電極層、光電変換層、第一の裏面電極層、絶縁層、第二の裏面電極層を有し、透明電極層と第二の裏面電極層が貫通孔を介して電気的に導通された光起電力素子における電力損失の低減を抑制する。 - 特許庁
In the organic electronics element having at least one layer of a gas barrier layer on the flexible support, an electrode layer, and an organic material layer formed by coating, after forming the organic material layer, a film forming the coupled electrode layer having a drying agent containing layer is pasted.例文帳に追加
可撓性の支持体上にガスバリア層、電極層及び塗布により形成された有機材料層を少なくとも1層有する、有機エレクトロニクス素子において、前記有機材料層を形成したのち、乾燥剤含有層を有する対電極層を形成したフィルムが貼合されてなることを特徴とする有機エレクトロニクス素子。 - 特許庁
Further, in this scintillator panel comprising a base material for supporting a phosphor layer and a reflecting layer for reflecting a light converted by the phosphor layer toward a photoelectric converting element, the circumference of the reflecting layer including the base material surface side, phosphor layer side and end surface thereof is covered with an insulating layer or a reflecting layer protective film.例文帳に追加
蛍光体層を支持するための基材と、蛍光体層で変換された光を光電変換素子側へ反射させる反射層とを備えたシンチレータパネルにおいて、反射層の基材面側及び蛍光体層側及び端面を含める全周を絶縁層もしくは反射層保護膜で覆う。 - 特許庁
An organic layer 14 comprising, in the following order, a hole supply layer 14A (a hole injection layer 14a and a hole transport layer 14b), a light-emitting layer 14B, and an electron transport layer 14C containing an arylpyridine derivative is laminated on an anode 13, and a cathode 15 is formed on the organic layer 14 to obtain the organic electroluminescent element.例文帳に追加
陽極13上に正孔供給層14A(正孔注入層14a,正孔輸送層14b),発光層14Bおよびアリールピリジン誘導体を含む電子輸送層14Cからなる有機層14をこの順に積層し、有機層14上に陰極15を形成して有機電界発光素子を得る。 - 特許庁
The light- emitting element is also provided with a low-refractive index layer 3 having a lower refractive index than the most substrate-side layer of the light-emitting region layer 2 has, a antireflection layer 4, or a light scattering layer 5 which scatters the light made incident to the substrate 1 from the layer 2 in between the substrate 1 and layer 2.例文帳に追加
さらに、半導体発光素子は、基板1と発光領域層2との間に、発光領域層2の最基板側層よりも屈折率が小さい低屈折率層3、あるいは反射防止層4、あるいは発光領域層2から基板1に入射する光を散乱させる光散乱層5を設けている。 - 特許庁
In the organic electroluminescent element having an organic layer between a positive electrode and a negative electrode, either one of both electrodes consists of a single layer body of Al alloy layer or a multi-layer body of Al alloy layer and a buffer layer, and the organic layer contains phosphorescence luminous compound.例文帳に追加
陽極と陰極との間に有機層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子において、両電極のどちらか一方が、Al合金層の単層体またはAl合金層とバッファー層との多層体からなり、該有機層が燐光発光性化合物を含んでいることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。 - 特許庁
In the organic EL element in which a hole injection layer 30, a hole transporting layer 40, a luminous layer 50, an electron transporting layer 60, an electron injection layer 80, and a negative electrode 90 are laminated in order, a diffusion layer 70 made of electron injecting material is provided in the electron transporting layer 60.例文帳に追加
陽極20の上に、正孔注入層30、正孔輸送層40、発光層50電子輸送層60、電子注入層80、陰極90が順次積層されてなる有機EL素子において、電子輸送層60内に、電子注入性材料からなる拡散層70が設けられている。 - 特許庁
The magnetoresistive effect element has a magnetoresistive effect film including pin layers 14a, 14b and a free layer 17 sandwiched between a lower shield layer 10 and an upper shield layer 19 wherein an antiferromagnetic layer 13 composed of an Mn based antiferromagnetic material is formed at a lower layer of the pin layer 14a through an Mn layer 22 on an interface.例文帳に追加
下部シールド層10と上部シールド層19との間に、ピン層14a、14bとフリー層17とを備える磁気抵抗効果膜が配された磁気抵抗効果素子であって、前記ピン層14aの下層に、界面にMn層22を挟んで、Mn系反強磁性材からなる反強磁性層13が設けられている。 - 特許庁
The MR magnetic head has a reading part obtained by laminating an upper shielding layer 5 on a lower shielding layer 2 by way of a nonmagnetic layer 3 and disposing an MR element 4 in the nonmagnetic layer and a writing part obtained by disposing an upper magnetic pole layer 9 on the upper shielding layer by way of a gap layer 6.例文帳に追加
下部シールド層2の上に非磁性層3を介して上部シールド層5を積層するとともに、非磁性層内にMR素子4を配置してなるリード部と、その上部シールド5層と、その上部シールド層の上にギャップ層6を介して上部磁極層9を配置するライト部とを備えたMR磁気ヘッドである。 - 特許庁
This device comprises an epitaxial layer formed on a P-type silicon substrate, a P+ diffusion layer 3 that insolates the epitaxial layer into an N- epi-layer 4 of an element formation region and an N- epi-layer 2 of an ineffective region, and an aluminum wiring 6 that electrically connects the N- epi-layer 2 of the ineffective region and the P+ diffusion layer 3.例文帳に追加
P型シリコン基板上に形成されたエピタキシャル層と、エピタキシャル層を素子形成領域のN−エピ層4と無効領域のN−エピ層2とに分離するP+拡散層3と、無効領域のN−エピ層2とP+拡散層3とを電気的に接続するアルミ配線6とを備える。 - 特許庁
The semiconductor light emitting element comprises a GaN buffer layer 102, a non-doped GaN layer 103, an n-type GaN contact layer 104, an n-type AlGaN lower cladding layer 105, a multiple quantum well light emitting layer 106, a p-type AlGaN upper cladding layer 107 and a p-type GaN current diffusion layer 108 sequentially laminated on a sapphire substrate 101.例文帳に追加
サファイア基板101上に、GaNバッファ層102、ノンドープGaN層103、n型GaNコンタクト層104、n型AlGaN下クラッド層105、多重量子井戸発光層106、p型AlGaN上クラッド層107およびp型GaN電流拡散層108が順次積層されている。 - 特許庁
A spacer layer (105) and a Schottky junction forming layer (107) for forming a portion of a barrier layer are formed of an undoped compound semiconductor layer (InP, GaP, AlP, etc.) including P as a component element, and the carbon planar doped layer (106) is formed in the surface of the spacer layer (105) which has contact with the Schottky junction forming layer (107).例文帳に追加
バリヤ層の一部を構成するスペーサ層(105)およびショットキー接合形成層(107)を、Pを一成分元素ととして含むアンドープの化合物半導体層(InP、GaP、AlPなど)から形成し、スペーサ層(105)のショットキー接合形成層(107)に接する面に、炭素のプレーナドープ層(106)を形成する。 - 特許庁
The semiconductor device is equipped with a BOX layer 3, an SOI layer 4 formed on the BOX layer 3, a LOCOS layer 7 formed on the BOX layer 3, and an partial depletion type SOI-MOS FET 10 formed in a region (that is, element region) of the SOI layer 4 surrounded by the LOCOS layer 7 in a plan view.例文帳に追加
BOX層3と、BOX層3上に形成されたSOI層4と、BOX層3上に形成されたLOCOS層7と、SOI層4のうちの、LOCOS層7により平面視で囲まれている領域(即ち、素子領域)に形成された部分空乏型のSOI−MOSFET10と、を備える。 - 特許庁
A semiconductor device has a semiconductor substrate 11 which includes an element, interlayer insulating layers (silicon oxide layer and a BPSG layer) made on the semiconductor substrate 11, a through-hole made in the interlayer insulating layer, a barrier layer made on the interlayer insulating layer and the through-hole, and a wiring layer made on the barrier layer.例文帳に追加
半導体装置は、素子を含む半導体基板11、半導体基板11の上に形成された層間絶縁層(シリコン酸化層,BPSG層)、層間絶縁層に形成されたスルーホール、層間絶縁層およびスルーホールの表面に形成されたバリア層、およびバリア層の上に形成された配線層40を有する。 - 特許庁
A transmission line structure chip constituting a power supply decoupling element is formed of a laminated structure comprising an aluminum layer 61, an etching layer 62 not impregnated with polythiophene, an resist layer 63, an etching layer 64 impregnated with polythiophene, a magnetic thin film layer 65, a carbon-containing layer 66, a metal powder film layer 67, and a polythiophene layer 68.例文帳に追加
電源デカップリング素子を構成する伝送線路構造チップは、アルミニウム層61、ポリチオフェンが含浸されていないエッチング層62、レジスト層63、ポリチオフェンが含浸されているエッチング層64、磁性薄膜層65、カーボン含有層66、金属粉皮膜層67、ポリチオフェン層68で構成される積層構造体から形成される。 - 特許庁
The organic light-emitting element includes: a substrate; a first electrode layer regularly patterned on the substrate; a low-refraction conductive layer arranged on the first electrode layer and including a conductive material with a refractive index smaller than that of an organic layer; the organic layer arranged on the low-refraction conductive layer; and a second electrode layer formed on the organic layer.例文帳に追加
基板と、基板上に規則的にパターニングされた第1電極層と、前記第1電極層上に配置され、有機層よりも屈折率が小さい導電性物質を含む低屈折導電層と、前記低屈折導電層上に配置される有機層と、前記有機層上に形成される第2電極層と、を備える有機発光素子。 - 特許庁
A magnetic element is possessed of a ferromagnetic tunnel junction 1 of layered structure composed of ferromagnetic layer 2/tunnel barrier layer 3/ferromagnetic layer 4 or a ferromagnetic double tunnel junction of layered structure composed of ferromagnetic layer/tunnel barrier layer/ ferromagnetic layer/tunnel barrier layer/ferromagnetic layer, where it is utilized that a tunnel resistance changes with a relative angle of magnetization between ferromagnetic layers.例文帳に追加
強磁性層2/トンネル障壁層3/強磁性層4構造の強磁性トンネル接合1、あるいは強磁性層/トンネル障壁層/強磁性層/トンネル障壁層/強磁性層構造の強磁性二重トンネル接合を有し、強磁性層間の磁化の相対角度により変化するトンネル抵抗を利用した磁気素子である。 - 特許庁
The semiconductor light-emitting element includes a substrate 10, a first cladding layer 12 provided on the substrate 10, a multiquantum well layer 14 provided on the first cladding layer 12, a second cladding layer 16 provided on the multiquantum well layer 14, and a frost-processed layer 30 provided on the second cladding layer 16 and formed of an AlInGaP layer.例文帳に追加
基板10と、基板10上に配置された第1クラッド層12と、第1クラッド層12上に配置された多重量子井戸層14と、多重量子井戸層14上に配置された第2クラッド層16と、第2クラッド層16上に配置され、AlInGaP層で形成されたフロスト処理層30とを備える半導体発光素子。 - 特許庁
A non-volatile memory element manufacturing method includes a process of forming a tunnel layer including a metal silicate layer on a semiconductor substrate; a process of forming a charge trap layer on the metal silicate layer; a process of forming a charge block layer on the charge trap layer; and a process of forming a gate layer on the charge block layer.例文帳に追加
半導体基板上に金属シリケート層を含むトンネル層を形成する工程と、前記金属シリケート層上に電荷トラップ層を形成する工程と、前記電荷トラップ層上に電荷ブロック層を形成する工程と、前記電荷ブロック層上にゲート層を形成する工程とを含んで非揮発性メモリ素子製造方法を構成する。 - 特許庁
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