| 例文 |
layer patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 8592件
The method for manufacturing a semiconductor device comprises processes for forming a resist pattern on a base layer; smoothing, at least the wall surfaces of the resist pattern by applying a resist pattern smoothing material to the surface of the resist pattern and by controlling at least either one of coating thickness and heating temperature, including heating and development; and patterning the base layer by etching, using the smoothed resist pattern.例文帳に追加
下地層上にレジストパターンを形成する工程と、レジストパターンの表面にレジストパターン平滑化材料を塗布した後、加熱し、現像することを含み、塗布の厚み及び加熱の温度の少なくともいずれかを調整することにより、レジストパターンにおける少なくとも壁面を平滑化させる工程と、平滑化されたレジストパターンを用いてエッチングにより下地層をパターニングする工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁
The security film includes at least a surface-relief type hologram forming layer and a transparent reflecting layer successively layered on one surface of a support, and further includes a pattern layer disposed entirely or partially on the transparent reflecting layer, in which the pitch of a concavo-convex pattern of the surface relief type hologram recorded in the hologram-forming layer is set at a range of 200 to 500 nm.例文帳に追加
支持体の片面に少なくとも、表面レリーフ型ホログラム形成層と透明反射層とが順次積層されて設けられ、さらに透明反射層の上部の全部または一部には絵柄層が設けられていていると共に、ホログラム形成層に記録されている表面レリーフ型ホログラムの凹凸パターンのピッチが200から500nmの間に設定されている。 - 特許庁
In a decorative material 1 wherein a color layer 3 and a pattern layer 4 are provided on a base material 2 and a surface protective layer 7 is formed from an ionizing radiation curable resin composition, a uniform coating film layer 5 wherein a curable resin is crosslinked and cured and a pattern 6 high in the permeability of the ionizing radiation curable resin composition are interposed under the surface protective layer 7.例文帳に追加
基材2上に着色層3、模様層4を有し、表面保護層7が電離放射線硬化性樹脂組成物で形成してある化粧材1に、表面保護層7の下に、硬化性樹脂が架橋硬化した一様均一な塗膜層5と、電離放射線硬化性樹脂組成物の浸透性がより高い模様6とを介在させることにより、課題を解決することができた。 - 特許庁
A groove pattern 4 is formed in the second insulating layer 3 consisting of a multi-layer film accumulated in sequence from a lower layer with an organic SOG film 3a and a TEOS oxide film 3b, and a barrier layer 6 is formed through the TEOS oxide film 5 formed on a wall of the groove pattern 4 to prevent the organic SOG film 3a from touching the barrier layer directly.例文帳に追加
有機SOG膜3aおよびTEOS酸化膜3bが下層から順に堆積された積層膜によって構成される第2絶縁層3に溝パターン4が形成されており、この溝パターン4の側壁に設けられたTEOS酸化膜5を介してバリア層6を形成することで、有機SOG膜3aとバリア層6とが直接接するのを防ぐ。 - 特許庁
Regarding a signal layer having a signal pattern wired to the external interface connector 20 similarly to the above, the ground pattern 11 is arranged just below the connector mounting part except a part in which the signal pattern passes and at the periphery of the part immediately below the connector mounting part.例文帳に追加
外部インタフェースコネクタ20に配線される信号パターンをもつ信号層については、当該信号パターンが通る部分を除いて上記同様に上記コネクタ実装部の直下とその周辺部にグランドパターン11を設ける。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of an uneven pattern film with good flatness and with less spots when arranging a reflection preventing layer on a formed uneven pattern film by which a uniform uneven pattern can be obtained in continuous production.例文帳に追加
連続生産において、均一な凹凸パターンが得られるとともに平面性にも優れ、更に形成された凹凸パターンフイルム上に反射防止層を設けたとき斑が少ない凹凸パターンフイルムの製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a pattern forming method capable of preventing pattern form deterioration of a copper thick film caused by variation in a resist pattern form in a Lithographie Galvanoformung Abformung-like process using a thick film resist layer formed by laminating light-sensitive films.例文帳に追加
感光性フィルムを積層して形成した厚膜レジスト層を用いたLIGAライクプロセスで、レジストパターン形状の変化に起因する銅厚膜パターンの形状劣化を防止することができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
The manufacturing method comprises steps of forming a photoresist pattern of irregular thickness through a mask equipped with a dual slit pattern, and finishing the transfer of a two-layered conductor layer pattern used for forming a source, a drain, and channels by the use of only one mask.例文帳に追加
この製造方法は、デュアルスリットパターンを具えたマスクにより厚さが不均一なホトレジストパターンを形成し、一つのマスクを使用して、ソース、ドレインとチャネルの形成に用いられる二層の導体層のパターン転移を完成する。 - 特許庁
Since the silicon oxynitride film pattern 16 widening a lower part can be formed on a forward taper shape, the wiring layer pattern 17 can be formed at a very narrow interval even when the interval does not form the resist pattern exceeding the resolution limit.例文帳に追加
順テーパー形状に下部が広がったシリコン酸窒化膜パターン16を形成できるので、間隔が解像限界を超えるレジストパターンを形成しなくても非常に狭いパターン間隔で配線層パターン17の形成ができる。 - 特許庁
A first wiring pattern 11 is formed by etching on a metal flat plate, and a second wiring pattern 14 conducted through a first insulation layer 12, the first wiring pattern 11 and a through hole 13 is formed thereon.例文帳に追加
金属平板上にエッチングによって第1の配線パターン11を形成し、その上に第1の絶縁層12、及び、第1の配線パターン11とスルーホール13を介して導通する第2の配線パターン14を形成する。 - 特許庁
In the method of treating substrate, pretreatment performed for removing a damaged layer formed on the surface of the organic film pattern and the second developing treatment performed for contracting at least part of the organic film pattern or removing part of the pattern are performed in this order.例文帳に追加
有機膜パターンの表面に形成されたダメージ層を除去する前処理と、有機膜パターンの少なくとも一部を縮小するか又は前記有機膜パターンの一部を除去する現像処理(2回目)と、をこの順に行う。 - 特許庁
A pattern shape 13 to indicate a red pixel, a pattern shape 14 to indicate a green pixel and a pattern shape 15 to indicate a blue pixel are formed respectively on the red pixel 1, on the green pixel 2 and on the blue pixel 3 by using a layer deposited on an array glass.例文帳に追加
アレイガラスの上に成膜するレイヤーを用いて、赤色画素1と緑色画素2と青色画素3に、赤色画素を示すパターン形状13、緑色を示すパターン形状14、青色を示すパターン形状15を形成する。 - 特許庁
A metallized layer 10 is composed of a first metallized pattern 11 provided to the edge of the plate member of a frame member 5 and a second metallized pattern 12 provided to the outer edge 11a of the frame member of the first metallized pattern 11.例文帳に追加
メタライズ層10は、枠部材5の反板部材側の端部に設けられる第1のメタライズパターン11、ならびに第1のメタライズパターン11の反枠部材側の外縁部11aに設けられる第2のメタライズパターン12からなる。 - 特許庁
In the case of joining the split patterns to form the original pattern, alignment information obtained at aligning of any split pattern is used for alignment of a mask to form at least two split patterns of the layer including the split pattern.例文帳に追加
分割パターンをつなぎ合わせて形成する際、いずれか1つの分割パターンのアライメントで得られたアライメント情報をマスクの位置合わせに用いて、その分割パターンを含む層の少なくとも2つの分割パターンを形成する。 - 特許庁
For example, when a pattern in which a magnetic pole is changed by fixed period is used as the magnetic pattern = the logical value 0, a pattern in which a magnetic pole is changed by a period being one-integer of it is recorded as the logical value 1 in the magnetic recording layer of the conveyance belt.例文帳に追加
例えば、一定の周期で磁極が変化するパターンを磁気パターン=論理値0とした場合、その整数分の一の周期で磁極が変化するパターンを論理値1として搬送ベルトの磁気記録層に記録する。 - 特許庁
To provide a coating liquid for a pattern forming body capable of forming a wettability variation layer in which the sensitivity of a semiconductor photocatalyst is good, and a pattern forming body using the coating liquid for a pattern forming body.例文帳に追加
本発明は、半導体光触媒の感度が良好な濡れ性変化層を形成可能なパターン形成体用塗工液や、そのパターン形成体用塗工液を用いたパターン形成体を提供することを主目的としている。 - 特許庁
Furthermore, a bit line pattern 13B provided with projections and connected to the memory cells is provided, separating from the bit line pattern 13A by a prescribed space on the same wiring layer with the bit line pattern 13A.例文帳に追加
さらに、ビット線パターン13Aと同じ配線層には、メモリセルに接続され、ビット線パターン13Aが有する凹凸形状に沿って所定の間隔を保持するように凹凸形状を有する/ビット線パターン13Bが形成されている。 - 特許庁
The surface of the sample object 2 and/or the sample portion 4 has a decoration portion 8 formed for sterically producing a first pattern 10a and a second pattern 10b of a pattern layer 10 which is printed on the sample object 2 and/or sample portion 4.例文帳に追加
また、見本体2及び/又は見本部4の表面には、該見本体2及び/又は見本部4に印刷された模様層10の第1模様10aと第2模様10bを立体的に現出する装飾部8が形成されている。 - 特許庁
In the light transmittivity electromagnetic wave shield seat 1 in which a conductive layer 7 is formed in one surface of a transparent substrate 3 in a pattern shape at least and a resin layer 9 is laminated on the pattern conductive layer 7 formed in the pattern shape, the resin layer 9 contains a monoolefin series hydrocarbon or a diolefin series hydrocarbon as a constituent at least.例文帳に追加
透明基材3の一方の面に少なくとも導電性層7がパターン状に形成され、前記パターン状に形成されたパターン導電層7上に樹脂層9が積層された光透過性電磁波シールドシート1であって、該樹脂層9は、少なくともモノオレフィン系炭化水素もしくはジオレフィン系炭化水素を構成成分として含有することを特徴とする光透過性電磁波シールドシートである。 - 特許庁
The substrate includes a land 3 to be connected with the pad formed to the chip 7 and an inner-layer reinforcing pattern 5 provided for an inner-layer part thereof directly under the land 3.例文帳に追加
半導体チップ7に形成されたパッドが接続されるランド3と、ランド3の直下部分における内層部分に設けられた内層補強パターン5とを備える。 - 特許庁
The width of the middle 13c of a stripe pattern of the n-type buffer layer 13 is the same as the conventional one and a source layer 16 is disposed as to correspond to the middle 13c.例文帳に追加
しかも、n型バッファ層13のストライプ・パターンの中間部13cの幅は、従来と同様であり、ソース層16は、中間部13cに対応して配置されている。 - 特許庁
A base layer 22 is formed on the outer periphery surface of a substrate 20 in a decorative member 10, and a recess/projection pattern 22A is formed on the outer periphery surface of the base layer 22.例文帳に追加
加飾部材10では、基材20の外周面にベース層22が形成されており、ベース層22の外周面には、凹凸柄22Aが形成されている。 - 特許庁
To provide a printed wiring board which is free of wire thinning of wires of a conductor circuit and a dummy pattern and thickness variance of an inter-layer insulating resin layer and variance in plated thickness.例文帳に追加
導体回路、ダミーパターンの配線の線細り、断線がなく、かつ、層間絶縁樹脂層及びめっき厚の厚みのバラツキがないプリント配線板を提供する。 - 特許庁
A resist layer 31 is formed over one surface of a current-collector material 30, while a resist layer 32 having a predetermined pattern is formed on the other surface of the current-collector material 30.例文帳に追加
集電体材料30の一方面には全体にレジスト層31が形成され、集電体材料30の他方面には所定パターンのレジスト層32が形成される。 - 特許庁
A via hole 25 of a third layer 6 is formed using the via hole 11 of the core substrate 5, and a circuit pattern of the third layer 6 is formed with the via hole 25 used as the alignment mark.例文帳に追加
第3層6のビアホール25は、コア基板5のビアホール11を用いて製造し、ビアホール25をアライメントマークにして第3層6の回路パターンを形成する。 - 特許庁
One side of planes of a reflection layer 101d contacting with an intermediate layer 101c functions as a reflecting plane 101f, a convex pattern 103 is formed on the reflecting plane 101f.例文帳に追加
中間層101cと接する反射層101dの一方の面は反射面101fとして機能し、反射面101fには凸パターン103が形成されている。 - 特許庁
A pattern of a first catalytic layer 18 is formed on a substrate 10 on which an active matrix element 4 is formed after providing an interlayer insulating film 16 and an adhesive layer 17.例文帳に追加
アクティブマトリクス素子4を形成した基板10上に、層間絶縁膜16および密着層17を設けたのち、第1触媒層18のパターンを形成する。 - 特許庁
An initial winding tensile force is such force that does not cause peeling-off of the photosensitive layer and the occurrence of a rolled stripe pattern in the photosensitive layer of a photosensitive lithography block due to a facial pressure of a winding core part.例文帳に追加
初期巻取り張力が、巻芯部の面圧で感光性平版印刷版の感光層に剥離や圧延スジ模様が生じない大きさとされている。 - 特許庁
An overlap portion OLA between the dummy metals 15 and the first resistance layer 12A has the same pattern as that of an overlap portion OLB between the dummy metals 15 and the second resistance layer 12B.例文帳に追加
ダミーメタル15と第1の抵抗層12Aのオーバーラップ部OLAと、ダミーメタル15と第2の抵抗層12Bのオーバーラップ部OLBは同一パターンとなっている。 - 特許庁
To provide a transparent conductive film of high electrical conductivity, and having les damages to a conductive metal layer, at water-washing treatment, or the like, in forming a pattern of the conductive metal layer.例文帳に追加
導電性が高く、且つ、導電性金属層のパターン形成での水洗処理等で、導電性金属層の損傷が小さい透明導電フィルムを提供する。 - 特許庁
To automatically inspect a pattern by transmitted light, without recognizing it erroneously, even when a layer having fine unevenness such as an adhesive layer is formed on a substrate.例文帳に追加
基板上に接着剤層のような微小な凹凸を有する層が形成されていても、透過光によるパターン自動検査を誤認識なく行えるようにすること。 - 特許庁
A data analysis unit 38 extracts differential peak values corresponding to an upper layer part and a lower layer part of the pattern from the generated differential profiles, and stores them together with focus positions.例文帳に追加
データ解析部38は、生成された微分プロファイルからパターンの上層部と下層部に相当する微分ピーク値を抽出し、フォーカス位置とともに記憶する。 - 特許庁
The rugged pattern to be transferred on the sheet-like member is formed by deforming the metal layer and the substrate from the surface of the metal layer.例文帳に追加
前記シート状部材に転写されるべき凹凸模様が、前記金属層の側の表面から前記金属層および前記基材を変形させて形成されている。 - 特許庁
Similarly, a second insulating layer 7 is formed on the first insulating layer 2 with the first pattern 3 disposed therebetween.例文帳に追加
同様に、第1の絶縁層2上には第1の回路パターン3を挟んで第2の絶縁層6が形成され、その上面に第2の回路パターン7が形成されている。 - 特許庁
To provide a pattern transfer method capable of sufficiently reducing the thickness of a resin layer remaining in recesses after transfer of patterns of protrusions and recesses on the resin layer on a medium substrate.例文帳に追加
媒体基板上の樹脂層に凹凸パターンを転写した後に凹部に残る樹脂層の厚さを十分薄くすることができるパターン転写方法を提供する。 - 特許庁
A hybrid integrated circuit device 1 comprises a circuit board 10 having a surface provided with an insulating layer 11, and a conductive pattern 12 provided on the insulating layer 11.例文帳に追加
本発明の混成集積回路装置1は、表面に絶縁層11が設けられた回路基板10と、絶縁層11上に設けられた導電パターン12とを有する。 - 特許庁
Furthermore, the through hole plating layer 16 is etched using the second resist 32 as a mask thus obtaining a pad wiring portion 22 including the partial cover plating layer 20 and a wiring pattern 24.例文帳に追加
さらに、第2レジスト32をマスクにしてスルーホールめっき層16をエッチングすることにより、部分カバーめっき層20を含むパッド配線部22と配線パターン24とを得る。 - 特許庁
A coating layer 3 is laminated on a base sheet 2 and a fine intaglio plate pattern is formed on the surface of the coating layer 3 by channels 3a provided with a specified sectional shape.例文帳に追加
ベースシート2の上に被覆層3が積層され、被覆層3の表面には所定の断面形状を備えた溝3aで微細な凹版のパターンが形成されている。 - 特許庁
In a suspension substrate 1 with a circuit, a metal foil 4, a first base insulating layer 5, a conductor pattern 8, and a cover insulating layer 11 are sequentially formed on a metal support substrate 2.例文帳に追加
回路付サスペンション基板1において、金属支持基板2の上に、金属箔4、第1ベース絶縁層5、導体パターン8およびカバー絶縁層11を順次形成する。 - 特許庁
To provide a pattern forming method giving crack resistance to a lower layer film for multilayer resist process, and to provide a lower layer film forming composition and a manufacturing method of a semiconductor device.例文帳に追加
多層レジストプロセス用の下層膜にクラック耐性をもたせるパターン形成方法、下層膜形成組成物、及び半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁
A conductor pattern setting the operation of a circuit element is formed on an inner layer of a dielectric substrate 11, and a ground conductor 12 is formed on an outer layer of the substrate 11.例文帳に追加
誘電体基板11の内層に回路素子の動作を設定する導体パターンを形成し、誘電体基板11の外層には接地導体12を形成する。 - 特許庁
To provide a printed wiring board in which the occurrence of a wrap due to a heat history can be reduced and in which a conductor layer of an outermost layer can be easily formed in a fine pattern.例文帳に追加
熱履歴による反りの発生を低減することができると共に、最外層の導体層をファインパターンで形成することが容易になるプリント配線板を提供する。 - 特許庁
To provide a garment having two pieces of cloths as an outer layer and an inner layer, making an outer cloth (second cloth) openable and closable, and capable of displaying a pattern formed on an inner cloth (first cloth) when the outer cloth is opened.例文帳に追加
内外に2重の布部を有し、外側布部を開閉可能とし、開放時に内側布部に施した図柄が表示できる衣服を提供する。 - 特許庁
Due to this structure, when removing SiO_2 deposited on side faces of the mask layer 53, there will be no remaining SiO_2, causing no burrs in the edge part of the inversion pattern of the inversion gate layer 32.例文帳に追加
これにより、マスク層53の側面に堆積したSiO_2を除去する際にSiO_2が残留せず、反転ゲート層32の反転パターンの縁部にバリが生じない。 - 特許庁
To obtain a screen printing device performing formation of a seal pattern on a substrate on which an alignment layer material is formed and performing alignment treatment to the alignment layer material.例文帳に追加
配向膜材料が形成された基板上にシールパターンの形成を行うと同時に配向膜材料への配向処理を行うスクリーン印刷装置を得ることができる。 - 特許庁
On the face of the coating layer 2 side of the ink receiving layer 5, a number of fine irregularities are formed and a colored pattern 6 with a coloring material is formed.例文帳に追加
インク受容層5の塗装層2側の面には、多数の微小な凹凸が形成されているとともに着色材による着色模様6が形成されている。 - 特許庁
Here, the second wiring layer dummy pattern 11 is arranged in the region which is not superimposed on the upper region of the channel region 6 as same as the first wiring layer 9.例文帳に追加
ここで、前記第二配線層ダミーパターン11は、前記第一配線層9と同様に、前記チャネル領域6の上部領域に重ならない領域に配置される。 - 特許庁
After forming the film of the barrier metal layer F2, the barrier metal layer F2 on the second bank B2 is removed together with the second bank B2 by lift off method to form the conductive film pattern F.例文帳に追加
バリアメタル層F2の成膜後、リフトオフ法により、第2のバンクB2とともに第2のバンクB2上のバリアメタル層F2を除去し、導電膜パターンFを形成する。 - 特許庁
Accordingly, the metallic pattern is not formed outside the phosphor layer, so that a light emitted from the side of the phosphor layer is prevented from being reflected to be a glare light.例文帳に追加
これにより、蛍光体層の外側に金属パターンがないため、蛍光体層の側面から出射された光が反射されてグレア光となるのを防止する。 - 特許庁
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