「layer- thickness」に関連した英語例文の一覧と使い方(191ページ目) - Weblio英語例文検索

When a rustpreventive film is formed on an ALC reinforcing strip, the reinforcing strip is dip-coated with a rustpreventive liquid, and is dried at 40 to 60°C, thus a rustpreventive film of the first layer with a film thickness of 50 to 100 μm is formed.例文帳に追加

ＡＬＣの補強鉄筋に防錆被膜を形成する際に、補強鉄筋を防錆液を浸漬塗布し、４０〜６０℃で乾燥して、膜厚５０〜１００μｍの１層目の防錆被膜を形成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a magnetic reproduction head which can reduce a gap width ready for high density recording by avoiding the formation of a step and a protrusion in the direction of a film thickness accompanied by the removal of a hard mask layer.例文帳に追加

ハードマスク層の除去に伴う膜厚方向の段差や突起の発生を回避し、高密度記録に対応可能な狭ギャップ幅化を可能にする磁気再生ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method and a manufacturing apparatus for an optical fiber, which is capable of easily adjusting the deviation in the thickness of each layer, in manufacturing an optical fiber having a structure covered with at least two coating layers.例文帳に追加

２層以上の被覆層を被覆した構造をもつ光ファイバを製造する際に、各層の偏肉調整を容易にすることが可能な光ファイバの製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁

The recording layer 3 is formed planar and the thickness thereof is approximately uniform, and the on-grooves 1a are optical recording portions.例文帳に追加

また、本発明の光記録媒体のカバー層側から、波長４５０ｎｍ以下のレーザ光を、開口数０．７以上の対物レンズを通して集光して照射し、光記録部に情報を記録する光記録方法である。 - 特許庁

The intermediate layer 14 is made of thermoplastic resin such as silicone modified thermoplastic elastomer, the thickness of which is at least 0.5 mm, the specific gravity of which is not more than 1.2, and JIS-C hardness of which is not more than 80.例文帳に追加

一方、中間層１４は、シリコーン変性熱可塑性エラストマー等の熱可塑性樹脂からなり、且つ厚み０．５ｍｍ以上、比重１．２以下、ＪＩＳ−Ｃ硬度８０以下に設定される。 - 特許庁

In the intermediate layer (the intermediate member 8), the spring constant is changed by the thickness and the load to be applied from both sides of the elastic members 4, 6, and vibration characteristics of the vibration control device 2 is changed.例文帳に追加

中間層（中間部材８）は、自身の厚さや、弾性部材４，６の両側から加わる荷重によってバネ定数が変化し、ひいては当該防振具２の振動特性を変化させる。 - 特許庁

A cleaning member 6 is attached to a developer case 2 so that a cleaning plate 7 for the cleaning member 6 may lie between the developer carrier 3 and the layer thickness control member 4, and then, the cleaning plate 7 is made movable in the longitudinal direction.例文帳に追加

清掃部材６の清掃板７が現像剤担持体３と層厚規制部材４との間に介在するように清掃部材６を現像剤ケース２に設け、長手方向に移動可能とする。 - 特許庁

The light-transmitting resin layer 7 is a resin satisfying all of the following three conditions in a film thickness of 30 μm, where saturation C* is 1≤C*≤2, a hue angle h is -135°≤h≤-45°, and lightness L* is L*≥90 in an L*C*h color model.例文帳に追加

この透光性樹脂層２は膜厚30μmにおいて、L^*C^*h表色系における彩度C^*が1≦C^*≦2、色相角度hが-135°≦h≦-45°、かつ明度L^*がL^*≧90の範囲内の３条件を同時に満たす樹脂である。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a substrate with built-in parts by which a thickness of a mounting substrate can be thinned, a manufacturing cost can be reduced, and a surface smoothness of a conductive layer can be improved; and to provide a system substrate.例文帳に追加

実装基板の厚さを薄くすることができ、製造コストを低減でき、導電層の平坦性を向上できる部品内蔵基板の製造方法及びシステム基板を提供する。 - 特許庁

This enameled sheet is the one in which at least either face of a base substrate has an enameling layer contg. 10 to 25 wt.% pigment of 0.2 to 0.26 μm average particle size and 20 to 50 μm film thickness.例文帳に追加

下地基板の少なくとも一方の表面に、平均粒径が０．２〜０．２６μｍの顔料を１０〜２５重量％含有し、膜厚が２０〜５０μｍである琺瑯層を有する琺瑯板。 - 特許庁

When the thicknesses and specific inductive capacities of the dielectric layers, the impedance of the impedance layers, the thickness and specific inductive capacity of the intermediate layer, and so on, are selected to have the optimum relation among them, the radio wave absorbing device can absorb radio waves from both sides.例文帳に追加

ここで誘電体層の厚み、比誘電率、インピーダンス層のインピーダンス、中間層の厚み、比誘電率などの最適な関係を選ぶことで両側からの電波吸収が可能となる。 - 特許庁

To provide a multilayered stretched film well keeping stretchability and thickness irregularity, reduced in cutting in a separation process and excellent in productivity, and a first polymer layer peeled from the multilayered stretched film.例文帳に追加

延伸性、厚み斑を良好に保ち、かつ分離工程において切断が少なく生産性に優れた多層延伸フィルム及び該多層延伸フィルムから剥離した第１ポリマー層を提供する。 - 特許庁

To prevent changes in the thickness of a liquid crystal layer or fading or changing in colors in a polarizer due to heating in electrical contact region between a substrate and an electronic circuit in a liquid crystal display device, and to keep homogeneity of the display.例文帳に追加

液晶表示装置の基板と電子回路との電気的接続において、加熱による液晶層の厚みの変化や偏光板の退変色の発生を防止し、表示の均質性を確保する。 - 特許庁

In the first step, a bonding layer 205 of a predetermined thickness is arranged on at least one of the functional region 101 and a region, to which the first functional region is to be transferred, on the second substrate 200.例文帳に追加

第１の工程では、機能性領域１０１と、第２の基板２００上の機能性領域移設予定領域との、少なくとも一方に所定の厚さの接合層２０５を設ける。 - 特許庁

In a laminating fabrication method, a substance which can be solidified is irradiated with radiation energy from a radiation energy source to form a solidified layer, and the solidified layers are laminated in the thickness direction to form a three-dimensional fabricated object.例文帳に追加

積層造形方法は、照射エネルギ源からの照射エネルギを固化可能物質に照射して固化層を形成し、多数枚の固化層を厚み方向に積層して三次元造形物を造形する。 - 特許庁

An underlayer of an oxide film 5 having a step T1 of 450 nm or more is coated with a PSG film 7 of a single layer with a phosphorus concentration of 2 mol wt% to 5 mol wt% and a film thickness T1 of 1.3 μm or more.例文帳に追加

４５０ｎｍ以上の段差Ｔ１のある酸化膜５の下地を、リン濃度が２ｍｏｌｗｔ％〜５ｍｏｌｗｔ％で膜厚Ｔ１が１．３μｍ以上の単層のＰＳＧ膜７で被覆する。 - 特許庁

Embossing is applied from one side of a plastic film having a predetermined thickness, on the side opposite to the one, on which the embossing is applied, a writing layer made of an ionizing radiation curable resin is provided.例文帳に追加

所定の厚みのプラスチックフィルムの一方の面からエンボス処理を施し、エンボス処理を施した面とは反対面に電離放射線硬化型樹脂によって形成した筆記層を設ける。 - 特許庁

Moreover, as the fine wire 3, the one having a circular cross-sectional shape is used, and the pattern in which the end part is made to be a slant face along a circular curved face is obtd. to uniformize the film thickness of the upper layer.例文帳に追加

また、細線３に断面形状が円形のものを用い、円形の曲面に沿って端部が緩やかな斜面をして形成されるパタンを得て、上部層の膜厚を均一化する。 - 特許庁

Next, the edge 14 of the chip element 12 is immersed into a flat-surface-like third paste 33 of the same thickness to the second paste layer 32 again, and a part of the electrode film M is removed further.例文帳に追加

この後、第２ペースト層３２と同様の厚さで平面状に形成された第３ペースト層３３に、チップ素子１２の端部１４を再度浸漬し、電極膜Ｍの一部をさらに取り除く。 - 特許庁

Although since substrate 3 itself in the two-layer structure has a thin thickness and it is not possible to apply a tape carrier system to the substrate 3 and since the substrate 3 is laminated upon the tape carrier 7, the tape carrier system can be applied to this tape material 5.例文帳に追加

２層構造のＦＰＣ基板３それ自体は厚さが薄いのでテープキャリヤ方式は無理であるが、これをキャリヤテープ７の上に積層したのでテープキャリヤ方式が可能となった。 - 特許庁

Further, since the colored layer is thin by a thickness of ≤100 μm and a part wherein the constituents in the lumber change is only a little, decrease of strength of the colored lumber is suppressed.例文帳に追加

また、着色層はその厚みが１００μｍ以下の薄いものであり、木材中の成分が変化する部分は若干量のみであるため、着色木材の強度低下が抑制されている。 - 特許庁

To provide a nonwoven fabric for electric insulation contributing to reduction of coefficient of thermal expansion of an insulating layer in thickness direction in relation to the nonwoven fabric for electric insulation containing glass fibers with flat cross-sectional shape.例文帳に追加

断面形状が偏平であるガラス繊維を含む電気絶縁用不織布に関して、絶縁層の厚さ方向の熱膨張率を低減することに寄与する電気絶縁用不織布を提供する。 - 特許庁

A thermosetting resin composition compounded with an inorganic filler with a hardness of 6 or more by Mohs scale is subjected to composite molding along with a substrate and the thickness of the layer of this thermosetting resin composition is set to 50-2,000μm.例文帳に追加

モース硬度６以上の無機系充填材を配合した熱硬化性樹脂組成物を基材と複合成形すると共にこの熱硬化性樹脂組成物の層の厚さを５０〜２０００μｍとする。 - 特許庁

To provide a means for an electrode of a battery used under high output condition capable of improving durability of the battery by relaxing unevenness of reaction generated along thickness direction of an activator layer.例文帳に追加

高出力条件下において使用される電池用電極において、活物質層の厚さ方向に沿って生じる反応ムラを緩和し、電池の耐久性を向上させうる手段を提供する。 - 特許庁

A layer thickness, a length and a width of the slender finger are optimized so as to obtain an element having a breakdown voltage in excess of 500 V, a current capacity in excess of 1 ampere and a forward voltage of less than 3 V.例文帳に追加

細長形の指の層厚、長さおよび幅は、降伏電圧が５００Ｖを超え、電流容量が１アンペアを超え、かつ順方向電圧が３Ｖ未満である素子を得るように最適化される。 - 特許庁

The ceramic assembly is cut into a circular section, the thickness t1 of the sealing material layer 15 is 0.3-5 mm, and the thermal conductivity is 0.1-10 W/mK.例文帳に追加

セラミック集合体は、断面円形状に外形カットされており、シール材層１５の厚さｔ１は０．３ｍｍ〜５ｍｍであり、かつその熱伝導率は０．１Ｗ／ｍ・Ｋ〜１０Ｗ／ｍ・Ｋである。 - 特許庁

As the ceramic sprayed layer 6a is continuously formed on the outer peripheral face and the axial both end faces by one thermal spraying nozzle 9, a film thickness can be substantially equalized excluding both end edge parts.例文帳に追加

このセラミック溶射層６ａは、１本の溶射ノズル９により上記外周面及び軸方向両端面に連続して形成する事により、その膜厚を、両端縁部を除いて実質的に均等にする。 - 特許庁

Thus the wettability of the resin substrate 2 with the coating liquid is improved and the intermediate layer 3 is uniformly formed with specified film thickness on the surface of the resin substrate 2, thereby preventing the occurrence of coating irregularity.例文帳に追加

これによって、樹脂製基体２と塗工液との濡れ性が向上し、樹脂製基体２の表面に所定の膜厚で均一に中間層３が成膜されるために塗布ムラが発生しない。 - 特許庁

The insulating layer provided with the opening parts has a thickness of 100 nm to 2 μm and is manufactured from an organic material or a material having a skeletal structure formed thereto by the bonding of silicon and oxygen.例文帳に追加

開口部を設けた絶縁層は、１００ｎｍ乃至２μｍの厚さで、有機材料又は珪素と酸素との結合で骨格構造が形成された材料で作製することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for forming a deposited film in which a photovoltaic element having no any characteristic irregularities can be obtained by depositing a semiconductor layer free from any un uniformity in film thickness and film quality.例文帳に追加

膜厚むら及び膜質むらのない半導体層を堆積して、特性むらのない光起電力素子を得ることができる堆積膜形成方法および堆積膜形成装置を提供する。 - 特許庁

Further, the metal frame 13 is provided in the same layer as the IC chip 12, so that a thickness same as that of the IC chip 12 can be secured, thereby securing a sufficient strength as a stiffener.例文帳に追加

さらに、金属フレーム１３はＩＣチップ１２と同じ層に設けられているので、ＩＣチップ１２と同等な厚みを確保することができ、補強材として十分な強度を確保することができる。 - 特許庁

The optical article has an antistatic hard-coat layer formed by using the antistatic hard-coat composition and having a thickness of ≥1 μm and ≤10 μm.例文帳に追加

本発明の光学物品は、このような帯電防止性ハードコート組成物を用いて形成した帯電防止性ハードコート層を有し、該帯電防止性ハードコート層の層厚が１μｍ以上、１０μｍ以下である。 - 特許庁

A second insulating film 7 whose thickness is 400 nm is formed on the substrate, and a contact hole 8 is formed through the second insulating film 7 and the first insulating film 6a, and reaches the impurity diffusion layer 5.例文帳に追加

基板上に、厚さ４００ｎｍの第２絶縁膜７を形成し、第２絶縁膜７及び第１絶縁膜６ａを貫通して不純物拡散層５に到達するコンタクトホール８を形成する。 - 特許庁

A plurality of the first reinforcement layers 17a are formed so as to extend along a length direction L and a width direction W and laminated along a thickness direction T in a first external layer part 10B.例文帳に追加

複数の第１の補強層１７ａは、第１の外層部１０Ｂにおいて、長さ方向Ｌ及び幅方向Ｗに沿って延びるように形成されており、厚み方向Ｔに沿って積層されている。 - 特許庁

A thickness of a resin sliding layer 3 is set so that a bearing clearance C2 in starting becomes relatively large within a range of 2.5-20% to a bearing clearance C1 in the normal service operation.例文帳に追加

常用運転時の軸受隙間Ｃ１に対し、始動時の軸受隙間Ｃ２が２．５％以上から２０％以下の範囲内で相対的に大きくなるように樹脂摺動層３の厚さを設定する。 - 特許庁

The TaN film for the semiconductor device is a TaN film used as a barrier layer to a wiring film made of Cu or Cu alloy, and is characterized by having 5% or less of the in-plane uniformity of thickness of the formed film.例文帳に追加

半導体デバイス用ＴａＮ膜はＣｕまたはＣｕ合金からなる配線膜に対するバリア層として用いられるＴａＮ膜であって、膜厚の面内均一性が5％以下とされている。 - 特許庁

It is possible to prevent a reel hub 32 from partially loosing its rigidity, by forming a single resin layer 36 with the thickness t_2 of 0.8-1.7 mm in its axial direction under the aluminum ring 112.例文帳に追加

リールハブ３２の軸方向において、アルミリング１１２の下部に位置する樹脂単独層３６の肉厚ｔ_２を０．８〜１．７ｍｍとすることで、リールハブ３２の部分的な剛性低下を抑えることができる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a barrier rib and lower panel for a plasma display panel capable of forming a barrier rib pattern of a desired shape with high accuracy, and easily determining a thickness of a dielectric layer.例文帳に追加

所望の形状の隔壁パターンを高精密度で形成し、誘電体層の厚さを容易に決定することが可能なプラズマディスプレイパネル用隔壁及び下部パネルの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method and a device for manufacturing an electronic device, by which the film thickness uniformity of a function layer can be more enhanced, without reducing the productivity, as compared with a system where masking materials are individually stuck.例文帳に追加

マスキング材を個々に貼り付ける方式に比べ、生産性を落とすことなく、機能層の膜厚均一性を高めることができる電子デバイスの製造方法及び製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing for a liquid crystal display device capable of making cell thickness of a liquid crystal cell uniform in the case two substrates, holding a liquid crystal layer in between placed opposite to each other, are composed of materials different with each other.例文帳に追加

液晶層を挟持する対向する２枚の基板が異なる材料からなる場合に、液晶セルのセル厚の均一化を可能にする液晶表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To enable the formation of a fine conductor circuit pattern by forming a filled via wherein the inside of the via is completely filled with a plating metal without increasing the thickness of a conductor layer on the surface of a laminated board.例文帳に追加

積層板表面の導体層を厚くすることなくビア内が完全にめっき金属によって穴埋めされたフィルドビアを形成し、ファインな導体回路パターン形成を可能にすること。 - 特許庁

To obtain a development device capable of forming a uniform layer thickness of a developer on a development roll even if a developer control member of a nonmagnetic material is used, and to provide an image forming apparatus equipped with the same.例文帳に追加

非磁性体の現像剤規制部材を使用しても、現像ロール上に均一な現像剤の層厚を形成することができる現像装置、及びこれを備えた画像形成装置を得る。 - 特許庁

To provide a stacked electronic component such as a stacked ceramic capacitor in which the occurrence of structural defects such as cracks is suppressed even when a dielectric layer is reduced in thickness or has an increasing number of layers.例文帳に追加

誘電体層の薄層化や多層化が進んでも、クラックなどの構造欠陥の発生が抑制された積層セラミックコンデンサなどの積層型電子部品の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a high pressure storage vessel winding many reinforcing members around a shoulder part to increase mechanical strength of an end part, in particular, the shoulder part having reduced thickness of a reinforcing layer.例文帳に追加

補強層の厚みが薄くなる鏡部、特に肩部の機械的強度を高めるために、肩部により多く補強部材を巻き付けることのできる高圧ガス貯蔵容器の製造方法を提供する。 - 特許庁

The film thickness of the oxidized layer 4 is controlled to about 10 to 5,000 nm in the recessed parts of the ruggedness and is made thicker than that in the recessed parts in the projecting parts so as to be controlled to about 10,000 nm.例文帳に追加

前記酸化層４の膜厚は、前記凹凸の凹部において約１０〜５０００ｎｍとし、凸部においては凹部の膜厚より厚く、約１００００ｎｍ以下になるように形成した。 - 特許庁