「layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(979ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a moire-patterned decorative body which makes a moire pattern comprising various designs appears, by merely imprinting the design pattern of a pattern layer formed on the surface of a translucent layer, on the mirror face of a mirror layer formed on the reverse side of the translucent layer.例文帳に追加

透光層の表面側に形成された模様層の模様パターンを、該透光層の裏面側に形成された鏡面層の鏡面に写り込ませるだけで、様々な模様からなるモアレ模様を現出することができるモアレ模様装飾体の提供を目的とする。 - 特許庁

The surface heater is provided with a surface-formed heating body in which carbon fibers are made to be an exothermic resistor, an insulting synthetic resin film layer, and a synthetic resin film layer, installed at least at one of the synthetic resin film layer and having a reflection layer.例文帳に追加

面状発熱装置は、炭素繊維を発熱抵抗体とする面状の発熱体と、前記発熱体の両面に設けられた絶縁性合成樹脂フィルム層と、前記合成樹脂フィルム層の少なくとも一つの層に設けられ、反射層を有する合成樹脂フィルム層とを備えている。 - 特許庁

The silver halide photographic sensitive material has a silver halide emulsion layer containing silver halide grains having the spectral maximum sensitivity at 700-1500 nm and contains compounds of formulae 1 and 2 or 1 and 3 in the emulsion layer and/or a hydrophilic colloid layer adjacent to the emulsion layer.例文帳に追加

ハロゲン化銀粒子が７００〜１５００ｎｍに分光極大感度を有し、かつ、該ハロゲン化銀乳剤層及び／又はそれに隣接する親水性コロイド層中に、下記一般式（１）及び（２）または（１）及び（３）で表される化合物を含有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 - 特許庁

There is provided a wafer chuck used in a lithography apparatus in which a low thermal expansion glass ceramic substrate, a silicon silicon carbide layer, and an adhesive layer containing silicate salt having a strength of at least about 5 MPa, wherein the silicon silicon carbide layer is stacked on the substrate by the adhesive layer.例文帳に追加

低熱膨張ガラスセラミック基板と、シリコン炭化ケイ素層と、少なくとも約５メガパスカルの強度を有するケイ酸塩を含む接着層と、を備え、接着層がシリコン炭化ケイ素層を基板に貼り付けている、リソグラフィ装置で用いられるウェーハチャックが記載される。 - 特許庁

This original plate for the lithographic printing includes the hydrophilic photosensitive layer in a support layer, and is constituted to change the hydrophilicity of the photosensitive layer into the lipophilicity by the irradiation with the light, and the photosensitive layer contains a hydrophilic resin having a perfluoro alkyl group, a crosslinker, a water-dispersible hydrophobic resin, and a photoabsorbent.例文帳に追加

支持体に親水性の感光層を有し、光の照射により感光層の表面の親水性が親油性に変化する平版印刷用原版であって、該感光層がパーフロロアルキル基を有する親水性樹脂、架橋剤、水分散疎水性樹脂、光吸収剤を含有してなる。 - 特許庁

A semiconductor package includes a structure that an insulating adhesion layer 17 having an electric insulation and adhesiveness is formed at an interposer side by an intermediate insulating layer 12, a re-wiring layer 15 formed on one side surface of a semiconductor chip 31 and an electrode member 21 is exposed to the front surface 17A of the insulating adhesion layer 17.例文帳に追加

半導体チップ３１の片面に形成される中間絶縁層１２、再配線層１５によるインタポーザ側に、電気絶縁性と接着性とを有する絶縁接着層１７が形成され、絶縁接着層１７の表面１７Ａに電極部材２１が露呈した構造とする。 - 特許庁

To provide a pneumatic radial tire improving load durability without deteriorating high speed durability by preventing disarrangement of cords in an edge cover reinforcing layer in the pneumatic radial tire in which a full cover reinforcing layer and the edge cover reinforcing layer are arranged on the periphery of a belt layer.例文帳に追加

ベルト層の外周にフルカバー補強層とエッジカバー補強層とを配置した空気入りラジアルタイヤにおいて、エッジカバー補強層におけるコード乱れを防ぐことにより、高速耐久性を損なうことなく、荷重耐久性を向上するようにした空気入りラジアルタイヤを提供する。 - 特許庁

The N-type impurity diffusion layer 13 and the P-type impurity diffusion layer 14 are placed in parallel with a substrate face of a semiconductor substrate 11 as two layers, and a PN junction comprising the N-type impurity diffusion layer 13 and the P-type impurity diffusion layer 14 forms a diode structure.例文帳に追加

Ｎ型不純物拡散層１３及びＰ型不純物拡散層１４は半導体基板１１の基板面に対して平行となるように２層に設けられ、該Ｎ型不純物拡散層１３及びＰ型不純物拡散層１４とのＰＮ接合によるダイオード構造が形成される。 - 特許庁

The method is also used for etching by the etchant containing hydrosilicofluoric acid, water and hydrosilicofluoric acid salt, a layer containing titanium as the main constituent within a layered product including the layer containing titanium as the main constituent and a layer containing aluminum as the main constituent, and a layer containing aluminum as the main constituent at the same time.例文帳に追加

チタンを主成分とする層とアルミニウムを主成分とする層とを含んでなる積層体中のチタンを主成分とする層及びアルミニウムを主成分とする層を珪フッ化水素酸、水、及び珪フッ化水素酸塩を含有することを特徴とするエッチング液により同時にエッチングする方法。 - 特許庁

In this pavement structure, moisture permeating between the unevenness adjustment layer 5 and the elastic layer 6 flows down to cavities 3c formed in the aggregate of the foundation course 3, from a plurality of small holes 4c passing through the surface layer 4 and the unevenness adjustment layer 5, and permeates into the subbase.例文帳に追加

この舗装構造では、不陸調整層５と弾性層６との間に浸透した水分は、表層４及び不陸調整層５を貫通する複数の小孔４ｃから基層３の骨材間に形成された空隙３ｃに流下し、さらに下層の路盤内に浸透する。 - 特許庁

The sidewall 42 includes an inner layer 72 positioned on the outside of the carcass 46 in the axial direction and extended in a radial direction along this carcass 46 and an outer layer 74 positioned on the further outside of this inner layer 72 and extended in the radial direction along this inner layer 72.例文帳に追加

このサイドウォール４２は、軸方向において、カーカス４６の外側に位置しておりこのカーカス４６に沿って半径方向に延在する内層７２と、この内層７２のさらに外側に位置しておりこの内層７２に沿って半径方向に延在する外層７４とを備えている。 - 特許庁

In the thermosensitive recording paper in which an undercoating layer and a recording layer including an electron donor (a colorless or light-colord leuco dye) and an electron acceptor (a developer), and, when necessary, an over-coating layer is provided, the undercoating layer includes a water-soluble cationic resin.例文帳に追加

支持体上に、アンダーコート層、電子供与体(無色ないし淡色のロイコ染料)と電子受容体(顕色剤)を含有する記録層、及び必要によりオーバーコート層を設けた感熱記録紙において、アンダーコート層が水溶性カチオン性樹脂を含有している上記感熱記録紙。 - 特許庁

The LC composite component is constituted of a laminated type coil for which a low dielectric layer 14 and a conductor layer 15 for a coil are alternately laminated, a capacitor constituted by clamping a dielectric layer 16 with internal electrode layers 17 on the low dielectric layer 14, and an external end face electrode 18.例文帳に追加

低誘電体層１４とコイル用導体層１５を交互に積層した積層型のコイル部と、低誘電体層１４上で誘電体層１６を内部電極層１７で挟んで構成されたコンデンサ部と、外部端面電極１８で構成されるものである。 - 特許庁

The surface layer detecting device 11 detects the SiCl_x layer according to the intensity of the probe light when the SiCl_x layer is formed on the surface of the silicon substrate 2 and the intensity of the probe light when the SiCl_x layer is not formed on the surface of the silicon substrate 2.例文帳に追加

表面層検出装置１１は、シリコン基板２の表面にＳｉＣｌ_ｘ層が形成されている場合のプローブ光の強度と、シリコン基板２の表面にＳｉＣｌ_ｘ層が形成されていない場合のプローブ光の強度とに基づいてＳｉＣｌ_ｘ層の検出を行なっている。 - 特許庁

To provide a blank, a photomask, its manufacturing method, and a pattern transfer method for forming a shading layer as a pattern without trailing the skirt of the shading layer nor exerting adverse influence on a transparent substrate even when dry etching is carried out with a blank having no stopper layer provided between the transparent substrate and shading layer.例文帳に追加

ストッパー層を透明基板と遮光層の間に設けないブランクで、ドライエッチングでエッチングしても、遮光層が裾を引がず、透明基板に悪影響を与えず遮光層をパターンとして形成するブランク、フォトマスク、その製造方法、パターン転写方法を提供すること。 - 特許庁

An Si-collector embedded layer 11, a first base region 12 of an SiGeC layer having a high C content, a second base region 13 of an SiGeC or SiGe layer having a low C content and an Si gap layer 14 containing an emitter region 14a are stacked on an Si substrate 10.例文帳に追加

Ｓｉ基板１０に、Ｓｉコレクタ埋め込み層１１と、Ｃ含有率の高いＳｉＧｅＣ層からなる第１ベース領域１２と、Ｃ含有率の低いＳｉＧｅＣ層又はＳｉＧｅ層からなる第２ベース領域１３と、エミッタ領域１４ａを含むＳｉキャップ層１４とを積層している。 - 特許庁

Since moisture absorption of the insulation film layer 4 can be reduced by forming an overcoat layer 6 having an extremely low steam transmission of 5 g/(m2.24 h), inflation of the insulation film layer 4 is suppressed in the heating process and bonding strength of the insulation layer 2 can be prevented from lowering.例文帳に追加

水蒸気透過度が５ｇ／（ｍ^2・24ｈ）と極めて低いオーバーコート層６を形成することにより、絶縁フィルム層４の吸湿量を少なくすることができるため、加熱工程による絶縁フィルム層４の膨れの発生が抑制され絶縁層２の接着強度の低下を防止できる。 - 特許庁

The metallic thin film transfer film comprises a mold release layer formed on a plastic film, the metallic thin film layer formed on a surface in which the release layer of the plastic film is formed so that a deionized water contact angle on a surface of the metallic thin film layer is 50 to 100°.例文帳に追加

プラスチックフィルムの上に離型層が形成され、該プラスチックフィルムの離型層が形成された面に金属薄膜層が形成され、該金属薄膜層の表面の純水接触角が５０度以上１００度以下であることを特徴とする金属薄膜転写フィルムである。 - 特許庁

The display device is provided with a liquid crystal layer, a pair of electrode layers placed opposite to each other via the liquid crystal layer and a binder layer 14 with a surface which is set to be in contact with the liquid crystal layer and which has a function to control an aligning direction of the liquid crystal molecules.例文帳に追加

表示装置は、液晶層と、液晶層を介して互いに対向する一対の電極層と、表面が液晶層と接するように設けられ、液晶層と接する表面は液晶分子の配向方向を規制する機能を有するバインダー層１４とを有する。 - 特許庁

To provide a thermal transfer recording medium for manufacturing color filter which enables a thermal transfer ink layer to be directly transferred onto transparent base material for a color filter as a colored layer for the color filter, the transferred thermal transfer ink layer (colored layer) having excellent optical characteristics.例文帳に追加

カラーフィルタ用透明基材上にカラーフィルタ用着色層として熱転写インク層を直接転写することが可能であり、かつ、転写された熱転写インク層（着色層）が優れた光学特性を有するカラーフィルタ製造用熱転写記録媒体を提供する。 - 特許庁

The semiconductor optical device is provided with an active layer that has an optical amplification function and a light emitting function by current injection, and the active layer includes a quantum dot active layer 4, wherein the deformation quantity of the quantum dot varies depending on its position in the active layer 4.例文帳に追加

電流注入による光増幅機能及び発光機能を有する活性層を備えた半導体光素子において、前記活性層は量子ドット活性層４を有し、前記量子ドットは活性層４内の位置により歪量が変化していることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a high withstand voltage semiconductor device in which a gate electrode, a low concentration impurity layer and a high concentration impurity layer do not deviate at positions, in the method for manufacturing the semiconductor device for forming the low concentration impurity layer and the high concentration impurity layer.例文帳に追加

低濃度不純物層と高濃度不純物層を形成する高耐圧半導体装置の製造方法において、ゲート電極と低濃度不純物層及び高濃度不純物層に位置ずれが生じることのない高耐圧半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The packaging bag is formed of a laminated film 1 including a polyethylene terephthalate layer 2, a nylon layer 3, a high-density polyethylene layer 4 with density of 0.950 g/cm^3 or more, and a linear low-density polyethylene layer 5 with density of 0.930 g/cm^3 or more, which are laminated in order from the outside of the packaging bag.例文帳に追加

包装袋の外側より、ポリエチレンテレフタレート層２、ナイロン層３、密度が０．９５０ｇ／ｃｍ^３以上の高密度ポリエチレン層４、密度が０．９３０ｇ／ｃｍ^３以上の直鎖状低密度ポリエチレン層５が順次積層された積層フィルム１からなる。 - 特許庁

A width W2 of an upper surface 32A of the lower cladding layer 32 is formed to be larger than a width W1 of the opening 20A of the insulating layer 20, and a width W3 of an upper surface 34A of the upper cladding layer 34 is formed to be larger than the width W2 of the upper surface 32A of the lower cladding layer 32.例文帳に追加

下部クラッド層３２の上面３２Ａの幅Ｗ２が絶縁層２０の開口２０Ａの幅Ｗ１よりも大きくなっており、上部クラッド層３４の上面３４Ａの幅Ｗ３が下部クラッド層３２の上面３２Ａの幅Ｗ２よりも大きくなっている。 - 特許庁

The lithographic printing material is provided on the polyester film support with at least an undercoat layer and a silver halide emulsion layer and a physical development nucleus layer in this order and it is characterized by incorporating a polymer latex and polysaccharides in the undercoat layer, thus the film peeling is prevented at the time of printing even in the case of using the polyester film as the support.例文帳に追加

ポリエステルフィルム支持体上に少なくとも下塗層、ハロゲン化銀乳剤層及び物理現像核層をこの順に有する平版印刷材料に於て、前記下塗り層がポリマーラテックス及び多糖類を含有する事を特徴とする平版印刷材料。 - 特許庁

To provide a nanometer-level structure composition observing method, a manufacturing method of a multi-layer film structure having an interposed insulating layer, and a nanometer-level structure composition observing device, analyzing the microstructure composition in a wide range of a sample having the multi-layer thin film structure having an interposed insulating layer with high accuracy.例文帳に追加

ナノレベル構造組成観察方法、絶縁層が介在する多層膜構造体の製造方法、及び、ナノレベル構造組成観察装置に関し、絶縁層が介在する多層薄膜構造の試料の広い範囲内における微細構造組成を高精度に解析する。 - 特許庁

By this configuration, a punch-through voltage V_PT of the P-type well 8 disposed between the deep N-type base layer 32 and the N-type epitaxial layer 3 can be set to be lower than an operation voltage V_t1 of a parasitic lateral bipolar transistor 42 composed of the source layer 12, the P-type well 8 and the drain layer 13.例文帳に追加

これにより、ディープＮ型ベース層３２とＮ型エピタキシャル層３との間に配置されたＰ型ウェル８のパンチスルー電圧Ｖ_ＰＴを、ソース層１２、Ｐ型ウェル８及びドレイン層１３からなる寄生横バイポーラトランジスタ４２の動作電圧Ｖ_ｔ１よりも低くする。 - 特許庁

To provide a hydraulically transferred body which is short in the period of time required for curing a coating layer, can be manufactured in a short-time process, and is excellent in adhesion to a transfer object in the entire part of the layer including a printing layer and the coating layer, and to provide a method of manufacturing the hydraulically transferred body.例文帳に追加

被覆層の硬化に要する時間が短く、短時間の工程で製造が可能であり、かつ印刷層と被覆層を含めた層全体が被転写体に対して付着性に優れる水圧転写体及び該水圧転写体の製造方法を提供する。 - 特許庁

The rotary disc 10 formed with the groove 11 includes an abrasive layer 18 including abrasive grains comprised of spherical diamond particles having higher hardness than that of a material sphere being a spherical body and a keeper layer 19 formed on the abrasive layer 18 and having lower hardness than that of the abrasive layer 18.例文帳に追加

溝部１１が形成された回転盤１０は、球状体である素球よりも高い硬度を有するダイヤモンド粒子からなる砥粒を含む砥粒層１８と、砥粒層１８上に形成され、砥粒層１８よりも低い硬度を有する保持層１９とを含んでいる。 - 特許庁

A transparent cured substance layer of an active energy beam curable composition having ≥50% transmittance at 365 nm wavelength is formed as the film surface protecting layer for emulsion layer on the surface of an original plate of a photomask obtained by forming an emulsion layer on the surface of a substrate.例文帳に追加

基板の表面に乳剤層の膜面を形成してなるフォトマスク原版の表面に、該乳剤層の膜面の保護層として波長３６５ｎｍにおける透過率が５０％以上である活性エネルギ線硬化性組成物の透明硬化物層を積層形成する。 - 特許庁

Semiconductor layers 3-7 are stacked on a substrate 2 having at least a layer of fluorescent glass layer 1, or at least a layer of fluorescent glass layer 11 is stacked or joined to a compound semiconductor wafer where semiconductor layers 13-17 are stacked and formed.例文帳に追加

少なくとも１層の蛍光ガラス層１を有する基板２上に半導体層３〜７を積層した構成とするか、又は、半導体層１３〜１７を積層形成した化合物半導体ウェハに、少なくとも１層の蛍光ガラス層１１を積層または接合した構成とする。 - 特許庁

The process for producing an optical article includes acid treatment step of dipping a workpiece including an antireflection layer formed on an optical substrate directly or via another layer interposed therebetween and an antifouling layer formed on a surface of the antireflection layer in an acidic liquid; a step of rinsing the work; and annealing the rinsed work.例文帳に追加

光学基材上に、直にまたは他の層を挟んで反射防止層が形成され、その反射防止層の表面に防汚層が形成されたワークを酸性の液に浸漬する酸処理工程と、ワークを洗浄する工程と、洗浄されたワークをアニールする工程とを有する。 - 特許庁

The laminated structure material includes an optical stress-sensitive layer, which is a patterned adhesive layer having a plurality of regions having adhesive strength different from each other or a layer exhibiting optical anisotropy by applying stress, and a patterned optically anisotropic layer containing regions different in birefringence in a patterned manner.例文帳に追加

粘着強度が異なる領域を複数有するパターン化粘着層又は応力によって光学異方性を発現する層などの光学的応力感応層、及び複屈折性が異なる領域をパターン状に有するパターン化光学異方性層を含む積層構造体。 - 特許庁

The developer carrier is characterized in that a surface layer in the developer carrier having at least a base substance and a conductive resin covering layer, contains polysiloxane having at least oxyalkylene group and that it has at least the conductive resin covering layer between the base substance and the surface layer.例文帳に追加

少なくとも基体と導電性樹脂被覆層とを有する現像剤担持体において、表層が、少なくともオキシアルキレン基を有するポリシロキサンを含有し、前記基体と前記表層の間に少なくとも前記導電性樹脂被覆層を有する事を特徴とする現像剤担持体。 - 特許庁

A chromium (Cr) layer 35 is formed on a transparent mask substrate 34, mark elements rm1-rm6 are formed by removing part of the Cr layer 35 and forming an aluminum (Al) layer, and a chromium dioxide (CrO2) layer 36 is further formed on the mark elements to obtain the objective photomask.例文帳に追加

フォトマスクは、透明なマスク基板３４にクロム（Ｃｒ）層３５を成膜し、その一部を除去してアルミ（Ａｌ）層を成膜することによりマーク要素ｒｍ１〜ｒｍ６を形成し、更にその上に二酸化クロム（ＣｒＯ_２）層３６を成膜することにより形成されている。 - 特許庁

The manufacturing method comprises: a substrate laminating process which laminates a plurality of substrates; an intermediate layer heating process which heats the substrate of an intermediate layer in the plurality of substrates laminated; and an outermost layer heating process which heats the substrate of the outermost layer in the plurality of substrates laminated.例文帳に追加

その製造方法は、複数の基板を積層する基板積層工程と、積層された複数の基板のうち、中間層の基板を加熱する中間層加熱工程と、積層された複数の基板のうち、最外層の基板を加熱する最外層加熱工程と、を備える。 - 特許庁

In more detail, a TFT is formed through the peeling from the inside of the oxide film layer and from the interface of both surfaces of the relevant oxide layer by forming an oxide layer including a relevant metal on such metal film and then crystallizing the relevant oxide layer with the heat treatment.例文帳に追加

詳しくは、金属膜上に当該金属を有する酸化物層が形成され、加熱処理を行うことにより当該酸化物層を結晶化させ、酸化物層の層内、又は当該酸化物層の両面の界面から剥離を行って得られたＴＦＴを形成することを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing the foamed roller comprises the steps of contacting the roller having a rotational shaft and a foamed elastic layer provided on its outer periphery and having the skin layer on a surface with a jig having many needles, and homogeneously entirely circumferentially perforating the skin layer on the surface of the elastic layer by the needles.例文帳に追加

回転軸と、その外周に設けられ、かつ表面にスキン層を有する発泡弾性体層からなるローラを、多数の針を具備した治具に接触させ、該針により、上記発泡弾性体層表面のスキン層を全周にわたり均質に穿孔する。 - 特許庁

The optical information recording medium having the substrate constituting a clamp area, a recording layer provided on the substrate and the cover layer provided on the recording layer and having inner diameter larger than outer diameter of the clamp area and which performs recording and reproduction by irradiation of laser light from the side of the cover layer is constituted.例文帳に追加

クランプエリアを構成する基板と、該基板上に設けられた記録層と、該記録層上に設けられ、前記クランプエリアの外径直径よりも大きな内径直径を有するカバー層と、を有し、該カバー層側からレーザ光が照射されることで記録及び再生を行う光情報記録媒体。 - 特許庁

In a region that includes the boundary between the cell portion and the termination portion and includes three or more pillar layers among the n pillar layer 3, the p pillar layer 4, the n pillar layers 21, and the p-pillar layers 22 that are arranged in a row, the impurity concentration of each pillar layer is lower as approaching the pillar layer arranged at the termination portion side.例文帳に追加

セル部と終端部との境界を含み、ｎピラー層３、ｐピラー層４、ｎピラー層２１、ｐピラー層２２のうち、連続して配列された３層以上のピラー層を含む領域において、各ピラー層の不純物濃度は、終端部側に配置されたピラー層ほど低い。 - 特許庁

This planographic printing plate material, in which a hydrophilic layer and an image forming layer are sequentially superposed on a plastic substrate, is characterized as follows: the porosity of the hydrophilic layer is in the range of 20-40%; and the value of the center line average roughness Ra of the hydrophilic layer is in the range of 0.5-2 μm.例文帳に追加

プラスチック支持体上に親水性層と画像形成層を順じ積層する平版印刷版材料において、該親水性層の空隙率が２０〜４０％、かつ親水性層の中心線平均粗さＲａ値が０．５〜２μｍであることを特徴とする平版印刷版材料。 - 特許庁

When the die 10 for forging is used, the release material, lubricant or the like pass through the pores of the third layer 20 having a relative density higher than that of the second layer 18 and also set to the value equal to or lower than that of the first layer 16, and is exuded to the surface of the third layer 20.例文帳に追加

この離型材や潤滑材等は、鍛造用金型１０が使用される際、相対密度が第２層１８に比して大きく、且つ第１層１６の相対密度以下に設定された第３層２０の気孔を経由して該第３層２０の表面に滲出する。 - 特許庁

A lower part insulating layer 5 is coated on a metal substrate 2 of a plane heater 1 and a heater circuit that is constructed of a resistance body 9, a conductor 8, and an electrode 7 is formed on the lower part insulating layer 5, and an upper part insulating layer is coated on the lower part insulating layer 5, resistance body 9, and conductor 8.例文帳に追加

平面ヒータ１の金属基板２に下部絶縁層５を被覆し、下部絶縁層５の上に抵抗体９、導体８及び電極７で構成されたヒータ回路を形成し、下部絶縁層５、抵抗体９及び導体８に上部絶縁層を被覆する。 - 特許庁

To provide a plate allowing a pattern-like separation layer and a pattern layer to be simply formed without using etching, having a beautiful transfer shape and capable of responding to a minute pattern because the separation layer and the pattern layer has an identical shape; to provide a manufacturing method of the plate; and to provide a board and a manufacturing method of the board.例文帳に追加

パターン状の剥離層およびパターン層をエッチングによらずに簡単に形成でき、しかも、剥離層とパターン層が同一形状であるので、転写形状が綺麗で微細パターンに対応できる版、版の製造方法、基板および基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

Conditions (n_t1-n_l)×(n_l-n_t2)≤0 and n_t1<n_l are satisfied, where n_t1 and n_t2 denote refractive indexes of a second layer 012 and a third layer 013 optically adjacent to the first layer in both sides of the first layer and made of isotropic media at the central wavelength.例文帳に追加

第１の層の両側において該第１の層に光学的に隣接し、等方性媒質により形成された第２の層０１２及び第３の層０１３の上記中心波長での屈折率をそれぞれｎ_t1，ｎ_t2とするとき、（ｎ_t1−ｎ_ｌ）・（ｎ_ｌ−ｎ_t2）≦０，ｎ_t1＜−ｎ_ｌを満足する。 - 特許庁