layerを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 49995件
The GaN-based LED chip has an ohmic electrode 13 formed on the upper surface of the p-type layer 12-2, and an insulation protective film 14 for covering the upper surface of the p-type layer 12-2 around the ohmic layer 13.例文帳に追加
GaN系LEDチップは、p型層12−2の上面に形成されたオーミック電極13と、オーミック電極13の周囲においてp型層12−2の上面を覆う絶縁保護膜14とを有している。 - 特許庁
To obtain high electric reliability and ensure enough strength concerning peeling of a conductor layer on an insulating layer after the formation of a circuit by reducing and stabilizing a field via, a conductor layer joined with the former, and connection resistance.例文帳に追加
フィルドビアとそれに接合する導体層と接続抵抗の低減と安定化を図り、高い電気的信頼性を得ると共に、回路形成後の絶縁層上の導体層の剥離について充分な強度を得ること。 - 特許庁
The device has at least a stacked structure of an n-type clad layer 4, an active layer 5 and a p-type clad layer 6 stacked, in this order, and has a ridge structure and a metal electrode 8 provided thereon.例文帳に追加
少なくとも、n型クラッド層4,活性層5およびp型クラッド層6がこの順に積層されてなる積層構造部を備え、この積層構造部上にはリッジ構造部と金属電極8とが設けられている。 - 特許庁
To form a bonding layer or a BSF layer in simple steps by forming the boding layer by a thermal diffusion, then switching to an oxygen atmosphere in a furnace, and annealing to form a protective film on a surface of a substrate.例文帳に追加
熱拡散による接合層の形成の後、炉内を酸素雰囲気に切り換えて徐冷を行うことで、基板表面に保護膜を形成し、これにより簡単な工程で接合層やBSF層を形成する。 - 特許庁
Therein, although the semiconductor layer is partially extended to the lower part of the data line, a light shielding film 129 overlapping one part of the semiconductor layer which is located on the lower part of the data line is formed on the same layer with the gate wiring.例文帳に追加
ここで、半導体層はデータ線の下部まで一部延びているが、ゲート配線と同一層にはデータ線の下部に位置する半導体層の一部と重なっている光遮断膜129が形成されている。 - 特許庁
Also, compared to the single layer film of only the layer 14b of the smaller Pb composition amount, since the layer 14a of the larger Pb composition amount is included, the decline of a manufacture margin is prevented as well and an excellent piezoelectric performance is achieved.例文帳に追加
また、Pb組成量の少ない層14bだけの単層膜と比較して、Pb組成量の多い層14aを含むので、製造マージンの低下も防ぐことができ、良好な圧電性能が実現できる。 - 特許庁
The angle formed by a free edge and the base material 1 at an end of the coating layer 2, i.e., the groove angle 3 of the coating layer 2 is formed to be 30°, and the wall thickness of the coating layer 2 is formed to be 3 mm.例文帳に追加
コーティング層2の端部における基材1との自由縁をなす角度、つまりコーティング層2の開先角度3が30度となるように、且つコーティング層2の肉厚が3mmとなるように形成する。 - 特許庁
A non-electrolyte copper plated layer 3 is formed on the inner circumferential surface 6a of the through-hole 6 and the surfaces of the metal foils 2a, 2b, and the electrolyte copper plated layer 4 is formed to the entire surface of the non-electrolyte copper plated layer 3.例文帳に追加
スルーホール部6の内周面6aおよび金属箔2a,2bの表面に無電解銅めっき層3が形成され、無電解銅めっき層3の全面に電解銅めっき層4が形成される。 - 特許庁
The charging roller 1 has a laminated structure that includes an elastic layer 3 formed on the peripheral face of a conductive shaft 2, and a surface layer 4 formed covering the peripheral face of the elastic layer 3.例文帳に追加
帯電ローラ1は、弾性を有し導電性軸体2の外周面上に形成される弾性層3と、弾性層3の外周面を覆うように形成される表面層4との積層構造を備える。 - 特許庁
It is advantageous that the first adhesive layer and the second adhesive layer are configured to have a storage modulus of 1×10^5 N/m^2 or more and that the third adhesive layer is configured to have a storage modulus of 3×10^4 N/m^2 or less.例文帳に追加
第一の粘着層と第二の粘着層は貯蔵弾性率を1×10^5N/m^2以上とし、第三の粘着層は貯蔵弾性率を3×10^4N/m^2以下とするのが有利である。 - 特許庁
Then the compressive stress relaxation rate of the elastic layer 2 is 0 to 7%, the residual compressive strain rate of the elastic layer 2 is 0 to 5%, and the durometer hardness of the surface layer 3 is A1/15 to A80/15.例文帳に追加
そして、弾性層2の圧縮応力緩和率を0〜7%とするとともに、弾性層2の残留圧縮歪率を0〜5%とし、表面層3のデュロメータ硬さをA1/15〜A80/15とする。 - 特許庁
This EL element 10 is equipped with the almost rectangular EL layer 30 in a plane view, a positive electrode 20 connected to one side of the EL layer 30, and negative electrodes (40, 50) connected to the other side of the EL layer 30.例文帳に追加
EL素子10は、平面視すると略長方形のEL層30と、EL層30の一方の面に接続されている陽極20と、EL層30の他方の面に接続されている陰極(40,50)を備える。 - 特許庁
The wiring layer 4 of the first wiring board 1 and the wiring layer 8 of the second wiring board 6, which are opposed to each other are interlayer connected through conductive bumps 12, which are arranged in such a way that they penetrate the insulating layer 11.例文帳に追加
対向する第1の配線基板1の配線層4と第2の配線基板6の配線層8とは、絶縁層11を貫通するように配設された導電性バンプ12により層間接続させる。 - 特許庁
Also, as the multiple layer-applied coated sheet for printing is characterized by using a blade-coating method on at least one layer at or higher than a second coated layer, as described in the claim 1.例文帳に追加
また、上記多層塗り印刷用塗工シートにおいて、第2塗工層以上の少なくとも1層にブレード塗工方式を用いる事を特徴とする請求項1記載の多層塗り印刷用塗工シート。 - 特許庁
The liquid crystal display panel is characterized in that a colored layer 11 is formed in the lower layer of the resin spacer 1c formed on a CF(color filter) substrate 2 in the peripheral part C as an exclusive layer for laminating the cylindrical resin spacer.例文帳に追加
周辺部CにおいてCF(カラーフィルタ)基板2上に形成される樹脂スペーサ1cの下層に着色層11を柱状樹脂スペーサ積設専用層として形成することによって上記課題を解決する。 - 特許庁
To provide a flexible hose for food consuming no chlorine, having no taste or odor and having good gas barrier performance and securing enough adhesive strength among an inner layer, an intermediate layer and an outer layer and having hardly contaminated inner surface.例文帳に追加
塩素の消費がなく無味・無臭で内面が汚れ難いと共にガスバリアー性に優れてしかも内層と中間層と外層との接着強度を十分に確保したフレキシブルな食品用ホースを提供する。 - 特許庁
The side wall 26 is desirably formed of a first layer 28 that is formed on the inner surface of the hole 24 and is made of silicon nitride and a second layer 30 that is formed inside the first layer 28 and is made of silicon oxide.例文帳に追加
側壁26は、孔24の内面上に形成され、窒化珪素で形成された第1層28と、第1層の内側に形成され、酸化珪素で形成された第2層30とで構成されるのが望ましい。 - 特許庁
A piece of original laser beam having properties to filter out the coating layer, to reflect in the interface between the coating layer and the groundwork member, and to strip the coating layer in the reflecting position from the groundwork member, is branched into a plurality of laser beams.例文帳に追加
被覆層を透過し、被覆層と下地部材との界面で反射し、反射位置の被覆層を下地部材から剥離させる性質を有する1本の原レーザビームを複数本のレーザビームに分岐させる。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a display element, in which no specific gravity restriction is imposed on a sealing layer precursor, an ultraviolet-ray setting type material is usable as the sealing layer precursor, and a uniform sealing layer can be formed.例文帳に追加
封止層前駆体に対する比重制限がなく、紫外線硬化型材料を封止層前駆体として使用でき、かつ均一な封止層の形成が可能な表示素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
(2) In the ablation type image forming material comprising an image forming layer and two or above protective layers laminated on a transparent support, the one or above protective layers are cured layers, and the protective layer of an uppermost layer contains a urethane bond-containing resin.例文帳に追加
透明支持体上に画像形成層と2層以上の保護層が積層されたアブレーション型画像形成材料で、1層以上の保護層が硬化層で、最上層の保護層がウレタン結合含有樹脂を含む。 - 特許庁
In a planar view from above the principal surface 1a of the conductive substrate 1, a terminal of the conductive reflection layer 11 either matches a terminal of the light emitting layer 2 or is located inside the light emitting layer 2.例文帳に追加
導電性基板1の主面1aの上方から平面的に見た場合に、導電性反射層11の端部は、発光層2の端部と一致するか、又は発光層2の内側にあるかのいずれかである。 - 特許庁
A tactile sensor 1 is constituted by embedding a pressure-sensing element 2, having a pressure detecting part in a body constituted by combining a first layer elastic body 3, a second layer elastic body 4 and a third layer elastic body 5.例文帳に追加
触覚センサ1は、第1層弾性体3、第2層弾性体4および第3層弾性体5の組み合わせで構成される本体内に圧力検出部位を有する感圧素子2を埋め込んだ構造である。 - 特許庁
A ratio of a wurtzite structure on the surface of the GaN layer 14 is reduced to 5% when a thickness of the GaN layer 16 is 200 μm and reduced to 1.5% when the thickness of the GaN layer 16 is 500 μm.例文帳に追加
GaN層16の厚さが200μmでGaN層14の表面のウルツ鉱構造の割合が5%、GaN層16の厚さが500μmでウルツ鉱構造の割合が1.5%まで低下した。 - 特許庁
To provide a uniformly heating method of an air permeable board, capable of uniformly heating an air permeable board provided by laminating an air permeable resin layer and a fiber layer, within a shorter time than conventional methods even the intermediate layer of the board.例文帳に追加
通気性樹脂層と繊維層とが積層された通気性板状体を、従来よりも短時間で中間層まで均一加熱することができる通気性板状体の均一加熱方法を提供する。 - 特許庁
The intaglio 1 has a recessed part 14a formed by forming a high-resistance layer 13 on the surface of a metal film 12 and an electrode layer 11 formed on the surface of the high-resistance layer 13 excepting an opening of the recessed part 14a.例文帳に追加
凹版1は、金属フィルム12の表面に高抵抗層13を形成して凹部14aを形成し、凹部14aの開口を除く高抵抗層13表面に電極層11を形成して構成されている。 - 特許庁
A bottom plate 9 for blocking the lower end of a housing part 7 is integrally composed of a base layer 11 formed of brass as a nonporous material and a porous layer 12 formed on the base layer 11 by sintered metal.例文帳に追加
ハウジング部7の下端を閉塞する底板部9は、非孔質材料としての黄銅で形成される母層11と、焼結金属で母層11上に形成される多孔質層12とで一体に構成されている。 - 特許庁
The diaphragm 13 consists of a film layer with a flexibility to be deformable so that the ink of the liquid chamber 12 can be discharged and filled, and a magnetic layer with a magnetism formed to a face of the opposite side to the liquid chamber 12 of the film layer.例文帳に追加
ダイアフラム13は、液室12のインクを吐き出せ、また、充填するように変形可能な可撓性のあるフィルム層と、フィルム層の液室12と反対側の面に形成された磁性を備えた磁性層からなる。 - 特許庁
An N- type first high resistance drift layer 22 is arranged on one face of a silicon substrate 21 as an N+ type drain area, and an N- type second high resistance drift layer 23 is arranged on the first high resistance drift layer 22.例文帳に追加
N+型ドレイン領域としてのシリコン基板21の一主面上にN型第1高抵抗ドリフト層22が配置され、第1高抵抗ドリフト層22上にN−型第2高抵抗ドリフト層23が配置されている。 - 特許庁
Further, the thickness T_2 of the heat insulating layer 12 is larger than (0.04×(T_1)^2/δ_1), so the mandrel layer 11 is prevented from generating heat and efficiency of heat generation of the electromagnetic heating layer 13 can be prevented from decreasing.例文帳に追加
また、断熱層12の厚さT_2は、(0.04×(T_1)^2/δ_1)よりも大きいので、芯金層11での発熱を防止し、電磁誘導発熱層13で発熱する発熱効率の低下を防止することができる。 - 特許庁
A Ge guide 14 made of germanium is interposed between the diffusion layer 15 of the cell transistor Tr and the third conductive layer 11 of a trench capacitor C, where the Ge guide 14 is formed on the side of the diffusion layer 15 of the cell transistor Tr.例文帳に追加
セルトランジスタTrの拡散層15およびトレンチキャパシタCの第3の導電層11の間に介在するように、セルトランジスタTrの拡散層15側にGeの導入部14を形成する。 - 特許庁
To provide a wire grid polarizing plate wherein a film layer having excellent waterproofing and humidity and heat resistance properties is formed on the surface of a metal wire layer and a change in shapes and a change in polarization and transmittance performance are reduced before and after forming the film layer.例文帳に追加
金属ワイヤ層表面に防水性、耐湿熱性に優れた皮膜層を有し、かつ、皮膜層の形成前後で形状変化と偏光透過率性能の変化が少ないワイヤグリッド偏光板を提供する。 - 特許庁
To provide a wafer processing tape that makes it easy to peel between a pressure-sensitive adhesive layer and an adhesive layer without thrusting a pin up in a step of picking up a semiconductor element with an adhesive layer in the form of an individual piece.例文帳に追加
個片化した接着剤層付き半導体素子をピックアップする工程で、ピンの突き上げによることなく、粘着剤層と接着剤層との間の剥離をし易くしたウエハ加工用テープを提供する。 - 特許庁
An OLB pad 4 for external connection is formed by a part of the third wiring layer 19 of the top layer, and a drawing wire connected to the OLB pad 4 is formed by the second wiring layer 17.例文帳に追加
外部接続用のOLBパッド4が最上層の第3配線層19の一部により形成されており、OLBパッド4と接続される引き出し配線が第2配線層17により形成されている。 - 特許庁
To provide a method for forming a functional layer which restrains a coating liquid for a functional layer both from remaining on the coated surface of a coating film and from injuring the coated surface concerned and forms a functional layer which is controlled in variations of film thickness.例文帳に追加
機能層用塗布液の塗膜の被塗布面に対する残存及び損傷を抑制すると共に、膜厚のバラツキが抑制した機能層を形成する機能層の形成方法を提供すること。 - 特許庁
The first laminated structure has a DH structure comprising a p-type AlGaAs clad layer 62, an active layer 64, and an n-type AlGaAs clad layer 66, which has a triangular cross section of with the (111)B plane as an inclined plane.例文帳に追加
第1の積層構造は、p型AlGaAsクラッド層62、活性層64、及びn型AlGaAsクラッド層66からなるDH構造を構成し、{111}B面を斜面とする断面三角形状である。 - 特許庁
A system control part performs administration (ST24 yes, ST26, ST28) in a way that a recording on another layer is not performed until a layer under recording state (a crystallized state in the case of a phase change recording layer) is fully recorded.例文帳に追加
記録中の層が全て記録状態(相変化記録層では結晶化された状態)となるまで他層に記録を行わないような管理(ST24イエス、ST26、ST28)を、システム制御部が行う。 - 特許庁
A light-emitting layer 15C is formed by carrying out a plurality of times of transfer processes, by sequentially using a plurality of donor substrates, having respectively a transfer layer of a thickness which is made by dividing in the thickness direction the light-emitting layer 15C.例文帳に追加
発光層15Cを厚み方向に分割してなる厚みの転写層をそれぞれ有する複数のドナー基板を順次用いて転写工程を複数回行うことにより、発光層15Cを形成する。 - 特許庁
A free magnetic layer 16 is a laminate of Co_2MnZ alloy layer 16a (Z is one kind or more of elements including Al, Sn, In, Sb, Ga, Si, Ge, Pb, Zn) and Co_aFe_100-a alloy layer 16b.例文帳に追加
フリー磁性層16はCo_2MnZ合金層16a(ZはAl、Sn、In、Sb、Ga、Si、Ge、Pb、Znのうち1種または2種以上の元素)とCo_aFe_100−a合金層16bの積層体である。 - 特許庁
A core material comprising a first core material and a second core material is used to form a thick layer part comprising the first core material and second core material, and a thin layer part comprising the first core material and thinner in thickness than the thick layer part.例文帳に追加
第1の芯材と第2の芯材とを含む芯材を用いて、第1の芯材と第2の芯材とを含む厚層部と、第1の芯材を含みかつ厚層部よりも厚さが薄い薄層部とを形成する。 - 特許庁
In each resistive element, an island voltage V1 applied to the n-type layer from a pad p1 allows a pn junction formed at the connection section between the n-type layer and the p-type diffusion layer to be set to a backward bias state for composing a resistor.例文帳に追加
各抵抗素子は、パッドP1からN型層に印加される島電圧V1によって、N型層とP型拡散層との結合部に形成されるPN接合が逆バイアス状態となり、抵抗体を構成する。 - 特許庁
When attaching the article to the attaching object, the second adhesive layer 22 is separated from the separate agent layer 24 by spreading the base material 18, and sticking the adhesive face 22a of the second adhesive layer 22 to the attaching object.例文帳に追加
物品を取付対象物に取り付ける際は、基材18を広げて剥離剤層24から第2接着剤層22を剥離し、第2接着剤層22の接着面22aを取付対象物に接着する。 - 特許庁
When light is transmitted by the liquid crystal layer 30, the permeated light is absorbed by the metal layer 11A, and regular reflection light is reduced by the reflection factor adjusting layer 11B, and a contrast improves.例文帳に追加
液晶層30により光が透過される場合には、透過された光は金属層11Aに吸収されると共に、反射率調整層11Bにより正反射光が低減され、コントラストが向上する。 - 特許庁
Then, the total thickness of the vapor deposition layer 3b and a sputtering layer 3c formed by the sputtering is made to be 25-50 nm, and the thickness of the vapor deposition layer 3b is made to be 40-90% of the total thickness.例文帳に追加
そして蒸着層3bの厚みと上記のスパッタリングにより形成したスパッタ層3cとの合計厚みを25〜50nmにすると共に、蒸着層3bの厚みをこの合計厚みの40〜90%にする。 - 特許庁
A second free layer formed of the crystalline soft magnetic material whose magnetic direction is varied by the effect of the external magnetic field and that is switch connected to the first free layer is disposed on the first free layer.例文帳に追加
第1のフリー層の上に、外部磁場の影響を受けて磁化方向が変化するとともに、第1のフリー層と交換結合した結晶質の軟磁性材料で形成された第2のフリー層が配置されている。 - 特許庁
A metal gloss like thermosensitive color-changeable/heat- shrinkable plastic film is constituted by providing a metal gloss pigment layer 2 on a part or the entire surface of a heat-shrinkable plastic film 2 and laminating a thermally color-changeable layer 4 on the metal gloss pigment layer 3.例文帳に追加
熱収縮性プラスチックフイルム2表面の一部又は全面に、金属光沢顔料層3が設けられていると共に、前記金属光沢顔料層3上に熱変色層4を積層して構成する。 - 特許庁
A protective layer (90) is formed on the top surface (76) of the substrate (64), and a protective layer (98) is formed on the bottom surface (84) of the substrate (64), where the bottom protective layer (98) fills in removed substrate material between the integrated circuits (62).例文帳に追加
保護層(90)が基板の頂表面(76)上に形成され、保護層(98)は基板の底表面上に形成され、底部保護層(98)は集積回路(62)間で除去された基板材料の区域を満たす。 - 特許庁
A collector layer 1 of a first conductivity-type (n-type) semiconductor is joined to provide a base layer 2 of a second conductivity-type (p-type), and an emitter region 3 of the first conductivity-type (n-type) is provided in the base layer 2.例文帳に追加
第1導電形(n形)半導体からなるコレクタ層1と接合して第2導電形(p形)のベース層2が設けられ、そのベース層2内に第1導電形(n形)のエミッタ領域3が設けられている。 - 特許庁
An Al_2O_3 bottom barrier layer 4, an Al rich Al_2+xO_3 charge storage layer 5, and an Al_2O_3 top barrier layer 6, an n-type polysilicon gate 7 are deposited in succession on an upper surface of a p-type single crystal silicon substrate 1.例文帳に追加
p型の単結晶シリコンン基板1の上面にAl_2O_3のボトム障壁層4、AlリッチのAl_2+xO_3の電荷蓄積層5、Al_2O_3のトップ障壁層6、n型ポリシリコンゲート7を順次堆積して形成する。 - 特許庁
Thus, even if there is no space in an ordinary car layer 12, when there is a space in the high roof car layer 11, the ordinary cars Vn driven into a getting-on-and-off room 2 can be warehoused by being housed in the high roof car layer 11.例文帳に追加
このため、普通車層12に空きがなくとも、ハイルーフ車層11に空きがあれば、乗降室2内に乗り入れられた普通車Vnは、ハイルーフ車層11内に格納されることにより、入庫可能である。 - 特許庁
A inner rib 23 being composed of a solid layer along the panel thickness direction and extending along the plane face part 17 is formed in the inflated layer 21 so that its both ends in the longitudinal direction are continued on the skin layer 19 of the lateral face parts 15.例文帳に追加
平面部17に沿って延びかつパネル厚み方向に沿うソリッド層からなる内リブ23を長手方向両端が側面部15のスキン層19に連続するように膨張層21内に形成する。 - 特許庁
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