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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > liquid film thicknessに関連した英語例文

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liquid film thicknessの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 903



例文

To provide a method of stably manufacturing an optical film having an optical anisotropic layer formed by utilizing a liquid crystal composition without trouble of opacification or the like while keeping thin thickness.例文帳に追加

液晶組成物を利用して形成された光学異方性層を有する光学フィルムを、薄い厚みで、しかも不透明化等の故障なく、安定的に製造可能な方法を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid phase epitaxial growth method by which dispersion of film thickness of an epitaxial layer is reduced, an epitaxial wafer excellent in uniformity in a plane can be manufactured and thereby yield of a device can be improved.例文帳に追加

エピタキシャル層の膜厚のばらつきを低下し、面内均一性に優れたエピタキシャルウェハを製造することでデバイスの歩留を向上できる液相エピタキシャル成長方法を提供する。 - 特許庁

The method of forming the resist patterns includes cleaning the resist pattern with a rinse liquid having a surface tension of67×10^-3 N/m after selectively exposing and developing resist films formed on a substrate and having a film thickness of50 nm.例文帳に追加

基板上に形成された、その膜厚50nm以下であるレジスト膜を選択的に露光し、現像した後、表面張力が67×10^−3N/m以下のリンス液で洗浄することを含むレジストパターン形成方法。 - 特許庁

A liquid crystal display with excellent contrast is provided by controlling film thickness difference between a black matrix layer and a color filter layer to ≤1.0 μm.例文帳に追加

ブラックマトリックス層とカラーフィルター層との膜厚差が約1.0μm以下であることにより、良好なコントラストの液晶ディスプレイを提供することができる。 - 特許庁

例文

After that, the wafer W, after being rotated temporarily at 500 rpm, is rotated at 2,500 rpm for 15 s, so that the film thickness of the resist liquid on the wafer is adjusted.例文帳に追加

その後,ウェハWが一旦500rpmで回転された後,2500rpmで15秒間回転され,これによってウェハ上のレジスト液の膜厚が調節される。 - 特許庁


例文

A C-plate mono-axial compensating film having the thickness as small as about 4 to 5 μm is formed or disposed on one of a first substrate and a second substrate in the liquid crystal display panel.例文帳に追加

液晶表示パネルの第1基板及び第2基板のうち、いずれか1つに約4〜5μm程度の薄い厚さを有するC−プレート一軸性補償フィルムを形成又は配置する。 - 特許庁

To provide a new optically anisotropic material having a high refractive index anisotropy and optical resistance to blue laser, and suppressed in film thickness unevenness and orientation distortion; and also to provide an optical element and a new liquid crystal compound for obtaining these products.例文帳に追加

高い屈折率異方性と優れた青色レーザー耐光性を有し、膜厚むらおよび配向乱れが抑制された光学異方性材料、光学素子およびこれらを得るための新規な液晶化合物を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device wherein extension width of a viewing angle is flexibly adjusted at low cost without increasing thickness by using a viewing angle control film consisting of a volume type hologram.例文帳に追加

体積型ホログラムからなる視野角制御フィルムを用いることによって、安価で、厚みの増大を招くことなく、かつ視野角の拡大幅を柔軟に調節することが可能な液晶表示装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an optical compensation film excellent in birefringence in the thickness direction and showing steep normal wavelength dispersion, a laminate for optical compensation, a polarizing plate for optical compensation, and a liquid crystal display member.例文帳に追加

厚み方向の複屈折発現性に優れ、急峻な正常波長分散を示す光学補償フィルム、光学補償用積層体、偏光板、及び液晶表示部材を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a color liquid crystal display having almost uniform film thickness as 1 to 2 μm range of the pixel of each color constituting a color filter and satisfying the EBU standards which are difficult to realize with existing materials.例文帳に追加

現行の材料では実現困難な、カラーフィルターを構成する各色の画素の膜厚が1〜2μmの範囲内でほぼ均一であり、EBU規格に対応するカラー液晶ディスプレーを提供する。 - 特許庁

例文

The refractive indices of the glass substrate 106 and the liquid crystal layer 103 are lower than the refractive index of the insulating layer 107, respectively and the insulating layer 107 has wavelength characteristics of transmittance different according to its film thickness by an interference of light.例文帳に追加

ガラス基板106の屈折率、及び、液晶層103の屈折率は、それぞれ絶縁層107の屈折率よりも小さく、絶縁層107は、光の干渉により、その膜厚に応じて、透過率の波長特性が異なっている。 - 特許庁

To provide a transflective liquid crystal display device which provides display of high quality with a high contrast by optimizing the azimuth relation between a layer thickness adjustment film provided in a reflection display region and rubbing.例文帳に追加

半透過反射型の液晶装置において、反射表示領域に設けられる層厚調整膜とラビングとの方位関係を適正化することによりコントラストの高い高品質の表示を得る。 - 特許庁

Then, the mask is stripped with the etching protective film thereon, and the panel is immersed in an etching liquid and the exposed surface of the glass substrate is polished to a predetermined thickness.例文帳に追加

その後、マスキングを、その上のエッチング保護膜と共に剥離してエッチング液に浸漬し、露出したガラス基板の表面を所定厚に研磨する。 - 特許庁

The capacity Cgd between the gate and the drain is adjusted by transistor size and a gate pattern, the auxiliary capacity Ccs is adjusted by Cs area and insulation film thickness and the liquid crystal capacity Clc is adjusted by an electrode area.例文帳に追加

ゲート−ドレイン間容量Cgdはトランジスタサイズやゲートパターンで調整され、補助容量CcsはCs面積や絶縁膜厚で調整され、液晶容量Clcは電極面積で調整される。 - 特許庁

To efficiently obtain a color filter utilizing a chiral nematic liquid crystal which attains high film thickness control.例文帳に追加

効率よく、高度の膜厚コントロールを実現したキラルネマチック液晶を利用したカラーフィルターを得るための感光性転写材料と、それを用いたカラーフィルターの製造方法並びにカラーフィルターを提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition excellent in stability with time and hardly causing changes in a coating film thickness even with time, and to provide a liquid crystal panel having a spacer formed of the photosensitive resin composition.例文帳に追加

経時安定性に優れ、経時によっても塗布膜厚の変化が生じにくい感光性樹脂組成物、及びその感光性樹脂組成物から形成されたスペーサを有する液晶パネルを提供する。 - 特許庁

The means for correcting the detected value of the liquid concentration corrects the resulted analog value of the optical sensor to a correct concentration by comparing the value with the value of the actual film thickness.例文帳に追加

液濃度検出値補正手段は、得られた光学センサのアナログ値を実際の膜厚のときの値と比較することで正しい濃度に補正する。 - 特許庁

To provide a coating device capable of inhibiting generation of coating defect on a film by inhibiting entanglement of a foam into a coating liquid having adjusted coating thickness, and a coating method using it.例文帳に追加

塗布厚が調整された塗布液への気泡の巻込みを抑制することにより、フィルムに対する塗布欠陥の発生を抑制することができる塗布装置及びそれを用いる塗布方法を提供する。 - 特許庁

The gate electrode layer having film thickness differences is easily formed by the liquid-drop discharge method, the advantage of which is utilized to its maximum.例文帳に追加

特に、膜厚差を有するゲート電極層は、液滴吐出法によって簡単に形成でき、液滴吐出法の利便性を最大限に活用することができる。 - 特許庁

The water permeable layer has fibers secured almost without fuzzing and has sufficient tension strength, and uniformly has small permeation portions being small holes having a porous thin film formed thereon in a thickness direction through which the aqueous liquid permeates.例文帳に追加

透水層は、繊維同士がほぼ固定化され毛羽立ちがほとんどなく十分な引張強度を有するものとし、多孔薄膜が形成された小孔である水系液体が透過する厚さ方向の小透過部を満遍なく有する。 - 特許庁

Since the time to press the quartz substrate to the substrate is decided on the basis of the detected film thickness information, the applied coating liquid can be flattened at the optimum timing.例文帳に追加

このように膜厚情報に基づき基板への石英基板の押付タイミングを決定しているので、最適なタイミングで塗布液の平坦化処理を実行することができる。 - 特許庁

To provide substrate processing equipment and a method, which are capable of preventing a film formed on a substrate from becoming irregular in thickness by restraining the applied processing liquid from being irregularly dried.例文帳に追加

塗布された処理液の乾燥ムラを抑制することにより、膜厚が不均一になることを防止する基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming accurate air bearing shape by coating a rugged air bearing surface formed by arranging a plurality of thin film magnetic head slider bars with a liquid state photoresist having uniform thickness.例文帳に追加

複数の薄膜磁気ヘッドスライダーバーを配列して形成される凹凸のあるエアーベアリング面上に、均一な厚みで液状フォトレジストを塗布し、精度の良いエアーベアリング形状を形成する方法を提供する。 - 特許庁

To produce uniformly directed nanowires stably at high reproducibility without any restriction on the thickness, etc. of a thin film for separation in a nanowire formation method using liquid metal drops as growth seeds.例文帳に追加

金属液滴を成長核として用いるナノワイヤ形成法において、隔絶のための薄膜の厚さ等の制限無くかつ方向の揃ったナノワイヤを安定的にかつ再現性よく製造する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal polymer blend film whose coefficient of thermal linear expansion for surface direction does not show anisotropy and coefficient of thermal linear expansion for thickness direction is small.例文帳に追加

面方向の熱線膨張係数に異方性がなく、かつ厚さ方向の熱線膨張係数の小さい液晶ポリマーブレンドフィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a stainproof coating liquid exhibiting good hydrophilicity from just after coating, capable of being coated to a 3 μm thickness coating without causing crack and capable of providing a stainproof coated film.例文帳に追加

塗布直後から良好な親水性を示し、クラックを生ずることなく3μmの膜厚に塗布可能な防汚コーティング膜を形成することが可能な防汚コーティング液を提供すること。 - 特許庁

When film thickness of the coating liquid on the wafer W is adjusted by rotating the wafer W, opening rate of the opening Q is reduced by the blades 56.例文帳に追加

そして,ウェハWを回転させ,ウェハW上の塗布液の膜厚を調節する際に,羽根板56により開口部Qの開口率を減少させる。 - 特許庁

The resin liquid is sprayed on the semiconductor wafer 11 from the exhaust nozzles of a line nozzle 3, as the line nozzle 3 is moved, whereby a resin film 12 nearly uniform in thickness is formed on the surface of the semiconductor wafer 11.例文帳に追加

ラインノズル3を移動させつつ、ラインノズル3の各噴出孔から半導体ウェハ11へと樹脂液を散布して、半導体ウエハ11表面に略均一な膜厚の樹脂膜12を形成する。 - 特許庁

To coat a printed board with liquid resist excellently at the edge part of a through hole and to form a resist layer of superior uniformity in film thickness without forming a pinhole.例文帳に追加

プリント基板で、スルーホールのエッジ部で良好に液状レジストを塗布することができ、かつピンホールが生じない膜厚の均一性に優れたレジスト層ができるようにする。 - 特許庁

In a state wherein a spin chuck is rotated (S3) and an etching liquid is supplied (S4), the thickness of a film on the surface of the wafer is measured in real time (S5).例文帳に追加

スピンチャックを回転し(S3)、かつ、エッチング液を供給している状態で(S4)、ウエハ表面の膜の膜厚がリアルタイムで測定される(S5)。 - 特許庁

To provide a coating device capable of reducing temperature irregularity occurring in a substrate, and preventing occurrence of film thickness irregularity of a liquid body; and a coating method.例文帳に追加

基板に発生する温度ムラを軽減することができ、液状体の膜厚ムラの発生を防ぐことができる塗布装置及び塗布方法を提供すること。 - 特許庁

In a first technique, the resin layer 2 (coating film) formed by applying liquid resin on a substrate 1 is heated and pressed by a force plunger 4 under a condition that self liquidity is suppressed to unify the thickness of the resin layer 2.例文帳に追加

第1手法では、基板1上に液状樹脂を塗布して形成した樹脂層2(塗膜)を加熱して自己流動性を抑制した状態で押し型4により押圧して樹脂層2の層厚を均一化する。 - 特許庁

To provide a device for applying a coating liquid to a cylindrical substrate, by which a coating film excellent in uniformity and free of unevenness in thickness and a seam can be formed with high production efficiency.例文帳に追加

生産効率が高く、膜厚むらおよび継ぎ目のない均一性に優れた塗膜を得ることができる円筒状基体に対する塗液の塗布装置を提供する。 - 特許庁

The in-plane film thickness distribution of a wafer W is determined according to a processing recipe including the type of resist liquid and the transition pattern of the number of revolutions of the wafer W.例文帳に追加

ウエハWの面内の膜厚分布は、レジスト液の種類及びウエハWの回転数の推移パターンを含む処理レシピに応じて決まる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method, capable of obtaining a magnetic recording medium having high performance and high reliability by attaining the formation of a liquid lubricating layer, having a high coating rate, while keeping a film thickness of 1nm-2nm.例文帳に追加

1nm〜2nmの膜厚を維持する一方で、高い被覆率を有する液体潤滑層を形成可能とし、高性能で信頼性の高い磁気記録媒体を提供し得る製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a blade coater for steel strip capable of stably performing the removal of an excess of a coating liquid and the control of coating film thickness in a continuous surface treating line and exchanging a used part an unused part of the blade without stopping the coating work.例文帳に追加

連続表面処理ラインに対して、安定して塗布液膜除及び塗布膜厚制御を行い、また、塗布作業を停止することなく未使用部分と使用部分を交換することが可能な鋼帯用ブレードコータを提供する。 - 特許庁

Then the semiconductor substrate is submerged in a heated oxidizing chemical liquid such as concentrated nitric acid for a prescribed period to form a very thin oxide film, with prescribed thickness on the surface of the substrate.例文帳に追加

次に半導体基板を加熱した濃硝酸等の酸化性の薬液に一定時間浸漬することにより、基板の表面に所定の膜厚の極薄の酸化膜を形成する。 - 特許庁

This equipment comprises arranging an electrolysis diaphragm between an anode electrode and an electroconductive layer of a substance to be treated for separating a plating liquid and making the electrical sheet resistance or the film thickness between front and back interfaces of the electrolysis diaphragm differ depending on the site.例文帳に追加

アノード電極と被処理体の導電層との間にメッキ液を分かつ電解隔膜を設け、その電解隔膜の表裏面間の面積電気抵抗または膜厚を、その部位により異ならしめる。 - 特許庁

The manufacturing method of a drawn resin porous membrane comprises a step of drawing a resin porous film in a state selectively wetted with a wetting liquid by 5 μm or more from its outer surface and 1/2 of the membrane thickness or less.例文帳に追加

樹脂多孔膜を、その外表面から5μm以上、且つ膜厚さの1/2以下の深さまで選択的に湿潤液により湿潤させた状態で延伸することを特徴とする、延伸樹脂多孔膜の製造方法。 - 特許庁

The dielectric sheet consists of a sheet having a thickness of 5-30 μm formed by drying a film of coating liquid containing a resin and natural graphite powder having an average grain size of 10 μm or less.例文帳に追加

樹脂及び平均粒径が10μm以下の天然黒鉛粉末を含む塗工液の塗膜を乾燥して形成された厚みが5〜30μmのシートからなることを特徴とする誘電体シート。 - 特許庁

To provide a window sash and a coating liquid for window sashes capable of obtaining high photocatalyst decomposition activity even when a thick coating film with a thickness of 2 μm or more is applied to reduce degradation of an enamel coating surface and a clear coating surface.例文帳に追加

エナメル塗装面やクリア塗装面の劣化を抑制するように2μmをこえる厚膜で塗膜する場合でも高度な光触媒分解活性を得ることの可能な窓サッシおよび窓サッシ用コーティング液を提供すること。 - 特許庁

To provide a coating method using a slit type die coater and a low-viscosity coating liquid and forming two or more stripe-like thin films with a stable film thickness and an organic electronics element formed by the coating method.例文帳に追加

スリット型ダイコーターを用い、低粘度の塗布液を使用し、安定した膜厚でストライプ状の複数の薄膜を形成する塗布方法及びこの塗布方法より形成された有機エレクトロニクス素子を提供することである。 - 特許庁

To provide an external structure which can obtain high photocatalyst decomposition activity even if a film having a thickness exceeding 2 μm is applied to suppress the deterioration of an enamel coating surface or a clear coating surface and a coated liquid for the external structure.例文帳に追加

エナメル塗装面やクリア塗装面の劣化を抑制するように2μmをこえる厚膜で塗膜する場合でも高度な光触媒分解活性を得ることの可能な外構および外構用コーティング液を提供すること。 - 特許庁

To provide a gate door and a coating liquid for the gate door which can obtain a high degree of photocatalyst destruction activity even when coating is performed with the film thickness of over 2 μm so that the deterioration of an enamel coated surface or a clear coated surface can be controlled.例文帳に追加

エナメル塗装面やクリア塗装面の劣化を抑制するように2μmをこえる厚膜で塗膜する場合でも高度な光触媒分解活性を得ることの可能な門扉および門扉用コーティング液を提供すること。 - 特許庁

To provide a coating apparatus for a liquid resin capable of forming a resin coating film having desired thickness on the back surface of a wafer, and to provide a grinder including the coating apparatus.例文帳に追加

ウエーハの裏面に所望の厚みの樹脂被膜を形成することができる液状樹脂の塗布装置および液状樹脂の塗布装置を装備した研削機を提供する。 - 特許庁

To provide a developing apparatus for measuring a thickness of a developer film formed on a developing roller by a liquid developer.例文帳に追加

本発明は、現像ローラに形成される液体現像剤により構成される現像剤膜の膜厚を測定することが可能な現像装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a fence and coating liquid for a fence which can obtain a high photocatalytic decomposition activity even when coating a thick film having a thickness exceeding 2 μm so as to suppress deterioration of an enamel coated surface and a clear coated surface.例文帳に追加

エナメル塗装面やクリア塗装面の劣化を抑制するように2μmをこえる厚膜で塗膜する場合でも高度な光触媒分解活性を得ることの可能なフェンスおよびフェンス用コーティング液を提供すること。 - 特許庁

Thereafter, the wafer W is rotated at such a proper rotation speed as not to scatter the coating liquid on the wafer W from the wafer W and accordingly, the uniformity of the thickness-in-plane of the coating film on the wafer W is improved.例文帳に追加

この後ウエハW上の塗布液がウエハWから飛散しない回転数で当該ウエハWを回転させることにより、ウエハW上の塗布膜の膜厚の面内均一性を向上させる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a light emitting device with a plurality of organic EL (Electro Luminescense) elements capable of forming a common layer of uniform film thickness over the plurality of organic EL elements by a method of applying ink in the form of a liquid column.例文帳に追加

インキを液柱状に塗布する方法を用いて、複数の有機EL素子にわたって膜厚が等しい共通層を形成することのできる、複数の有機EL素子を備える発光装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a plating apparatus capable of plating even the upper part of a workpiece near the level of a plating liquid in a plating film thickness uniform over the other part of the workpiece in the plating apparatus of continuous vertical conveyance type.例文帳に追加

連続垂直搬送式めっき装置において、めっき液の液面に近いワークの上部にもワークの他の部分と均一なめっき膜厚でめっきすることができるめっき装置を提供する。 - 特許庁

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