「lower process」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

The plasma processing system further comprises an electrode 152 disposed at the lower end of the process chamber.例文帳に追加

プラズマ処理システムは、さらに、処理チャンバの下端に配置された電極１５２を備える。 - 特許庁

To provide an olefinic naphtha and a process for producing lower olefins from this naphtha.例文帳に追加

オレフィン系ナフサ及びこのナフサから低級オレフィンを製造する方法を提供する。 - 特許庁

Then a process of evacuating the housing 4 from the lower portion thereafter is further added (Fig.1(d)).例文帳に追加

その後、筐体４の下部から真空引きを行う工程を、さらに加える（図１の（ｄ））。 - 特許庁

The processing of the first audio data stream by the process is executed by a second lower partition.例文帳に追加

そのプロセスによる第１のオーディオデータストリームの処理は、第２の下位パーティションで行われる。 - 特許庁

A laminated substrate A is chucked and held on a lower chuck 11 in a process container 10.例文帳に追加

処理容器１０内の下部チャック１１上に貼り合せ基板Ａを吸着保持する。 - 特許庁

the process in which there is movement of a substance from an area of high concentration of that substance to an area of lower concentration 例文帳に追加

ある物質が、その物質の濃度の高い所から低いところへ動く過程 - 日本語WordNet

The method comprises a lower electrode arrangement process arranging a lower electrode, an electrolyte film arrangement process loading an electrolyte film on the lower electrode, an upper electrode arrangement process loading an upper electrode on the electrolyte film, and a protective sheet arrangement process covering a protective sheet on the upper electrode.例文帳に追加

下側電極を配置する下側電極配置工程と、前記下側電極上に、電解質膜を載置する電解質膜配置工程と、前記電解質膜上に、上側電極を載置する上側電極配置工程と、前記上側電極上に保護シートを被せる保護シート配置工程とを具備する。 - 特許庁

Moreover, during a printing operation for the middle part and the lower end part, a lower end transitional process for executing a printing operation using all the nozzle groups is executed, with the same feeding operation in the sub scanning direction as in the lower end part.例文帳に追加

また、中間部と下端部の印刷の間には、下端部と同じ副走査送りを行い、全ノズル群を使用して印刷を行う下端移行処理を行う。 - 特許庁

To provide a material for forming a lower layer film of a photoresist with which a lower layer film with high etching resistance, a high reflection preventing effect, and a high poisoning resistant effect is formed as a lower layer film for a two layered or three layered resist process, and also to provide a pattern forming method.例文帳に追加

２層あるいは３層レジストプロセス用下層膜として、エッチング耐性、反射防止効果、耐ポイゾニング効果の高い下層膜を形成する。 - 特許庁

Then, in the S40 process, the diameter of the lower washer is determined based on each resonance frequency measured in the S30 process and on the rank table created in the S20 process.例文帳に追加

その後Ｓ４０の工程にて、Ｓ３０の工程で測定された共振周波数と、Ｓ２０の工程で作成されたランクテーブルとに基づいて、下座金の径を決定する。 - 特許庁

Then, processes from a tire carrying outgoing process and a tire carrying returning process by the tire carrying device are performed during the vulcanizing-molding process by the lower mold and the upper mold.例文帳に追加

タイヤ搬送装置によるタイヤ搬送往き工程からタイヤ搬送戻り工程までを、下部モールドと上部モールドによる加硫成型工程の間において行なうようにした。 - 特許庁

In the S50 process, the vibrator is fixed to a main metal fitting together with the lower washer determined in the S40 process, and thereby the vibrator assembly process is finished.例文帳に追加

そしてＳ５０の工程にて、Ｓ４０の工程で決定された下座金とともに振動体を主体金具に固定することにより、振動体組付け工程を終了する。 - 特許庁

Deformation of the lower substrate 5 with the partitions 10 and the reflecting layer formed thereon can be prevented by compensating the stress generated at the lower substrate 5 in the process of forming the partitions 10 onto the lower substrate 5 with the stress generated in the process of forming the reflecting layer onto the lower substrate 5.例文帳に追加

下部基板上に隔壁を形成する工程で下部基板に発生する応力を、下部基板上に反射層を形成する工程で発生する応力で補償し、隔壁及び反射層が形成された下部基板の変形を防止することができる。 - 特許庁

Further, in the manufacturing method, a process that the lower hole 3 is filled with an insulation material 4 and a process where multiple through holes 5 are formed in the lower hole 3 filled with the insulation material 4 are conducted.例文帳に追加

更に、製造方法は、下孔３に絶縁材４を充填する工程と、絶縁材４が充填された下孔３内に複数のスルーホール５を形成する工程と実行する。 - 特許庁

A standard water level and a low water level lower than the standard water level are set as a water level in a washing process and a rinsing process.例文帳に追加

洗浄工程及びすすぎ工程における水位として標準水位及び標準水位よりも低い低水位を設定した。 - 特許庁

The vacuum gas feeder feeds gas to a chamber in which a process is carried out under a process pressure lower than atmospheric pressure.例文帳に追加

大気圧よりも低いプロセス圧力にてプロセスが行われるチャンバへガスを供給するガス減圧供給装置が提供される。 - 特許庁

The process S3 includes a process of raising temperature to the lower limit in a predetermined temperature range at a temperature raising rate without growing a crystal nucleus.例文帳に追加

工程Ｓ３は、結晶核が成長しない昇温レートにて所定の温度範囲の下限まで昇温する工程を含む。 - 特許庁

The process of forming the piezoelectric element 54 includes the process of forming a lower electrode 4 above the diaphragm, the process of forming an orientation layer 7 above the lower electrode, the process of forming a piezoelectric layer 5 above the orientation layer, and the process of forming an upper electrode 6 above the piezoelectric layer.例文帳に追加

前記圧電素子５４を形成する工程は、前記振動板の上方に下部電極４を形成する工程と、前記下部電極の上方に配向層７を形成する工程と、前記配向層の上方に圧電体層５を形成する工程と、前記圧電体層の上方に上部電極６を形成する工程と、を含む。 - 特許庁

In the process for forming the intermediate, preliminary calcination is preferably carried out at a temperature not lower than 1,000°C and lower than 2,000°C, and in the process for calcinating the intermediate, calcination is preferably carried out at a temperature not lower than 2,000°C and not higher than 3,000°C.例文帳に追加

上記中間体を形成する工程では、１０００℃以上２０００℃未満の温度で予備焼成し、上記中間体を焼成する工程では、２０００℃以上３０００℃以下の温度で焼成することが好ましい。 - 特許庁

The prescribed video processing is a processing of sequentially executing a first noise reduction process, the number of bits extending process, and a second noise reduction process under a lower dimension than that of the first noise reduction process, or a processing of sequentially executing the first noise reduction process and the number of bits extending process as the second noise reduction process.例文帳に追加

この所定の映像処理として、第一のノイズ低減処理、ビット数拡張処理、及び第一のノイズ低減処理の次元より低次元の第二のノイズ低減処理を順次実行する処理、或いは、第一のノイズ低減処理、及び第二のノイズ低減処理としてのビット数拡張処理を順次実行する処理である。 - 特許庁

Then, series of processes composed of the coating process, the temporary mounting process and the reflow process are repeated for each block of the electronic component, and the temperature inside the reflow furnace in one reflow process is set lower than the temperature inside the reflow furnace in the reflow process preceding to one reflow process.例文帳に追加

そして、塗布工程、仮マウント工程、及びリフロー工程からなる一連の工程を電子部品の区分毎に繰り返し、かつ一のリフロー工程でのリフロー炉内の加熱温度が、一のリフロー工程より前のリフロー工程でのリフロー炉内の加熱温度よりも低く設定されている。 - 特許庁

The reduction furnace is operated by a batch method in which an operation process includes a temperature rising process, a steady operation process and a cooling process, and only the waste heat of a temperature higher than a waste heat recovery lower limit temperature of the reduction furnaces in the steady operation process or the cooling process, is integrated and recycled.例文帳に追加

本発明では、還元炉の運転工程が、昇温工程、定常運転工程および冷却工程からなるバッチ方式で運転されており、定常運転工程または冷却工程にある還元炉のうち、廃熱回収下限温度以上の廃熱のみを統合して利用する。 - 特許庁

A patterning process of the ITO on the lower part electrode 13 can be eliminated.例文帳に追加

本発明によって下部電極１３上のＩＴＯのパタニング工程を無くすことが出来る。 - 特許庁

To prevent a short circuit from occurring between a lower electrode layer and an upper electrode layer in the manufacturing process of a magnetoresistive effect element.例文帳に追加

製造時に下電極層および上電極層間の短絡が生じないようにする。 - 特許庁

A context of a process for processing the first audio data stream is stored in a first lower partition.例文帳に追加

第１のオーディオデータストリームを処理するプロセスのコンテクストを第１の下位パーティションに保存する。 - 特許庁

To easily remove needless resin made in the process of sealing a stator with resin from a lower mold.例文帳に追加

ステータを樹脂封止する過程でできた不要樹脂を下型から容易に除去すること。 - 特許庁

As a second process, a resin layer for the optical waveguide is further laminated on the lower clad layer 3.例文帳に追加

第２の工程として、下部クラッド層３の上に光導波路用樹脂層をさらに積層する。 - 特許庁

To miniaturize damage applied to a lower film in an etching process defining metal wiring.例文帳に追加

金属配線を定義するエッチング工程の際に、下部膜に加えられる損傷を最小化する。 - 特許庁

Then, one edge of the lower wafer is allowed to abut on one edge of the upper wafer (process S10).例文帳に追加

その後、下ウェハの一端部と上ウェハの一端部とを当接させて押圧する（工程Ｓ１０）。 - 特許庁

A process of forming the organic compound layers 5 on the lower part electrodes 2 and the auxiliary electrodes 3.例文帳に追加

下部電極２及び補助電極３の上に、有機化合物層５を形成する工程。 - 特許庁

the process of declining from a higher to a lower level of effective power or vitality or essential quality 例文帳に追加

有効な力や体力、本質的な資質が高いレベルから低いレベルへと衰えていく過程 - 日本語WordNet

A method of removing lower alcohol in water comprizes a process for partially oxidizing the lower alcohol in the water to produce the lower boiling point organic compound and a process for removing the lower boiling point organic compound obtained by the partial oxidation by the gas liquid contact.例文帳に追加

水中の低級アルコールを除去する方法において、水中の低級アルコールを部分酸化して沸点のより低い有機化合物を生成する工程と、部分酸化により生じた水中の沸点のより低い有機化合物を気液接触により除去する工程とを有する。 - 特許庁

When the first folder and the second folder are detected, a rearranging process execution part 64 executes any of: a process to delete the first folder; a process to move the first folder to the lower level of the second folder; and a process to move the second folder to the lower level of the first folder.例文帳に追加

整理処理実行部６４は、そのような第一のフォルダおよび第二のフォルダが検出された場合に、第一のフォルダを削除する処理、第一のフォルダを第二のフォルダの下位に移動させる処理、および第二のフォルダを第一のフォルダの下位に移動させる処理のうちのいずれかを実行する。 - 特許庁

In the controller 130, when running a production process in which a lower limit temperature is set, it is confirmed whether or not the temperature detected by the temperature sensor 15 is lower than the lower limit temperature.例文帳に追加

制御装置１３０は、下限温度が設定されている製造工程を実行しようとする際に、温度センサ１５が検知する温度が下限温度未満であるか否かを確認する。 - 特許庁

The lower end of the outer panel 2 is joined to the lower end 3a of the inner panel 3 by being turned up so as to wrap the lower end 3a of the inner panel 3 by hemming process.例文帳に追加

アウタパネル２の下端部は、インナパネル３の下端部３ａを内包するように折り返してヘミング加工されることにより、前記インナパネル３の下端部３ａと接合している。 - 特許庁

The support plate segregates the process chamber into an upper region and a lower region 66, 68, with purge gas being introduced through the lower tube into the lower region to prevent unwanted deposition therein.例文帳に追加

支持プレートは、プロセスチャンバを上部領域及び下部領域６６、６８に区分けし、パージガスが下部管を通って下部領域に導入され、そこでの不要な成長を防止する。 - 特許庁

The support plate segregates the process chamber into an upper region and a lower region 66, 68, with a purge gas being introduced through a lower tube into the lower region to prevent an unwanted deposition therein.例文帳に追加

支持プレートは、プロセスチャンバを上部領域及び下部領域６６、６８に区分けし、パージガスが下部管を通って下部領域に導入され、そこでの不要な成長を防止する。 - 特許庁

The control device 70 executes an electric power saving preheating process to lower the on-time level of a heating on-off duty from the middle of a preheating process to interruption or completion of the preheating process.例文帳に追加

制御装置７０は、予熱工程の途中から予熱工程の中断または終了に至るまで、加熱オン−オフデューティーのオンタイムレベルを下げる省電力予熱工程を遂行する。 - 特許庁

For example, if the user has blue pupils, a process to lower a color temperature (process by which white is tinged with red) is performed, and if the user is a boy, a process to increase a contrast is performed.例文帳に追加

例えば、使用者の瞳が青色であれば、色温度を下げる処理（白色がやや赤味を帯びる処理）を行い、使用者が少年”であれば、コントラストを高くする処理を行う。 - 特許庁

The atmospheric pressure in the process for growing the first crystal 11 is lower than the atmospheric pressure in the process for growing the second crystal 12.例文帳に追加

第１の結晶１１を成長する工程の雰囲気圧力は、第２の結晶１２を成長する工程の雰囲気圧力よりも低い。 - 特許庁

Also, the completion scheduled date of the work process is displayed so as to be turned on/off at a lower position 98 of an icon 86 showing a work process in progress.例文帳に追加

また、仕掛かり中の工程を示すアイコン８６の下位置９８には、当該工程の完了予定日が点滅表示されている。 - 特許庁

Specifically, a lower magnetic substrate 2 is formed in the first process S1 and in the second process S2, an electrode sheet 3 having the coil electrode 30 and a lower resin sheet 31 integrated is formed.例文帳に追加

具体的には、第１の工程Ｓ１において、下部磁性基板２を形成し、第２の工程Ｓ２において、コイル電極３０と下の樹脂シート３１とが一体となった電極シート３を形成する。 - 特許庁

A first process is set so as to access only a hierarchy at a first directory or lower while a second process is set so as to access only a hierarchy at a second directory or lower.例文帳に追加

第１のディレクトリ以下の階層にのみ第１のプロセスがアクセス可能となるように設定するともに、第２のディレクトリ以下の階層にのみ第２のプロセスがアクセス可能となるように設定する。 - 特許庁

The method further includes evacuating the lower process zone, generating a plasma in an external chamber from a polymer etch precursor gas, and introducing a by-product from the plasma into the lower process zone.例文帳に追加

本発明は更に下方処理ゾーンから排気し、重合体エッチング前駆体ガスから外部チャンバ内でプラズマを発生させ、プラズマからの副生成物を下方処理ゾーンへと導入することを含む。 - 特許庁

After processing at such a process pressure and flow rate, even a lower level of oxygen contamination may be achieved by then increasing the process pressure, hydrogen flow rate, and process temperature, through the process temperature still remains less than 800°C.例文帳に追加

こうした処理圧力及び流量で処理後、処理温度は８００未満のままであっても、処理圧力、水素流量、及び処理温度を増大することによって、さらに低いレベルの酸素汚染を達成可能である。 - 特許庁