「lower process」に関連した英語例文の一覧と使い方(39ページ目) - Weblio英語例文検索

The carrier 100 includes a core particle 101 and a thermosetting silicone resin layer 102 formed of a thermosetting silicone resin on the surface of the core particle 101, wherein the thermosetting silicone resin layer 102 contains a charge controlling agent having positive charging properties and is formed by a thermosetting process at a temperature lower than the melting point of the charge controlling agent included in the resin layer.例文帳に追加

キャリア１００は、コア粒子１０１と、コア粒子１０１の表面に熱硬化シリコーン樹脂で形成される熱硬化シリコーン樹脂層１０２とを有し、熱硬化シリコーン樹脂層１０２は、正帯電性の帯電制御剤を含み、前記樹脂層に含まれる帯電制御剤の融点未満の温度で熱硬化処理されることによって形成される。 - 特許庁

The control device 22 forcibly energizes the heater 19a when the concentration learning process is not completed even if the engine temperature is equal to or lower than the predetermined temperature range, and corrects the fuel injection quantity so that a difference between an actual air-fuel ratio detected by the air-fuel ratio sensor 19 activated by the forcible energization and a target air-fuel ratio is settled within a predetermined range.例文帳に追加

制御装置２２は、機関温度が所定の温度範囲以下のときでも濃度学習処理が完了していないときにはヒータ１９ａへの強制通電を行い、その強制通電により活性化された空燃比センサ１９で検出される実空燃比と目標空燃比とのずれが所定範囲内に収まるように燃料噴射量を補正する。 - 特許庁

To provide a light emitting device which reduces irregularities in a color and irregularities in a quantity of light in each light emitting part and in each product by a method wherein a resin containing a phosphor, a pigment or the like is manufactured in a simplified process so as to mass-produce the light emitting device and to lower its production costs, and the quality of a sealing resin is made uniform.例文帳に追加

簡略化された工程にて、蛍光体あるいは顔料等が含まれた樹脂部を製造することによって量産化を図り、製造コストを低減するとともに、封止樹脂の品質を均一化することによって、発光部ごと、製品ごとの色ばらつき、光量ばらつきが低減された発光装置を提供する。 - 特許庁

This manufacturing method of an immunomodulator is a manufacturing method of an immunomodulator by removing water soluble fraction from a yeast which belongs to saccharomyces group, and the yeast belonging to saccharomyces group is treated in the presence of water at not lower than 60°C, and none of acid treatment, alkali treatment, alcohol treatment, and enzyme treatment is carried out in its manufacturing process.例文帳に追加

サッカロマイセス（Ｓａｃｃｈａｒｏｍｙｃｅｓ）属に属する酵母より水溶性画分を除去して得られる免疫調節剤の製造方法であって、サッカロマイセス（Ｓａｃｃｈａｒｏｍｙｃｅｓ）属に属する酵母を、水存在下６０℃以上で処理し、その製造工程において、酸処理、アルカリ処理、アルコール処理及び酵素処理のいずれも実施しないことを特徴とする、免疫調節剤の製造方法。 - 特許庁

To provide a method for producing an aromatic compound by a new direct reforming method, capable of aiming at the maintenance of the direct reforming catalyst and improvement of the efficiency of the reforming process in considering the problematic points of efficiency of the production of the aromatic compound by the direct reforming of lower hydrocarbons using conventional technologies.例文帳に追加

本発明は、従来技術による低級炭化水素の直接改質法による芳香族化合物の製造の効率性の問題点に鑑み、直接改質触媒の活性維持と改質プロセスの効率向上を図ることができる新たな直接改質法による芳香族化合物の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a semiconductor light-emitting device and its manufacturing method that use a ZnO-family compound semiconductor, are a vertical type that can take out an electrode from the upper and lower surfaces of a chip, having superior crystallinity of a semiconductor layer and high light emission efficiency, at the same time, which do not use a sapphire substrate, and are convenient in a manufacturing process and use.例文帳に追加

ＺｎＯ系化合物半導体を用い、チップの上下両面から電極を取り出すことができる垂直型で、かつ、半導体層の結晶性が優れて発光効率が高いと共に、基板にサファイア基板を用いないで製造プロセスおよび使用面で便利な半導体発光素子およびその製法を提供する。 - 特許庁

In this manufacturing method, at least a part of a cold working step or a hot working step and an annealing step are performed, by cold working preceded by an intermediate annealing treatment performed at temperatures of 520-750°C, which is higher than the recrystallizing temperature of a standard Cu-Sn alloy and a quenching process cooling to 100°C or lower, within less than 30 seconds.例文帳に追加

この、製造方法は、標準的なＣｕ−Ｓｎ合金の再結晶温度以上である５２０℃〜７５０℃の温度で実行される中間アニール処理と、３０秒未満内に１００℃以下へ冷却する急冷処理とにより先行される冷間加工により冷間加工ステップ又は高温加工ステップの少なくとも一部分及びアニールステップを実行する。 - 特許庁

A treatment method of development wastewater in a color filter manufacturing process includes a heating step of heating the development wastewater to be 50°C or higher and a pH adjustment step of adjusting pH of the development wastewater to be 7 or lower, in which the development wastewater is subjected to solid-liquid separation in the state of heating and pH adjustment.例文帳に追加

カラーフィルタ製造工程における現像排水の処理方法であって、該現像排水を５０℃以上に加温する加温工程と、該現像排水のｐＨを７以下に調整するｐＨ調整工程と、を有し、該現像排水を加温及びｐＨ調整した状態で固液分離することを特徴とする、現像排水の処理方法。 - 特許庁

In the method for sintering the porous quartz glass preform where a porous quartz glass preform 1 produced by a soot process is heated and sintered so as to be a transparent glass body, and while moving the porous quartz glass preform 1 from the lower part to the upper part of a furnace core tube 11, sintering is progressed by using a zone melting furnace 10, and the OH concentration is uniformized in the longitudinal direction.例文帳に追加

スート法により製造された多孔質石英ガラス母材１を加熱焼結し、透明ガラス体とする多孔質石英ガラス母材の焼結方法であって、帯域溶融炉１０を用いて、多孔質石英ガラス母材１を炉心管１１の下方から上方に移動させながら焼結を進め、ＯＨ濃度を長手方向に均一にする。 - 特許庁

For the same signal, data for an upper N-M bit portion are obtained by an AD conversion process at N-M bit accuracy in first processing, and data for a lower M bit portion are obtained by AD conversion processing at N bit accuracy as for 1 LSB portion at N-M bit accuracy that cannot be decomposed by resolution at the first N-M bit accuracy in second processing.例文帳に追加

同一信号について、１回目はＮ−Ｍビット精度でのＡＤ変換処理により上位Ｎ−Ｍビット分のデータを取得し、２回目は１回目のＮ−Ｍビット精度の分解能では分解できていないＮ−Ｍビット精度での１ＬＳＢ分についてＮビット精度のＡＤ変換処理により下位Ｍビット分のデータを取得する。 - 特許庁

The process for producing the modified polytetrafluoroethylene film comprises irradiating a laminate of a heat-resistant spacer and a polytetrafluoroethylene film in a rolled up state with ionizing radiation in a low oxygen concentration atmosphere at a temperature not lower than the melting point of the polytetrafluoroethylene to crosslink the polytetrafluoroethylene film, and then separating the crosslinked polytetrafluoroethylene film from the heat-resistant spacer.例文帳に追加

耐熱性スペーサとポリテトラフルオロエチレンフィルムとの積層体をロール状に巻回した状態で、低酸素濃度雰囲気かつポリテトラフルオロエチレンの融点以上の温度で電離性放射線を照射してポリテトラフルオロエチレンフィルムを架橋させ、しかる後、架橋ポリテトラフルオロエチレンフィルムと耐熱性スペーサを分離する改質ポリテトラフルオロエチレンフィルムの製造方法。 - 特許庁

To obtain a decomposition treatment agent capable of decomposing fluorocarbons such as CF_4 contained in exhaust gas discharged from a semiconductor manufacturing process, or the like, in a decomposition ratio of 99.9% or more at a relatively low temperature of 1,000°C or lower without deactivating the decomposition treatment agent in a short time and discharging corrosive gas such as hydrogen fluoride.例文帳に追加

半導体製造工程等から排出される排ガスに含まれるＣＦ_４等のフルオロカーボンを、短時間で分解処理剤が失活することなく、またフッ化水素等の腐食性ガスを排出させることなく、１０００℃以下の比較的低い温度で９９．９％以上の分解率で分解可能な分解処理剤及び分解処理方法を提供する。 - 特許庁

To improve optical coupling efficiency between optical parts, to facilitate assembling and mounting to reduce manufacturing costs of an optical transmitting module and to lower its price by providing a beam spot converting optical waveguide in which a manufacturing process is simple and manufacturing costs are reduced and which is integrally formed with an optical waveguide and is manufactured on an optical device mounting substrate.例文帳に追加

製造工程が単純で製造コストの低減が可能であり、光導波路との一体形成や光素子搭載基板上に作製が可能なビームスポット変換光導波路を提供し、光部品間の光結合効率を上げ、組立・実装を容易にして光伝送モジュールの製造コストを下げてその価格低減を図る。 - 特許庁

To provide a semiconductor integrated circuit for driving liquid crystal display which can be manufactured without using a high pressure resistant process by constituting a circuit of outputting a signal supplied to a gate signal generation circuit of the liquid crystal panel with a low pressure resistant element to permit a lower cost and is capable of improving an operation speed of an output circuit and reducing a power consumption.例文帳に追加

液晶パネルのゲート信号生成回路へ供給する信号を出力する回路を低耐圧の素子で構成しもって高耐圧プロセスを使用せずに製造可能して低コスト化を図るとともに、出力回路の動作速度を向上させ、消費電力を低減させることができる液晶表示駆動用半導体集積回路を実現する。 - 特許庁

To provide a polylactic acid-based fiber enabling conducting favorable heat treatment in the production process and processing operation for textile products such as woven/knitted fabrics and nonwoven fabrics each comprising polylactic acid fibers, and causing no poor touch feeling in ironing such a textile product at a temperature lower than its melting point: and to provide a textile product comprising the polylactic acid-based fibers.例文帳に追加

ポリ乳酸繊維からなる織編物、不織布等の繊維製品の製造・加工工程で良好に熱処理を施すことが可能であり、また、ポリ乳酸系繊維からなる繊維製品に融点未満の温度でアイロン掛けする際に、風合いが硬化することがないようなポリ乳酸系繊維およびそれからなる繊維製品を提供する。 - 特許庁

To provide a method and a system that dehumidify a flue gas from a flue gas generating process where the flue gas is sent to a wet flue gas processor and fluid in the wet flue gas processor that is sent from an upper end to a lower end of the processor is sprayed on the flue gas in the flue gas processor.例文帳に追加

煙道ガス発生プロセスからの煙道ガスを減湿する方法及びシステムであって、煙道ガスが湿式煙道ガスプロセッサに送られ、該プロセッサの下端部から上端部に送られる該湿式煙道ガスプロセッサ内の液体が、当該湿式煙道ガスプロセッサ内の煙道ガス上に噴霧される方法及びシステムを提供することである。 - 特許庁

To lower the running cost of exchange parts so that economicity obtained by the lowering of the running cost can be improved, industrial waste is reduced, and the environment can be kept by enabling a user to safely and easily perform the exchange operation of only a photoreceptor drum in a process cartridge without staining peripheral parts and to easily exchange only the photoreceptor.例文帳に追加

プロセスカートリッジ中の感光体ドラムのみの交換操作を周囲の汚損等を生じる事無く安全且つ容易に実施可能とし、ユーザサイドで容易に感光体ドラムのみの交換を行えるようにすることにより、交換部品を低減してランニングコスト低減による経済性向上を図り、産業廃棄物を低減して環境の保全を図る。 - 特許庁

The process for producing glass comprises melting a raw material batch after incorporating water into the batch or incorporating water into molten glass and then clarifying the molten glass in an atmosphere having a water vapor partial pressure lower than that of the atmosphere in melting so as to yield glass having a β-OH value of at least 0.2 mm^-1 after melting.例文帳に追加

原料バッチに水を含ませて熔融する、または熔融中のガラスに水を含ませた後、該熔融したガラスを前記熔融雰囲気より水蒸気分圧の低い雰囲気で清澄することによって、熔融後のガラスにおけるβ−ＯＨを、少なくとも０．２ｍｍ^-1となるようにしたことを特徴とするガラスの製造方法である。 - 特許庁

To provide a method for producing propylene oxide by reacting hydrogen peroxide or a ≥2C peroxide with propylene, capable of decreasing/reducing the unevenness of a load for removing methyl alcohol in a purification process of the propylene oxide, in other words, capable of regulating the concentration of an impurity, methyl alcohol at or lower than a prescribed concentration with the same load.例文帳に追加

過酸化水素あるいは炭素数２以上の過酸化物とプロピレンを反応させるプロピレンオキサイドの製造方法において、プロピレンオキサイドの精製工程でのメチルアルコールを除去するための負荷のばらつきを少なくし、軽減し、言い換えれば同じ負荷で不純物メチルアルコールの濃度を所定の濃度以下に制御できるプロピレンオキサイドの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a porous carbon material which is extremely high in ratio of specific surface area in a meso-pore zone and is high in adsorption rate a manufacturing method which enables to easily obtain the porous carbon material with lower energy consumption and a simple process in a commercial production basis, and purpose of use of the porous carbon material.例文帳に追加

メソポア領域の比表面積の比率が極めて高く、吸着速度の大きい多孔質炭素材料、および該多孔質炭素材料を少ないエネルギー消費量で、かつ簡素な工程により容易に得ることができる工業的に実施可能な多孔質炭素材料の製造方法、さらには該多孔質炭素材料の用途の提供。 - 特許庁

The manufacturing process comprises melting a polyacetal copolymer immediately after polymerization with a twin-screw extruder, continuously introducing the copolymer as it is molten into a surface-renewal model horizontal reactor, devolatilizing the melt under reduced pressure at a temperature not lower than the melting point and kneading and devolatilizing the polyacetal copolymer discharged from the reactor after adding additives under reduced pressure in an extruder (B).例文帳に追加

重合直後のポリアセタール共重合体を、2軸押出機で溶融させ、溶融状態のまま２軸の表面更新型横型反応機に連続的に導入し、融点以上の温度で減圧脱揮を行い、更にそこから排出されたポリアセタール共重合体を押出機（Ｂ）で添加剤の混練及び減圧脱揮を行う。 - 特許庁

Accordingly, the temperature of the chamber heater 71 and the tank heater 63 can be lowered as the pressure inside the chamber 11 gets lower, so that the organic solvent steam inside the raw gas is prevented from getting bedewed in the chamber 11 and the process tank 1 and the electrical power supplied to the chamber heater 71 and the tank heater 63 can be made necessary minimum.例文帳に追加

したがって、チャンバ１１内の圧力が低下するにつれてチャンバヒータ７１及び槽ヒータ６３の温度を下げてゆくことができるので、処理ガス中の有機溶剤蒸気がチャンバ１１及び処理槽１に結露することを防止しつつも、チャンバヒータ７１及び槽ヒータ６３への供給電力を必要最小限にできる。 - 特許庁

Provided are (i) an alumina nano-hole array manufacturing method anodizing a thin aluminum film formed on a substrate maintained at -80°C or lower temperatures; (ii) preferably, an alumina nano-hole array manufacturing method texturing the mold and the above thin aluminum film while keeping them at 150 to 200°C before the above anodizing process.例文帳に追加

（ｉ）−８０℃以下の基板温度で、基板上に形成されたアルミニウム薄膜を陽極酸化することを特徴とするアルミナナノホールアレーの作製方法、（ｉｉ）より好ましくは、前記陽極酸化工程の前に、さらにモールド及び前記アルミニウム薄膜を１５０〜２００℃の温度に保ちながらテクスチャリング工程を行うことを特徴とするアルミナナノホールアレーの作製方法。 - 特許庁

If there is a noise component within a frequency range higher than a boundary frequency of a lower frequency band, the phase of the processed signal Y is shifted by 180°; amplitude error due to a shifting process is corrected, based on a temporal response coefficient α of the signal and is added to the input processed signal; and the noise component is removed (S4-S8).例文帳に追加

低域側の境界周波数以上の周波数範囲に雑音成分がある場合、処理信号Ｙに対する１８０°の移相処理を行い、その移相処理によって生じる振幅誤差を信号の時間応答係数αに基づいて補正して入力処理信号と加算し、雑音成分を除去する（Ｓ４〜Ｓ８）。 - 特許庁

Since a capacitance insulating film (520) is composed of the dielectric film (521) having a high dielectric constant, and a protective film (522) having an etching rate lower than that of the dielectric film (521), when the capacitance insulating film (520) is patterned by an etching process, the dielectric film (521) is never be excessively etched, and is patterned to a prescribed shape.例文帳に追加

容量絶縁膜（５２０）は、高誘電率を有する誘電体膜（５２１）と、当該誘電体膜（５２１）よりエッチングレートが低い保護膜（５２２）とから構成されているため、容量絶縁膜（５２０）がエッチング処理によってパターニングされた際に、誘電体膜５２１が過剰にエッチングされることがなく、所定の形状にパターニングされる。 - 特許庁

The sequencer 16 variably controls a speed in a process in which the movable board 4 is vertically moved by the servo motor 12, ascends the movable board 4 at a speed L lower than a preset ascending speed H at the ascending of the movable board 4 during the blade mold is released from a material to be cut after the completion of the cutting, and suppress the power consumption.例文帳に追加

シーケンサ１６は、サーボモータ１２により可動盤４が上下動する行程中の速度を可変に制御し、可動盤４の上昇時、可動盤４を、裁断完了後刃型が被裁断材から離脱するまでの間、予め設定された上昇速度Ｈより遅い速度Ｌで上昇させ、消費電力を抑制する。 - 特許庁

A lower layer 14 of a polyurethane elastic cellular material of 2-10 expansion ratio, 200-1000% elongation, and 20-100 kg/mm2 tensile strength is formed by a process in which blowing gas is introduced into a curable mixture of 120 sec or below in curing time comprising an isocyanate component and a polyol component, and the mixture is mixed and ejected on the waterproofing ground 11.例文帳に追加

イソシアネート成分とポリオール成分とを混合した硬化時間が１２０秒以内の硬化性混合物に発泡用ガスを圧入、混合し、これを防水下地１１上に噴射して、発泡倍率２〜１０倍で伸び２００〜１０００％、引張強度２０〜１００ｋｇ／ｍｍ^2のウレタン弾性発泡体の下層１４を形成する。 - 特許庁

If there is noise component in the input processed signal, within a second frequency range lower than the boundary frequency, the phase of the processed signal is shifted by 180°, the processed signal is corrected by a filter, corresponding to the frequency characteristics of the amplitude error due to the shifting process and is added to the input processed signal; and the noise component is removed (S9-S15).例文帳に追加

また、入力処理信号に、境界周波数より低い第２の周波数範囲に雑音成分がある場合、その処理信号に対して１８０°の移相処理した信号を、その移相処理で生じる振幅誤差の周波数特性に対応したフィルタで補正して入力処理信号と加算して雑音成分を除去する（Ｓ９〜Ｓ１５）。 - 特許庁

The method for manufacturing the optical article includes a heat-press step of placing the quartz base 51 and the glass material 52 having a glass transition temperature lower than the α-β phase transition temperature of the quartz base 51 between one mold and the other mold, and heating the molds while fastening to process the glass material 52 into a molded part 53.例文帳に追加

本発明の光学物品の製造方法は、一方の金型と他方の金型との間に水晶基材５１とこの水晶基材５１のα−β相転移温度よりガラス転移温度が低いガラス材５２とを配置するとともに、これらの金型を型締めしながら加熱してガラス材５２を成形部５３に加工する加熱プレス工程を備えることを特徴とする。 - 特許庁

To provide an exhaust gas treatment method and a treatment apparatus therefor enabling long time continuous operation by catalytic treatment at a lower facility cost, running cost and thermal NOx discharge than a direct combustion system, even if gaseous catalyst poison like organic silicone is contained in an exhaust gas when the exhaust gas from a high temperature heat treatment furnace is treated in a carbon fiber manufacturing process.例文帳に追加

炭素繊維製造工程における高温の熱処理炉の排ガス処理において、排ガス中に有機シリコーンなどのガス状の触媒毒が含まれている場合においても、直接燃焼方式よりも低設備費、低ランニングコスト、低サーマルＮＯｘ排出である触媒処理による長時間の連続運転が可能な排ガス処理方法および処理装置を提供する。 - 特許庁

This manufacturing process check label includes a polymer composition composed of a polymer and a dye, wherein the polymer composition has the dye fixed in a specific molecular dispersion state in the polymer, and when kept at a temperature not lower than a specific temperature for a predetermined time, irreversibly changes its color to a hue different from the initial hue thereof.例文帳に追加

本発明の製造工程チェックラベルは、高分子および染料からなるポリマー組成物を含む製造工程チェックラベルであって、前記ポリマー組成物は高分子中に染料が特定の分子分散状態で固定されたものであり、特定温度以上の温度で一定時間以上保持されたときに初期の色相とは異なる色相に非可逆的に変色することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method of producing a TFT-LCD having a tapered cross section of a Mo alloy/Al alloy laminated line and having good coverage for an insulating film by using a wet etching method to process a laminated line of a molybdenum alloy upper layer and an aluminum alloy lower layer into a tapered cross section and then by using a shower type batch etching method to obtain good coverage for an insulating film.例文帳に追加

湿式エッチングを用いて、上層がモリブデン合金，下層がアルミニウム合金の積層配線の断面をテーパ状に加工し、絶縁膜のカバレッジを良好にするシャワー方式による一括エッチングで、Ｍｏ合金／Ａｌ合金積層配線の断面形状をテーパ状に加工し、良好な絶縁膜カバレッジを有するＴＦＴ−ＬＣＤの製造方法を提供する。 - 特許庁

In the process for producing a multilayer wiring board by forming a wiring layer further on a wiring layer having a circuit formed of a wiring layer and an insulating layer, holes are made in an adhesive layer of uncured or semicured thermosetting resin when the wiring layers are laminated, and the adhesive layer is cured by imparting a thermal load after the upper and lower wiring layers are connected through a metal.例文帳に追加

配線層と絶縁層とで回路形成された配線層上に、更に配線層を積層した多層配線基板の製造方法において、該配線層を積層する際に、未硬化または半硬化の熱硬化型の樹脂を接着層とし、該接着層に孔部を形成し上下の配線層を金属により層間接続した後に、熱負荷を付与し該接着層を硬化させる。 - 特許庁

In the decoding process of JPEG2000 encoded data, a detile processing section 111 corrects specific high-pass coefficients in the vicinity of tile boundary by a coefficient correction means 112 in order to suppresses tile boundary distortion produced under impact of mirroring when wavelet conversion is performed sequentially for the wavelet coefficients of each component from upper layer toward lower layer.例文帳に追加

ＪＰＥＧ２０００符号化データの復号の過程において、デタイル処理部１１１は、各コンポーネントのウェーブレット係数に対し、その上位の階層から下位の階層へ向かって順に、ウェーブレット変換の際のミラリングの影響により生じたタイル境界歪みを抑制するためにタイル境界付近の特定のハイパス係数を係数補正手段１１２によって補正する。 - 特許庁

The process for producing a hydrophilic resin comprises melt-kneading pulp fibers equipped with a step of being impregnated with a surface active agent and thereafter being sprayed with a dispersion obtained by dispersing a thermoplastic resin rich in viscosity into water and a thermoplastic resin which comes to a matrix with a hydrophilic resin showing a lower melt viscosity than the thermoplastic resin or the like.例文帳に追加

この発明に係る親水性樹脂の製造方法は、界面活性剤を含浸させた後に、粘性に富む熱可塑性樹脂を水にディスパージョンしたものを吹き付ける工程を備えたパルプ繊維と、マトリックスとする熱可塑性樹脂と、を熱可塑性樹脂よりも低い溶融粘度を呈する親水性樹脂などとともに溶融混練して成ることを特徴とする。 - 特許庁

The high-speed uniformity adjustment system 11 includes an arithmetic unit 21 for executing a process for computing the mass m and fixing phase θ of a balance weight so that a vector value indicated by the sum of a vector of estimated high-speed uniformity and a vector of centrifugal force of the balance weight is reduced lower than the vector value of the estimated high-speed uniformity.例文帳に追加

本発明の高速ユニフォミティ調整システム１１は、推定した高速ユニフォミティのベクトルと、バランスウエイトの遠心力のベクトルとの和で示されるベクトルの大きさが、推定した前記高速ユニフォミティのベクトルの大きさよりも低減するようにバランスウエイトの質量ｍ及び取付け位相θを演算する工程を実行する演算装置２１を備えることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a film forming method and a film forming device, improving film thickness controllability within a range satisfying restrictions to improve process margin, in a film forming step in which it is necessary that an upper limit value and a lower limit value of the film thickness should be within a predetermined range while satisfying wet spreading restriction, in such as a gate insulator film of a TFT substrate for a liquid crystal panel.例文帳に追加

液晶パネル用ＴＦＴ基板におけるゲート絶縁膜のように、濡れ広がりの制約を満足しつつ、膜厚を上限および下限値がある所定の範囲内に収めることが必要な成膜工程において、制約条件を満足する範囲での膜厚制御性を向上させ、プロセスマージンを向上させる膜形成方法および膜形成装置を提供する。 - 特許庁

In the defoaming process, the sealing resin R is mixed up by making a second squeegee 62 and a first squeegee 61 to shift horizontally with the first squeegee 61 kept in a raised state to move the sealing resin R to one side, and subsequently by making the first squeegee 61 to lower and shift horizontally with the second squeegee 62 kept in a raised state to move the sealing resin R to another side.例文帳に追加

脱泡工程では、第１のスキージ６１を上昇させた状態で第２のスキージ６２を第１のスキージ６１と共に水平移動させて封止樹脂Ｒを一側へ寄せた後に、第２のスキージ６２を上昇させた状態で第１のスキージ６１を下降させて水平移動させることで封止樹脂Ｒを他側へ寄せることで、封止樹脂Ｒを練る。 - 特許庁

In a manufacturing method for a photoelectric conversion element, the photoelectric conversion element consists of a laminated structure, including a porous semiconductor fine particle layer, a charge transport layer and an opposite electrode, and the porous semiconductor fine particle layer is manufactured with a process of applying and heating a particle dispersion liquid, wherein the content of an additive excluding semiconductor fine particles and a dispersion solvent is 1 mass% or lower of the dispersion liquid.例文帳に追加

多孔質半導体微粒子層と電荷輸送層および対極を含む積層構造からなり、該多孔質半導体微粒子層が、半導体微粒子と分散溶媒を除く添加剤の含量が分散液の１質量％以下の粒子分散液を塗布し加熱する工程によって製造されることを特徴とする光電変換素子の製造方法。 - 特許庁

In a solar cell module having an electrode leading-out part constituted of conducting members 108a, 108b for introducing electric power from a photovoltaic device to the outside, the conducting members 108a, 108b are constituted of covered wires coated with organic polymer resin having a softening temperature lower than or equal to a heating temperature in the manufacturing process of the solar cell module after the conducting members are fixed.例文帳に追加

光起電力素子から外部に電力を導出するための導電部材１０８ａ，ｂによって構成される電極取り出し部を有する太陽電池モジュールにおいて、導電部材１０８ａ，ｂは、取り付けられた後の太陽電池モジュール製造工程における加熱温度以下の軟化温度をもつ有機高分子樹脂によって被覆された被覆導線により構成する。 - 特許庁

By depositing a MgO protective film entirely on both the upper and lower ends in an orthogonal direction of a display electrode of a rectangular front substrate without depositing the MgO protective film on both ends in an extension direction of the display electrode by a deposition mask, breakage of a glass substrate by thermal stress in a deposition process can be prevented, and cost can be reduced by reducing the number of deposition masks.例文帳に追加

長方形の前面基板の表示電極の延長方向の両端部には蒸着マスクによりＭｇＯ保護膜を蒸着せず，表示電極の直交方向の上下端部にはすべて保護膜を蒸着することで，蒸着工程でのガラス基板の熱ストレスによる割れを回避でき，また，蒸着マスクの数を減らしてコストダウンをはかることができる。 - 特許庁

The multiplex method of nucleic acid amplification by a PCR amplification process includes using primers each 32 bases or more in length, making an annealing at a temperature lower than the respective Tms of the primers, and conducting an extension reaction for 1-10 min, i.e. annealing/extension reaction for a long period of time enough to accomplish the aimed uniform nucleic acid amplification by the respective primers.例文帳に追加

長さが３２塩基以上のプライマーを使用することと、前記プライマーのTm値よりも低い温度でアニーリングさせることと、1分〜１０分間の長時間伸長反応を行い、各プライマーによる均一な増幅が行なわれるのに十分な時間でもってアニーリング・伸長反応を行うこととを特徴とするＰＣＲ増幅方法による、マルチプレックスな核酸増幅方法。 - 特許庁

In one aspect, there is disclosed a process of forming a hydrogen material including the steps of providing a metal hydride material, providing a Bronsted acid material, combining the metal hydride material and Bronsted acid material, and pyrolyzing the combined material forming a hydrogen storage material having a hydrogen release temperature lower than the metal hydride material.例文帳に追加

１つの態様において、金属水素化物材料を提供すること、ブレンステッド酸材料を提供すること、金属水素化物材料とブレンステッド酸材料を組み合わせること、及び組み合わせた材料を熱分解し、水素放出温度が金属水素化物材料より低い水素貯蔵材料を製造することを含む、水素材料の製造方法を開示する。 - 特許庁

The process system is equipped with a reaction pipe 1 where a lower hydrocarbon is introduced and decomposed by a catalyst into hydrogen and carbon and the produced hydrogen and a residual gas are taken out, a heating means 13 to heat the reaction pipe by using hydrogen as a combustion gas, a supply passage 11 to supply the produced hydrogen into the heating means, and a flow controller 12 disposed in the supply passage.例文帳に追加

低級炭化水素を導入して、触媒によって水素と炭素に分解反応させ、生成された水素および残ガスを取り出す反応管１と、水素を燃焼ガスとして前記反応管を加熱する加熱手段１３と、前記生成水素を前記加熱手段に供給する供給路１１と、前記供給路に設けられた流量調整器１２とを備える。 - 特許庁

To provide a chemical vapor deposition process which includes: vaporizing a metal chloride starting material, and then allowing the vaporized metal chloride starting material to react with a reducing gas containing hydrogen to deposit ceramics on an object, in which a lower metal chloride which has been discarded as a byproduct so far is recovered and returned to the original metal chloride so as to be re-utilized.例文帳に追加

金属塩化物原料を気化させた後、該気化した金属塩化物原料と、水素を含む還元ガスとを反応させて、対象物上にセラミックスを析出させる化学気相析出プロセスにおいて、従来副生物として廃棄されていた低級金属塩化物を回収し、これをもとの金属塩化物に戻して再利用できる化学気相析出プロセスを提供する。 - 特許庁