「lower process」に関連した英語例文の一覧と使い方(37ページ目) - Weblio英語例文検索

In the process of supplying a tetraalkylammonium hydroxide waste liquid to a falling thin film evaporator to concentrate, the thickness (T_1) of the liquid film at the lower end of the heating face of the falling thin film evaporator is controlled to 0.1 to 1.2 mm so as to prevent foaming on the heating face and to prevent accumulation of air bubbles.例文帳に追加

水酸化テトラアルキルアンモニウム廃液を流下式薄膜蒸発器に供給して濃縮するに際し、該流下式薄膜蒸発器の加熱面の下端における液膜の厚み（Ｔ_１）を０．１〜１．２ｍｍに調整することにより、該加熱面における発泡を防止し、これに伴う気泡の蓄積を防止する。 - 特許庁

On a transparent insulating substrate 1, a titanium film as a lower layer 2a, an aluminum film as a middle layer 2b and a nitrogen containing titanium film as an upper layer 2c are laminated by a sputtering process by 30 nm, 100 nm, 50 nm respectively in this order and a gate electrode and gate signal line 2 are formed by a photolithography-dry etching technique.例文帳に追加

透明絶縁性基板１上にスバッタ法を用いて下層２ａにチタニウム膜、中間層２ｂにアルミニウム膜、上層２ｃに窒素を含有したチタニウム膜を順にそれぞれ３０ｎｍ、１００ｍｍ、５０ｎｍ積層し、フォトリソ・ドライエッチ技術を用いて、ゲート電極及びゲート信号線２を形成した。 - 特許庁

The cool-down step is a process wherein Ar gas of the flow rate of 400-800 sccm is introduced into the plasma etching device for 80 seconds or more, and the pressure in the etching device is made at 200-300 mTorr, and high-frequency voltage of 150 W or less is applied to an upper electrode and a lower electrode, respectively.例文帳に追加

クールダウンステップは、プラズマエッチング装置内に４００sccm以上８００sccm以下の流量のＡｒガスを８０秒間以上導入し、エッチング装置内の圧力を２００ｍTorr以上３００ｍTorr以下にし、上部電極及び下部電極それぞれに１５０Ｗ以下の高周波電圧を印加する工程である。 - 特許庁

To improve product yield and quality of a liquid-crystal display panel by, related to a method for manufacturing a liquid-crystal display panel, decreasing the number of processes, especially for exposure process, for improved productivity and lower manufacturing cost while occurrence of transistor defect related to an etching stopper part is suppressed.例文帳に追加

本発明の液晶ディスプレイパネルの製造方法は、第１に、工程数、特に露光工程数を低減することにより、生産性を向上させ、以て製造コストを下げることにあり、第２に、エッチングストッパー部に関連するトランジスタ不良の発生を抑え、液晶ディスプレイパネルの製品歩留り及び品質の向上を図ることにある。 - 特許庁

To provide a capacitor which minimizes the generation of such as polymer or conductive residue in a manufacturing process of an MIM (Metal-Insulator-Metal) capacitor, whereby, prevents a short circuit between an upper electrode and lower electrode or with neighboring conductive layers (wiring), and can improve the leakage of current and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

ＭＩＭキャパシタの製造工程時においてポリマーや導電性残留物の発生を最小化し、これにより、上部電極と下部電極との間または隣り合う導電層（配線）との短絡を防止し、リーク電流を改善させることができるキャパシタ及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a mold structure for a door trim capable of molding the upper part, ornament part and lower part of the door trim by one process wherein respective skin materials are thermally fusion-bonded to a predetermined resin substrate without damaging and wrinkling the skin materials and applying damage or defectiveness to the resin substrate, and its molding method.例文帳に追加

本発明は、ドアトリムにおいて、各表皮材が所定の樹脂基材に熱溶着され、表皮材に損傷やしわが生じたり、樹脂基材に損傷や不良を与えることなく、アッパー部、オーナメント部、ロアー部を一工程で成形することができる金型構造とその成形方法を提案する。 - 特許庁

To improve productivity and to lower cost by eliminating or suppressing to an irreducible necessity extent an aligning process of adjusting the eccentricity between a plurality of lenses when the plurality of lenses are assembled in a lens frame in order to miniaturized a zoom lens barrel being a variable focus device and give high power to the barrel.例文帳に追加

可変焦点装置としてのズームレンズ鏡胴を小型化、高倍率化するために、レンズ枠に対して複数のレンズを組み付ける際におけるレンズ間の偏芯を調整する調芯工程をなくするか、或いは必要最小限に抑えることによって、生産性の向上、コストダウンを図ることができる。 - 特許庁

To provide a sheathing material mounting structure which facilitates positioning of sheathing materials in a horizontal direction when a lower corner portion of each sheathing material is fixed in the process of mounting the sheathing materials on a substrate of a building in a staggered manner, and prevents locational deviation of the sheathing material in the horizontal direction.例文帳に追加

外装材を建物の下地材に千鳥状に取り付けて敷設する場合に、各外装材の下側の隅部を固定する際に外装材の横方向位置の位置合わせを容易に行うと共にこの外装材の横方向位置の位置ずれの発生を防止することができる外装材の取付構造を提供する。 - 特許庁

To increase the holding strength of upper and lower glasses and obtain high watertightness particularly, sticking glass onto the whole surface of the wall surface of a building without using an opening frame such as a sash, to drain condensation liquid water on the inside to the outside, to easily improve the accuracy of manufacture for such a process and to enhance finished appearance.例文帳に追加

サッシのような開口枠を使うことなくビルの壁面の全面にガラスを貼りながら、特に、上下のガラスの保持強度を高め、高い水密性を得ることができ、更に、内部の結露水を外部に排水することができ、このようにするための製作精度を容易に高め、しかも、仕上り外観を高める。 - 特許庁

The method for manufacturing the element includes a process, in which a plurality of ferroelectric capacitors are formed on the semiconductor substrate on which the lower-part interlayer film has been formed, and after the hydrogen preventing spacer is formed on the side wall of the ferroelectric capacitor, the upper-part interlayer film and a plurality of plate lines are formed on the resultant structure.例文帳に追加

この素子の製造方法は下部層間絶縁膜が形成された半導体基板上に複数の強誘電体キャパシタを形成し、強誘電体キャパシタの側壁に水素防止スペーサを形成した後に、その結果物上に上部層間絶縁膜及び複数のプレートラインを形成する段階を含む。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition which gives a resist pattern having high sensitivity and high resolution as ≤0.15 μm and having a square cross section in the production of a semiconductor device and to provide a positive photoresist composition showing small dimensional shift when a pattern is transferred to a lower layer in an oxygen plasma etching process of a two-layer resist method.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において高感度且つ0.15μｍ以下の高解像力を有し、矩形形状を有するレジストパターンを与えるポジ型フォトレジスト組成物、２層レジスト法において酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写の際に寸法シフトが小さいポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

A primary opening area 11a where many through-holes are formed at a primary numerical aperture with high aperture ratio, and a secondary opening area 11b where many through-holes are formed at a secondary numerical aperture with an aperture ratio lower than the primary one are formed alternately in layers on a thin material (opening area forming process).例文帳に追加

薄肉の素材に、開口率の高い第一の開口率で多数の貫通孔が形成された第一開口部１１ａと、第一の開口率よりも開口率の低い第二の開口率で多数の貫通孔が形成された第二開口部１１ｂを交互に層状に形成する（開口形成工程）。 - 特許庁

The gate wiring layer (electrode film) of each transistor formed in the CMOS process is doubled and, in a pixel Tr in the vicinity of a PD 219, the gate electrodes of a transfer Tr 211 and a reset Tr 214 are formed by using the lower gate electrode film and the upper gate electrode film is utilized for the light shielding film of the FD 216.例文帳に追加

ＣＭＯＳプロセスで形成される各トランジスタのゲート配線層（電極膜）を２層化し、ＰＤ２１９の周辺の画素Ｔｒでは、転送Ｔｒ２１１とリセットＴｒ２１４のゲート電極を下層のゲート電極膜を用いて形成し、上層のゲート電極膜をＦＤ２１６の遮光膜に利用する。 - 特許庁

In the process for manufacturing the highly crystalline metal powder, a material powder obtained by roasting a metal carboxylate powder at 100-500°C is dispersed in a gas phase and heat-treated at a temperature equal to or higher than 600°C but lower than a melting point of the metal to form the metal powder.例文帳に追加

金属カルボン酸塩粉末を１００℃〜５００℃で焙焼して得た原料粉末を、気相中に分散させた状態で、６００℃以上かつ該金属の融点より低い温度で加熱処理することにより金属粉末を生成させることを特徴とする高結晶性金属粉末の製造方法。 - 特許庁

On the other hand, a performance regulation means 174 acquires information about an operation time interval from the weak pressing condition to the strong pressing condition in the operation game process and regulates an original operation game performance when the operation time interval is a prescribed value or lower and it is assumed that the operating button 95 will be hit.例文帳に追加

一方、演出規制手段１７４は、この操作遊技処理の過程で弱押し状態から強押し状態に到る操作時間間隔の情報を取得し、その操作時間間隔が所定値以下であり操作ボタン９５の殴打が想定される場合には、本来の操作遊技演出を規制する。 - 特許庁

The ultrasonic welding horn is equipped with a first pointed projection 12 and second projections 16 and 18 which are lower than the first projection 12 and provided so as to surround the first projection 12, and a method of manufacturing the electrolytic capacitor comprises a process of bonding the terminal rivet 34 to the tab 36 by ultrasonic welding.例文帳に追加

係る電解コンデンサ用超音波溶接ホーンは、尖鋭部を持つ第１の突部１２と、この第１の突部を包囲して形成され、第１の突部より高さの低い第２の突部１６、１８とを備えたものであり、電解コンデンサの製造方法は、係るホーンを用いてターミナルリベットとタブとの超音波溶接を行う。 - 特許庁

In a process for mounting the semiconductor chip 10 on the substrate 30, the ball bump 20 is heated to a temperature which is lower than the melting point of the solder layer 36, and brought into contact with the electric connection part 32, and the ball bump 20 and the electric connection part 32 are heated to a temperature which is higher than the fusing point of the solder layer 36.例文帳に追加

半導体チップ１０を基板３０に搭載する工程では、ボールバンプ２０をはんだ層３６の融点よりも低い温度に加熱して電気的接続部３２に接触させた後に、ボールバンプ２０及び電気的接続部３２をはんだ層３６の融点よりも高い温度に加熱する。 - 特許庁

The delivery speed of the abrasive grains necessary for EEM process is obtained by mixing mother grains a grain diameter of which is larger than that of the abrasive grains in polishing liquid and pushing the abrasive grains carried at the lower flow velocity in the neighborhood of the surface of the work piece by the mother grains carried at the higher flow velocity in the neighborhood of a polishing tool.例文帳に追加

砥粒より粒径の大きな母粒子を研磨液中に混在させ、研磨工具近傍の大きな流速で搬送される母粒子が被加工物表面近傍の小さな流速で搬送されている砥粒を押すことにより、ＥＥＭ加工に必要な砥粒の搬送速度を得る。 - 特許庁

To provide a treatment apparatus of a coating exhaust gas containing a coating material mist which can lower the contents of an organic solvent and other harmful components by carrying out primary treatment in a coating booth in coating process and then removing the coating material and solvent mist from the coating exhaust gas.例文帳に追加

塗料ミストを含有する塗装排気の処理装置に関し、塗装工程において塗装ブース内で一次処理を施した後、排出される塗装排気中の塗料や溶剤のミストを除去し、有機溶剤その他の有害成分の含有量や臭気を低減することが可能な処理装置を提供する。 - 特許庁

In an approximate quotient calculation process (S10), for an approximate quotient to a true quotient, when dividing a first integer (A) by a second integer (N), a value of lower bits for a predetermined bit number based on relation between a true quotient and an approximate quotient is computed, by using the quotient when dividing a power of 2 by the second integer.例文帳に追加

近似商算出処理（Ｓ１０）において、第１整数（Ａ）を第２整数（Ｎ）で割った場合の真の商に対する近似の商について、２のべき乗を第２整数で割った場合の商を用いて、真の商および近似の商の関係に基づく所定のビット数分の下位ビットの値が算出される。 - 特許庁

In its process, when the voltage of the charging power supply 2 becomes lower than a predetermined range, the controller 13 determines that the voltage reaches the rating of the charging power supply 2, and charges the battery 12 while controlling a switch part 18 so as not to exceed a supply power capacity of the charging power supply 2.例文帳に追加

その過程で、充電用電源２の電圧が所定の範囲を越えて低くなった場合、制御装置１３は、充電用電源２の定格に達したと判定して、当該充電用電源２の供給電力能力を越えないようにスイッチ部１８を制御しつつ電池１２の充電を実行する。 - 特許庁

To increase a gate potential difference at least in a part of transistors 20, 24, 26 and 30 in the cross coupling type sensing circuit 48, the multistage pull-down circuit 50 accelerates the latching process of the cross coupling type sensing circuit 48 by quickly pulling the same to a ground potential or lower.例文帳に追加

多段のプルダウン回路５０は、交差結合型感知回路４８内のトランジスタ２０、２４、２６及び３０の少なくとも一部におけるゲート電位差を高めるため、交差結合型感知回路４８をグラウンド以下の電位へと迅速に引くことにより、交差結合型感知回路４８のラッチのプロセスを加速する。 - 特許庁

To prevent an operation failure of a piezoelectric actuator 21 resulting from void parts 22b, 23b and 24b generated to a piezoelectric layer 23, etc., in a thin film formation process when the piezoelectric layer 23, an upper electrode layer 24 and a lower electrode layer 22 of the piezoelectric actuator 21 are formed into a thin film to make an ink jet head H small.例文帳に追加

圧電アクチュエータ２１の圧電層２３、上部電極層２４及び下部電極層２２を薄膜化してインクジェットヘッドＨを小型化する場合に、その薄膜形成過程で圧電層２３等に生じる空乏部２２ｂ，２３ｂ，２４ｂに起因する圧電アクチュエータ２１の作動不良の発生を、簡単な方法で防止する。 - 特許庁

Thus, in the valve closing process in which the needle 51 closes the injection hole 23, fuel pressure is supplied from a common accumulator 2 to a fuel sump 52 and an injection control chamber 3 so that pressure for supplying fuel to the fuel sump 52 is lower than that to the injection control chamber 3.例文帳に追加

これにより、ニードル５１が噴孔２３を閉じる閉弁行程においては、燃料溜り５２への燃料の供給圧力が噴射制御室３への燃料の供給圧力より低くなるように、共通蓄圧室２から燃料溜り５２及び噴射制御室３へ燃料の圧力が供給される。 - 特許庁

Thus, acceleration time injection quantity annealing switch upper and lower limit reference values QRLAMAX and QRLAMIN are set in the vicinity of a proper acceleration time injection annealing switch central reference value QRLA set as described above (S360 and S370) and a process to decrease the increase speed of a fuel injection quantity is executed therebetween.例文帳に追加

したがってこのように設定された適切な加速時噴射量なまし切替中央基準値ＱＲＬＡの近傍に、加速時噴射量なまし切替上下限基準値ＱＲＬＡＭＡＸ，ＱＲＬＡＭＩＮを設定して（Ｓ３６０，Ｓ３７０）、これらの間で、燃料噴射量の増加速度を鈍化させる処理を行うことができる。 - 特許庁

To provide a water-containing cutting fluid composition which is excellent in surface accuracy after processing and in detergency in a cutting process of a brittle material by adjusting its viscosity and surface tension to values lower than those of conventional ones, and to provide an industrially useful method for producing a water-containing cutting fluid having such properties.例文帳に追加

本発明は脆性材料の切削工程において、従来品より低粘度かつ表面張力を低く調整することで加工後の表面精度と洗浄性に優れた含水切削液組成物；並びにこのような特性を有する含水切削液の工業的に有益な製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To overcome a substantial problem in quality control in a manufacturing process for a heat shrinking cylindrical label of polyolefin-type film of its specific gravity lower than 1 having sealed at its central part with adhesive in which setting of the adhesive takes much time even if some broken or crushed segments of the label and PET bottle can be separated with water when the PET bottle is recycled.例文帳に追加

比重が１未満のポリオレフィン系フィルムを接着剤でセンターシールした熱収縮性筒状ラベルは、ＰＥＴボトル再生に際し、ラベルとＰＥＴボトルの粉砕体を比重分離機で水で分離できるが、接着剤の硬化に時間がかかるので、生産工程において品質管理上大きな問題である。 - 特許庁

The molding device constituted by interposing a metallic layer 3 consisting of metal having a melting point lower than the melting point of the resin 7 for molding substrates between the opposite surfaces of the metal mold 10 and the stamper 1 arranged in the prescribed position within the metal mold 10 for transferring ruggedness to the optical disk substrate is used in a molding process step for the optical disks.例文帳に追加

光ディスクの成形工程において、金型１０と、光ディスク基板に凹凸を転写するために金型１０内の所定位置に配置されたスタンパ１との対向面間に、基板成形用樹脂７の融点より低融点の金属からなる金属層３を介在させた成形装置を用いる。 - 特許庁

By controlling the time period, from the time after phosphorous doping process to the time, a silicon nitride film to be an oxidization prevention film is formed, the phosphorous concentration in the silicon film having the granular crystal is prevented from diffusing outwardly, and the amount of lowering of the phosphorous concentration is suppressed, so that a rate of depletioning in the lower part electrode of the capacitor is controlled.例文帳に追加

リンドープ処理後から酸化防止膜になるシリコン窒化膜を形成するまでの時間を制御することにより、粒状結晶を有するシリコン膜中のリン濃度の外方拡散を防ぎ、リン濃度の減少量を抑制するので、キャパシタ下部電極の空乏化率を制御することができる。 - 特許庁

To provide a photosensitive glass paste composition that gives a glass sintered compact having a high aspect ratio and excellence in shape uniformity, that is capable of perfectly decomposing and removing a binding resin by the calcining treatment conducted at a relatively low temperature condition (600°C or lower) and that is capable of forming a glass sintered compact by the simple process.例文帳に追加

高アスペクト比で形状均一性の優れるガラス焼結体が得られ、比較的低温条件（６００℃以下）で行われる焼成処理によって結着樹脂を完全に分解除去することができ、シンプルなプロセスでガラス焼結体を形成できる感光性ガラスペースト組成物を提供すること。 - 特許庁

The manufacturing method of a membrane electrode assembly is constituted of an aromatic hydrocarbon group polymer electrolyte membrane, and anode and a cathode includes a process in which the anode and/or the cathode are made to contact with a solution containing an organic solvent, with a boiling point 70°C or higher under atmospheric pressure, and an acid in a temperature 70°C or higher and lower than the boiling point of the organic solvent.例文帳に追加

芳香族炭化水素系高分子電解質膜とアノードとカソードからなる膜電極複合体の製造方法であって、アノードおよび／またはカソードを、大気圧の沸点が７０℃以上の有機溶媒と酸を含む溶液に、７０℃以上、該有機溶媒の沸点以下の温度で接触させることで解決できる。 - 特許庁

The process for preparing a polyvinyl alcohol-based foam comprises freeze-gelling an aqueous solution which contains polyvinyl alcohol and a blowing agent and is free from a metal powder for sintering and a ceramic powder for sintering to obtain a gelled product, thereafter unfreezing this freeze-gelled product, and expanding the gelled product maintaining the gelled state even after unfreezing at a temperature of lower than the dissolving temperature of the polyvinyl alcohol.例文帳に追加

ポリビニルアルコール、発泡剤を含み、焼結される金属粉末、焼結されるセラミックス粉末を含まない水溶液を凍結ゲル化し、ゲル化物を得た後、この凍結ゲル化物を解凍し、解凍した後もゲル化状態を維持するゲル化物を該ポリビニルアルコールの溶解温度未満の温度で発泡させる。 - 特許庁

To provide a rubber composition for a tire, which effectively deodorizes odor of aldehydes developed in a compounding process, also excels in workability and environmental sanitation and is suitable for a bead filler of a tire having higher elasticity and lower heat-buildup than ever before, a reinforcement rubber for the side of a run-flat tire, etc., and to provide a pneumatic tire using the composition.例文帳に追加

配合工程において発生するアルデヒド類を効果的に消臭すると共に、作業性及び環境衛生上にも優れ、従来より更に高弾性かつ低発熱性を持つタイヤのビードフィラーやランフラットタイヤ用サイド補強ゴム等に好適なタイヤ用ゴム組成物及びそれを用いた空気入りタイヤを提供する。 - 特許庁

The method of producing the preform comprises drooping a molten glass flowing out of a nozzle 2 from the lower end thereof, dropping the drooping molten glass at a constant frequency in such a state that at least the circumference of the above drooping glass is covered by a cover 5 to obtain a molten glass drop, and forming the drop into the preform in a cooling process.例文帳に追加

ノズル２から流出する熔融ガラスをノズル下端に垂下させ、少なくともノズル下端に垂下する熔融ガラスの周囲をカバー５で覆った状態で、一定周期で垂下した熔融ガラスを落下させて熔融ガラス滴を得、熔融ガラス滴が冷却する過程でプリフォームに成形する。 - 特許庁

The positioning in the first direction (back and forth) is carried out by slidingly contact of the slope 34 of the middle wall 30 on a slope 32 of the first panel side positioning part 31 in the in the process where the air bag door 20 is brought close from the inflation direction rear side of the airbag (lower side) to opening 18 of the base material 12.例文帳に追加

エアバッグドア２０が、エアバッグの膨張方向後側（下側）から基材１２の開口部１８に近づけられる過程で、中間壁部３０の傾斜面３４が、第１パネル側位置決め部３１の傾斜面３２上を摺接されることにより、第１方向（前後方向）についての位置決めが行なわれる。 - 特許庁

Therefore, air for cooling from a suction fan 61 flows while being branched in four directions between the upside of the fixer 35 and the first auxiliary plate 57 (direction A), on the side of the lower surface of the first auxiliary plate 57 (direction B), on the side of the top end of the process cartridge 21 (direction C) and on the side of the power source part 73 (direction D).例文帳に追加

従って、吸気ファン６１からの冷却用空気は、定着器３５の上方と第１補助プレート５７との間（Ａ方向）と、第１補助プレート５７の下面側（Ｂ方向）と、プロセスカートリッジ２１の先端側（Ｃ方向）と、電源部７３側（Ｄ方向）の４方向に分かれて分流する。 - 特許庁

To provide a lead frame for power LED in which assembling work of components is not required, the occurrence rate of defective products is lower and manufacturing cost is relatively low, and to provide a manufacturing process of a lead frame for power LED in which assembling work of components is not required, the occurrence rate of defective products is low, manufacturing cost is relatively low and processing speed is high.例文帳に追加

部品の組立てが不要で、不良品発生率が低く、比較的低コストのパワーＬＥＤ用リードフレームを提供するとともに、部品の組立てが不要で、不良品発生率が低く、比較的低コストであり、加工スピードが高いパワーＬＥＤ用リードフレームの製造方法を提供する。 - 特許庁

This control device 10 of the rotary cutter electrically controls the rotation of a rotary cutter 2 for the upper blade and a rotary cutter 3 for the lower blade, not mechanically, so that a difference between a master angle θ1 and a slave angle θ2 agrees with a clearance Δθ set by a clearance setting device 30 in the process of cutting by the rotary cutter 1.例文帳に追加

制御装置１０は、ロータリーカッタ１による切断処理中において、マスタ角度θ１とスレーブ角度θ２と間の差がクリアランス設定器３０により設定されたクリアランスΔθに一致するように、機械的ではなく電気的に上刃用ロータリーカッタ２及び下刃用ロータリーカッタ３を回転制御する。 - 特許庁

The manufacturing method of the organic EL display device 100 is provided with an organic layer deposition process in which a mask 200 is fitted on the substrate 110 through a plurality of mask spacers 123 arranged on the substrate 110, and an organic layer 124 is formed at a predetermined part of the surface of the substrate 100 by deposition from a lower part of the substrate 110.例文帳に追加

有機ＥＬ表示装置１００の製造方法は、基板１１０上に、該基板１１０上に配設された複数のマスクスペーサ１２３を介してマスク２００を設け、該基板１１０下方からの蒸着により該基板１１０表面の所定部分に有機層１２４を形成する有機層蒸着工程を備えている。 - 特許庁

Because the pressure of the air flowing into the lower compartment 14 does not concentrate on the sides of the casing 2, tilting of the casing 2 can be prevented and the subject to be processed can be approximately uniformly distributed over the entire perforated plate 7, whereby the efficiency of the process of drying or cooling the subject can be enhanced.例文帳に追加

下室１４内に流入する空気の圧力がケーシング２の側面部に集中することはないので、ケーシング２が傾くのを防止でき、処理物を多孔板７上の全体にほぼ均一に分布させることができ、処理物の乾燥又は冷却処理効率を高めることが可能となる。 - 特許庁

To solve the problem wherein dust infiltrates the lower frame of a fold type portable telephone from the outside through a slit that is used only for passing FPC cable on assembling in an open state, this needs components for dust-proof measures in the prior art, and hence this is disadvantageous in cost and manufacturing process.例文帳に追加

折畳み型携帯電話機では、組立時にＦＰＣケーブルを通すためだけに用いられるスリットを通して開状態では外部から塵埃が下側筐体部の内部に侵入するため、従来は防塵対策のための部品が必要であり、コスト的にも製造工程上でも不具合である - 特許庁

To provide a sense circuit for DRAM memory cells that deals with the problems that as the source-supply voltage is lowered more and more, the sense time becomes considerably longer, that the sense time for lower voltage is shorter at high temperature, that the sense time greatly varies with process variation, etc.例文帳に追加

本願発明の課題は、電源電圧が低電圧化されるに従いセンス時間が著しく遅くなる、低電圧でのセンス時間が高温で高速になり、さらにプロセスばらつきに対してセンス時間が大きく変化してしまうこと等に対応したＤＲＡＭメモリセル用のセンス回路を提供することにある。 - 特許庁

During the formation process of the capacitive element C for storing information, collapse of the storage electrode 23a can also be protected by making the device into a configuration, in which the lower side of the storage electrode 23a of the capacitive element C for storing information is supported by an interlayer insulating film 11h1 and insulating films 21a and 21b.例文帳に追加

また、情報蓄積用容量素子Ｃの形成工程中において、情報蓄積用容量素子Ｃの蓄積電極２３ａの下部を層間絶縁膜１１ｈ1および絶縁膜２１ａ，２１ｂで支える構成にすることにより、蓄積電極２３ａの倒壊を防止することができる。 - 特許庁

In the method for manufacturing the radiation image conversion panel that includes a process where a phosphor layer is formed by evaporating a substance generated through the application of heat to phosphors or an evaporation source containing a material of the phosphors onto a substrate, the evaporation is carried out in an atmosphere whose moisture partial pressure is 7.0×10^-3 Pa or lower.例文帳に追加

蛍光体もしくはその原料を含む蒸発源を加熱して発生する物質を基板上に蒸着させることにより蛍光体層を形成する工程を含む放射線像変換パネルの製造方法において、蒸着を、水分圧が７．０×１０^-3Ｐａ以下の雰囲気中でを行う。 - 特許庁

After a welding strain is removed by heat-treating a lower end plate 3 of the vessel barrel 1 after the final welding, a pump motor casing 7 and the like are welded onto the end plate 3, and the end plate 3 is welded thereafter onto a barrel main body 2 manufactured in parallel to a manufacturing process for the end plate 3 to conduct local heat-treatment.例文帳に追加

容器胴１の下部鏡板３に対して最終溶接後熱処理を施して溶接歪みを除去した後、この下部鏡板３にポンプモータケーシング７等を溶接し、その後、この下部鏡板３の製作工程と並行して製作された胴本体２にこの下部鏡板３とを溶接して局部熱処理を施す。 - 特許庁