「lower process」に関連した英語例文の一覧と使い方(35ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an electrifying device of a non-contact electrification system which can make the gap between an electrifying member and a member to be electrified more stably maintained and can be achieved at a lower cost with ease, and to provide a process cartridge and an image forming apparatus which have the electrifying device.例文帳に追加

帯電部材と被帯電部材との間隙を更に安定して保持させることができると共に、より安価にかつ容易に達成することができる非接触帯電方式の帯電装置、この帯電装置を有するプロセスカートリッジ、及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

A sound image due to the auxiliary signal is positioned previously, and change in the positional sensing of the sound image felt by a listener can be reduced, even if the monitoring position is deviated, by conducting delaying process to the first and second main signals and then limiting bandwidth of the auxiliary signal to a lower band.例文帳に追加

第１および第２の主信号に対し遅延処理をし、補助信号の帯域を低帯域に制限することで、補助信号による音像が先に定位し、聴取位置がずれても聴取者が感じる音像の定位感の変化を少なくすることができる。 - 特許庁

To manufacture in a process simpler than that for a conventional horizontal trench power MOSFET breakdown voltage of up to 80 V, while a device pitch is smaller and on resistance per unit area is smaller compared with the conventional horizontal trench power MOSFET having the breakdown voltage lower than 80 V.例文帳に追加

従来の耐圧８０Ｖ用の横型トレンチパワーＭＯＳＦＥＴよりも簡素なプロセス工程で製造可能であり、かつ従来の８０Ｖよりも低い耐圧用の横型パワーＭＯＳＦＥＴよりもデバイスピッチが小さくて単位面積当たりのオン抵抗が小さいこと。 - 特許庁

Accordingly, the layer similar to the SiC film formed on the surface of the SiN film 8 can be removed in the etching process of the second BPSG film 9 as the upper layer and the SiN film 8 and the first BPSG film 7 as the lower layer thereof can be etched without any residue.例文帳に追加

これにより、上層の第２のＢＰＳＧ膜９のエッチング工程でＳｉＮ膜８の表面部に形成されたＳｉＣ膜類似層を除去することが可能になり、ＳｉＮ膜８およびその下層の第１のＢＰＳＧ膜７を残渣なくエッチングすることが可能になった。 - 特許庁

With the upper cover 15 in the state of being mounted on the plate 2, air is evacuated through the upper suction duct 21 and lower suction duct 31 to hold the inside of the process space 12 in a pressure reduced state, thereby accelerating the vaporization of solvents from the resist solution on the substrate W.例文帳に追加

上部カバー１５をプレート２上に載置した状態で上部吸引管路２１および下部吸引管路３１を通して排気することにより処理空間１２内を減圧状態に保持し、基板Ｗ上のレジスト液中からの溶媒の蒸発を促進させる。 - 特許庁

A carrier having a lower electric resistance and a larger charge amount than carrier in a start developer is used as carrier in a two-component developer used for replenishment in the trickle developing process, and a toner having a smaller particle diameter than toner in the start developer is used as toner in the two-component developer.例文帳に追加

トリクル現像法において補給用として使用する２成分現像剤のうちキャリヤとして、スタート現像剤中のキャリヤよりも電気抵抗値が低く、かつ帯電量が大きいキャリヤを使用するとともに、トナーとして、上記スタート現像剤中のトナーよりも小粒径のトナーを用いる。 - 特許庁

In a process for forming a cylindrical formed body by pressing magnetic powder P in a die cavity C by means of an upper punch 14 while applying the magnetic field to the magnetic powder P by means of a lower coil 15 and an upper coil 16, the upper coil 16 is brought into contact with the upper surface 11b of a mortar-shaped mold 11.例文帳に追加

下部コイル１５および上部コイル１６によって磁場を印加しつつ、上パンチ１４で金型キャビティＣ内の磁石粉Ｐを加圧することで円筒状の成形体を成形する過程において、上部コイル１６を臼型１１の上面１１ｂに当接させる。 - 特許庁

The existence of this community means rigorous standards of selection and consequent stiff competitive pressure placed on companies, but it has also served to link the various modules in the production process, and individuals looking to set up their own businesses have been able to lower the start-up hurdles by using this network.例文帳に追加

こうしたコミュニティの存在は、厳しい選別の目を光らせることで企業に競争圧力を強いたが、一方で分散化したモジュール同士をつなぐ役割も果たしており、起業を志す者はこうしたネットワークを利用することにより創業へのハードルを下げることができた。 - 経済産業省

The method for manufacturing the radiographic image conversion panel, which includes a process of forming a stimulable phosphor layer through a gas-phase layup of stimulable phosphors on the substrate, by using a vapor flow from a vaporization source has a process of heating and retaining the vaporization source at its melting point or lower for a fixed period of time just before the vaporization source is vaporized in an inert gas atmosphere.例文帳に追加

蒸発源からの蒸気流を用いて基板に輝尽性蛍光体を気相堆積させ、輝尽性蛍光体層を形成する工程を含む放射線画像変換パネルの製造方法において、不活性ガス雰囲気下で蒸発源を蒸発させる直前に、蒸発源を融点以下で一定時間加熱保持する工程を有することを特徴とする放射線画像変換パネルの製造方法。 - 特許庁

A stapler driving method includes the first process in which first power is supplied toward a motor which is the driving source of the stapling operation, before a point of time of a specified operation spot included in a stapling operation, and after the point of time of the operation spot, second power lower than the first power is supplied toward the motor, and a second process for braking the motor after the time of the operation spot.例文帳に追加

ステープル動作に含まれた特定の動作箇所の時点より前の時点では、ステープル動作の駆動源であるモータに向けて、第１の電力を供給させ、その動作箇所の時点より後の時点では、そのモータに向けて、その第１の電力よりも低い第２の電力を供給させる第１過程と、上記動作箇所の時点の後に上記モータに対し制動を掛ける第２過程とを有する。 - 特許庁

To provide a method for removing a standing wave caused by the variation of ArF light and the thickness of photoresist by preventing the reflection from a lower film layer in the process for forming an ultrafine pattern using a lithographic photoresist in the production process of a semiconductor element, an antireflection composition containing the organic antireflection polymer, an antireflection film produced by using the composition and a method for forming the antireflection film.例文帳に追加

半導体素子の製造工程中におけるリソグラフィー用フォトレジストを使用する超微細パターンの形成工程において、下部膜層の反射を防止してＡｒＦ光およびフォトレジスト自体の厚さの変化によって生じる定在波の除去法および、このような有機反射防止重合体を含む反射防止用の組成物、これを利用した反射防止膜およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

When only a thermal process in an oxidizing atmosphere is performed with a film which is formed by sputtering a ferroelectrics film, the magnetic field applied to a target is set to 270 Gausses or higher, and when thermal process in an inert atmosphere and that in the oxidizing atmosphere are performed with the formed film, the magnetic field applied to the target is set to 349 Gausses or lower.例文帳に追加

強誘電体膜をスパッタリングにより形成する際に、形成された膜に対して酸化雰囲気中での熱処理のみを行なう場合には、ターゲットに印加される磁場を２７０Ｇａｕｓｓ以上に設定し、一方形成された膜に対して不活性雰囲気中での熱処理と酸化雰囲気中での熱処理を行なう場合には、ターゲットに印加される磁場を３４９Ｇａｕｓｓ以下に設定する。 - 特許庁

The control means 5 is so constituted, when a rice cooking course without burnt deposit is selected by the menu selecting means 4, as to finish the boiling process when the temperature detected by the pot temperature detecting means 3 reaches a first predetermined temperature close to the boiling and then reaches a second temperature lower than a regular boiling finish temperature, and set a subsequent steaming process time longer than the usual.例文帳に追加

制御手段５は、メニュー選択手段４によって焦げなし炊飯コースを選ばれたとき、鍋温度検知手段３によって検知した温度が沸騰付近である第１の所定温度に達しその後通常の炊き上げ終了温度よりも低い第２の温度に達したときに炊き上げ行程を終了するようにし、その後のむらし工程時間を通常より長めに設定するよう構成する。 - 特許庁

A fluid penetration process for holding the porous member W having the organic substance in a bonded and infiltrated state in a supercritical or subcritical fluid for a definite time in a washing container 5 and a pressure reducing process for discharging a fluid from the washing container 5 to rapidly lower the internal pressure of the washing container 5 to a pressure not more than supercritical or subcritical pressure are respectively performed at least once.例文帳に追加

有機性物質を付着、含浸した多孔質部材Ｗを、洗浄容器５内において一定時間超臨界または亜臨界流体中に保持する流体浸透工程と、洗浄容器５から流体を排出して当該洗浄容器５内を超臨界または亜臨界以下の圧力まで急速降下させる減圧工程とを、少なくとも１回行うことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for producing a skin cream by dissolving an oil phase component at a lower temperature, mixing the oil phase component with an aqueous phase component and emulsifying them at the lower temperature and arbitrarily blending useful ingredients unstable to heat with avoiding a process to heat the oil phase component at ≥70°C and successively emulsify the same at ≥70°C in producing the skin cream.例文帳に追加

皮膚用クリームの製造方法において、従来技術の油相成分を少なくとも７０℃あるいはそれ以上の高温度で加熱溶解し、続いて７０℃あるいはそれ以上の温度で乳化処理するという工程を回避し、より低温下に油相成分を溶解処理し、より低温下に油相成分と水相成分とを混合して乳化処理できるようにし、熱に対して不安定な有用成分などを任意に配合できるようにする。 - 特許庁

At least one of the upper and lower 50 and 51 is formed in a shape to hold the image forming process unit when changing the image forming process units.例文帳に追加

他の画像形成プロセスユニットと分離可能に結合した状態において画像形成装置に着脱可能に装着される画像形成プロセスユニットを梱包する梱包容器であって、互いに分割可能に設けられ画像形成プロセスユニットを包み込む下パット５０及び上パット５１を有し、前記上下のパット５０，５１のうち少なくとも一方のパットは、画像形成プロセスユニットの交換時に該画像形成プロセスユニットを保持するための形状を為していることを特徴とする。 - 特許庁

This method for producing the actin is characterized by comprising a process for preparing a prokaryotic host cell transformed with a cold shock expression vector, and an actin-producing process for culturing the prokaryotic host cell at a lower temperature than the normal physiological proliferation temperature of the prokaryotic host cell to express an actin gene in the cold shock expression vector to produce the actin.例文帳に追加

本発明のアクチンの製造方法は、アクチン遺伝子を含むコールドショック発現ベクターにより形質転換された原核宿主細胞を準備する準備工程と、前記原核宿主細胞の正常生理的増殖温度よりも低い温度で前記原核宿主細胞を培養することにより前記コールドショック発現ベクター中のアクチン遺伝子を発現させてアクチンを産生させるアクチン産生工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

The method of developing the resist film by exposing the resist film formed on a substrate to a predetermined pattern and then performing a development using a developer includes a first development process of contacting a first developer with the resist film, and a second development process of contacting a second developer with the resist film, wherein the second developer has a lower concentration compared with the first developer.例文帳に追加

本発明は、基板上に形成されたレジスト膜を所定パターンに露光した後、現像液を用いて現像を行なうレジスト膜現像方法において、第１の現像液がレジスト膜に接する第１現像工程と、第２の現像液がレジスト膜に接する第２現像工程と、を備え、前記第２の現像液は、前記第１の現像液と比較して低濃度の現像液であることを特徴とするレジスト膜現像方法である。 - 特許庁

This is a method of manufacturing a thermally expansible microcapsule having a process in which an oily substance containing a polymerizable monomer, a volatile liquid and a polymerization initiator are suspended in an aqueous dispersion medium and a process in which the polymerizable monomer is polymerized by heating, and the polymerization temperature of the polymerizable monomer is set at a temperature not lower than the glass transition temperature of the polymer obtained by polymerizing the polymerizable monomer.例文帳に追加

水性分散媒体に、重合性モノマー、揮発性液体及び重合開始剤を含有する油性物質を懸濁させる工程と、前記重合性モノマーを加熱して重合させる工程とを有する熱膨張性マイクロカプセルの製造方法であって、前記重合性モノマーの重合温度を、前記重合性モノマーを重合させて得られる重合体のガラス転移温度以上の温度とする熱膨張性マイクロカプセルの製造方法。 - 特許庁

The fuel cell 100 contains a preparation process preparing a hydrogen separation membrane-electrolyte membrane assembly 10 in which an electrolyte membrane 12 having proton conductivity is formed on a hydrogen separation membrane 11 having hydrogen permeability; and a cathode forming process forming a cathode 30 on the electrolyte membrane 12 by vaporizing a solvent including a cathode component and having 100°C or lower boiling point on the electrolyte membrane 12.例文帳に追加

燃料電池（１００）は、水素透過性を有する水素分離膜（１１）上にプロトン伝導性を有する電解質膜（１２）が形成された水素分離膜−電解質膜接合体（１０）を準備する準備工程と、カソード成分を含有し１００℃以下の沸点を有する溶剤（２０）を電解質膜（１２）上において蒸発させることによって電解質膜（１２）上にカソード（３０）を形成するカソード形成工程と、を含む。 - 特許庁

The method for manufacturing the resin substrate 5 includes a process for heating a resin sheet 10x including resin containing insufficiently polymerized molecules and fibers up to a temperature lower than a polymerization starting temperature of the resin to soften the resin and a process for applying first pressure to the resin sheet 10x in which the resin is softened and discharging bubbles generated between the fibers to the outside of the resin sheet 10x.例文帳に追加

本発明の一実施形態にかかる樹脂基板５の製造方法は、不完全重合の分子を含む樹脂と繊維とを有する樹脂シート１０ｘを、前記樹脂の重合開始温度未満に加熱し、前記樹脂を軟化させる工程と、前記樹脂が軟化した樹脂シート１０ｘに第１圧力を印加し、前記繊維間の気泡を前記樹脂シート１０ｘ外に放出させる工程と、を備えたことを特徴とする。 - 特許庁

The wood drying method comprises a heating process for heating the wood by steaming at 100°C or lower while reducing a pressure in a sealed pressure vessel, and a drying process for storing the resulting wood in a sealed heat insulating chamber, circulating the atmospheric gas in the chamber, dehumidifying the gas by a cooling dehumidifier and drying the wood by warming using a heating device.例文帳に追加

密閉圧力容器内を減圧して行う１００℃以下の温度での蒸煮により木材を加熱する加熱工程と、加熱工程を経た木材を、密閉断熱室に収容して、密閉断熱室内の雰囲気ガスを循環させながら、循環している雰囲気ガスを冷却除湿装置により除湿するとともに加熱装置により加温することにより木材を乾燥させる乾燥工程と、からなることを特徴とする木材の乾燥方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polyester resin, capable of suppressing the generation of acetaldehyde and the soiling of a metal mold on its molding since it is possible to mold without damaging its transparency even on using its molding temperature lower than that of the conventional process, also obtaining a molded product excellent in transparency and especially suitable for molding of a bottle used for food or beverage.例文帳に追加

成形温度を従来より低温としても透明性を損なわずに成形可能であるため、成形時のアセトアルデヒドの発生、及び成形時の金型汚染が抑制されると共に、透明性にも優れた成形体を得ることができ、特に飲食品用等のボトルの成形に好適なポリエステル樹脂を提供する。 - 特許庁

In a semiconductor integrated circuit device which includes an inverter circuit composed of a pMOS transistor and an n MOS transistor Q2, the threshold voltage of the transistor Q2 is made lower than the threshold of the transistor Q1 by setting the dosage of implanted ions to the units of elements and executing a multi-Vth process.例文帳に追加

ｐＭＯＳトランジスタＱ１とｎＭＯＳトランジスタＱ２で構成されるインバータ回路１を含む半導体集積回路装置において、注入イオンのドーズ量を素子単位に設定してマルチＶｔｈプロセスを実行することにより、トランジスタＱ２のしきい値電圧をトランジスタＱ１のしきい値電圧よりも低くする。 - 特許庁

The metering roll of the roll coater which is incorporated into a paper machine of a papermaking machine and is exposed to coating liquids used in a papermaking process such as a coat liquid and a sizing liquid, has a chromium plated layer at its outermost layer and has a nickel-tungsten alloy plated layer consisting essentially of nickel at a lower layer thereof directly contacting with the chromium plating.例文帳に追加

製紙機械の抄紙機に組み込まれて、コート液あるいはサイズ液のような製紙工程で用いるコーティング液に晒されるロールコーターのメタリングロールにおいて、最外層にクロムめっき層を有し、その下層の直接的にクロムめっきと接触する層にニッケルを主成分とするニッケル−タングステン合金めっき層を有する。 - 特許庁

In the semiconductor device having fuse elements, the fuse elements are formed in a wiring layer present on the side of the lower layer than the uppermost wiring layer of the semiconductor device, and at the time point when completing the manufacturing process of the wiring layer, a fuse trimming is performed, and thereafter, the manufacturing processes of residual wiring layers are completed constitutionally.例文帳に追加

ヒューズ素子を備えた半導体装置において、前記ヒューズ素子を半導体装置における最上配線層よりも下層側の配線層にて形成し、その配線層の製造工程が完了した時点で、ヒューズトリミングを行い、その後に残りの配線層の製造工程を完了する構成とする。 - 特許庁

The manufacturing process is carried out, by injecting a melt of a synthetic resin having a melting point of 250°C or lower on the fluffed surface of the artificial leather fluffed at least on one side and cooling the reverse side to the fluffed surface of the artificial leather while compression molding.例文帳に追加

また、かかる合成樹脂成形物の製造方法は、少なくとも片面が立毛化された人工皮革の該立毛面に、２５０℃以下の融点を有する合成樹脂の溶融液を射出して、圧縮成形する際に、該人工皮革の該立毛面の反対面が冷却されていることを特徴とするものである。 - 特許庁

In a process S3, the temperature of the vapor growth equipment 11 is changed in the term after the time t1 supplying a gas containing ammonia, so that the temperature of the reaction furnace 15 of the vapor phase growth equipment 11 becomes a temperature Temp 2 lower than the temperature Temp 1 of the time t1 at the time t2.例文帳に追加

工程Ｓ３では、時刻ｔ２において気相成長装置１１の反応炉１５の温度が、時刻ｔ１における温度Ｔｅｍｐ１よりも低い温度Ｔｅｍｐ２になるように、アンモニアを含むガスを供給しながら時刻ｔ１以降の期間中に気相成長装置１１の温度を変更する。 - 特許庁

A myoelectricity detecting signal and a body movement detecting signal of a lower limb 4 of a patient 2 in a rehabilitation process are transmitted from a portable transmitter 5 to a receiver 6 and the receiver 6 converts the myoelectricity detecting signal and the body movement detecting signal into myoelectricity data and body movement data and transmits them to a personal computer 8.例文帳に追加

リハビリテーション過程にある患者２の下肢４の筋電位検出信号と体動検出信号とが電波信号で携帯型送信機５から受信機６に送信され、受信機６はそれぞれの筋電位検出信号と体動検出信号とを筋電位データと体動データに変換してパーソナルコンピュータ８に送る。 - 特許庁

To resolve a problem that partial HC desorbed is discharged without being oxidized in a catalyst activating process because a desorption temperature of HC is lower than an activating starting temperature of a catalyst layer, in a catalytic converter of a multiplayer structure provided with an oxidation catalytic layer on a surface of an HC adsorptive layer (zeolite layer).例文帳に追加

ＨＣ吸着層（ゼオライト層）の表面に酸化触媒層を設けた多層構造の触媒コンバータにおいて、ＨＣの脱離温度が触媒層の活性開始温度よりも低いことから、触媒が活性化する過程では脱離した一部のＨＣが酸化されることなく排出されてしまう。 - 特許庁

The element for evaluation of the physical resistance in the package process of a semiconductor device is equipped with a substrate 1, an interconnection film 3 prepared on the substrate 1, and an insulation film 2 whose elastic modulus is 15 GPa or less prepared in the lower layer and/or the upper layer of the interconnection film 3.例文帳に追加

半導体デバイスのパッケージプロセスにおける物理的耐性の評価の為に用いられる素子であって、 基板１と、 前記基板１上に設けられた配線膜３と、 前記配線膜３の下層側および／または上層側に設けられた弾性率が１５ＧＰａ以下の絶縁膜２とを具備する。 - 特許庁

To provide a DCT control method of a vehicle for preventing generation of a shock and noise produced between related parts between an input shaft and an output shaft, when the vehicle mounted with a DCT performs a shift to a target stage of a lower stage than a present stage in traveling at present, in a deceleration process.例文帳に追加

ＤＣＴを搭載した車両が減速過程で、現在走行中の現在段に比べて低段の目標段への変速を行うとき、入力軸と出力軸の間の関連部品間で発生する衝撃及び騷音の発生を防止する車両のＤＣＴ制御方法を提供する。 - 特許庁

To provide a conductive polymer gel which has a good light transmission property, can maintain good conductivity, even when exposed to an atmosphere comprising a lower temperature region than the freezing point of water, and can stably being produced in a simple working process without adding a gelling agent such as a surfactant or an alcohol.例文帳に追加

水の凝固点以下の温度域からなる雰囲気に曝された場合でも、良好な導電性を維持することが可能であり、かつ、界面活性剤やアルコ−ルのようなゲル化剤を添加する必要が無く、簡便な作業工程により安定して製造できる、光透過性の良好な導電性高分子ゲルを提供する。 - 特許庁

In an image recognition method in which an electronic part 4 forming a luster part at lower surface as a part of outline is illuminated from below and taken photograph with a camera to recognize the position by recognizing the obtained image, the photographed image is taken to binarize and process and luster part electrodes 4a are extracted.例文帳に追加

輪郭の一部をなす光沢部が下面に形成された電子部品４を下方から照明してカメラで撮像して得られた画像を認識することにより位置認識を行う画像認識方法において、撮像して得られた画像を取り込み２値化処理して光沢部である電極４ａを抽出する。 - 特許庁

Nitrate nitrogen in water to be treated is reduced into nitrogen gas at a reaction temperature of 100°C or lower in a single process where one or more kinds of reducing agents are added to the water to be treated containing nitrate nitrogen to bring the water to be treated into contact with a solid catalyst, thereby removing the nitrate nitrogen in the nitrate nitrogen-containing water.例文帳に追加

硝酸性窒素を含む被処理水に１種類以上の還元剤を添加し、固体触媒と接触させる単一工程にて、１００℃未満の反応温度で被処理水中の硝酸性窒素を窒素ガスに還元することにより、硝酸性窒素含有水の硝酸性窒素を除去する。 - 特許庁

Its manufacturing process comprises coating on at least one surface of the fibrous cloth a resin solution containing 20-85 wt.% of a lower alcohol as a solvent in the polyolefin resin, coagulating it in an aqueous solvent, removing the solvent, drying, and then conducting a water repellent treatment.例文帳に追加

また、ポリオレフィン樹脂に、溶媒として低級アルコールが、２０〜８５重量％含有してなる樹脂溶液を繊維布帛の少なくとも片面に塗布し、これを水系溶剤中で凝固させ、次いで、脱溶媒し、乾燥した後、撥水処理することを含むことを特徴とする、透湿性防水布帛の製造方法。 - 特許庁

A method of manufacturing a monolithic ceramic electronic component is provided with a process for forming a thick conductor, consisting of a plurality of coil conductor layers 12 and a plurality of coil conductor layers 14 by transferring the coil conductor layers 12 and 14, supported on a carrier film a plurality of times on the upper surface or the lower surface of a ceramic green sheet 13b.例文帳に追加

セラミックグリーンシート１３ｂの上面または下面に、キャリアフィルム上に支持されたコイル導体層１２，１４を複数回転写することにより、複数のコイル導体層１２及び複数のコイル導体層１４からなる厚みの厚い導体を形成する工程を備えた積層セラミック電子部品の製造方法。 - 特許庁

A crimping process comprises: a step of relatively descending the moving plate 11 against the work 9; a step of oscillating the punch 2; a step of pressing the pointed head contact portion of the punch 2 to a processed portion of the work 9; and a step of giving processing force toward the processed portion of the work from a slanted upper side to a slanted lower side.例文帳に追加

移動プレート１１をワーク９に対して相対的に下降させると共にパンチ２を揺動させて，パンチ２の先端当接部をワーク９の被加工部に押し当て，被加工部に対して，斜め上方から斜め下方に向けた加工力を付与してかしめ加工を行うよう構成されている。 - 特許庁

To make an image forming apparatus small-sized and lower-cost, and to prevent the degradation of printing precision, in the image forming apparatus which has a plurality of photoreceptors with images formed thereon by an electrophotographic process and forms an image by transferring images formed on the plurality of photoreceptors to a transfer paper.例文帳に追加

電子写真方式により画像が作像される複数の感光体を有し、該複数の感光体に作像された画像を転写紙に転写して画像形成を行う画像形成装置において、装置の小型化及びコストダウンを図ることができるとともに、印字精度の劣化を防ぐことができるようにする。 - 特許庁

A mask blank has a thin film for forming a pattern on a light transmitting substrate, wherein the thin film comprises an upper layer made of a material containing Cr and oxygen and a lower layer made of a material that contains Ta or its compound and can be etched by a dry etching process that uses a fluorine-based gas.例文帳に追加

透光性基板上にパターンを形成するための薄膜を有するマスクブランクにおいて、薄膜は、Ｃｒと酸素を含む材料で形成されている上層と、Ｔａまたはその化合物を含み、且つ、弗素系ガスを用いたドライエッチング処理によりエッチング加工が可能な材料で形成されている下層とからなる。 - 特許庁

In the washing machine provided with water supply and draining functions and a water level detection function detecting the water level in a water tank 2, a water injection and rinse means rinsing clothes while supplying water from a lower water level than a preset low level to a preset water level in a rinsing process is provided.例文帳に追加

給水および排水機能と、水槽２内の水位を検知する水位検知機能とを備えた洗濯機において、すすぎ工程時に予め設定された設定水位よりも低い水位から設定水位まで給水しながらすすぎ動作を行なう注水すすぎ手段が設けられたことを特徴とする。 - 特許庁

To obtain a uniform seal area by adjusting pressure distribution between an upper processing tool and a lower processing tool in a seal process by a simple method at a seal station to seal a cover sheet on a carrier sheet to close hermetically, in particular, one fixed in a thermoforming machine.例文帳に追加

カバーシートをキャリアシート上に密封をなすように接合(シール)するシールステーションにおいて、特には熱成形機械中に取り付けられるものにおいて、シンプルな方式により、シール工程における上部加工具と下部加工具との間の圧力の分布を調節して、均一なシール領域を得ることができるようにする。 - 特許庁

The process for fabricating a semiconductor device comprises a step for forming a SiO_2 layer 13 on a silicon substrate 11, a step for forming a SiN layer 14 containing nitrogen less than the stoichiometric composition of an SiN film on the SiO_2 layer 13 by using an ALD method, and a step for performing plasma nitriding treatment of the SiN layer 14 at the substrate temperature of lower than 500°C.例文帳に追加

シリコン基板１１上にＳｉＯ_２層１３を形成する工程と、ＳｉＯ_２層１３上にＡＬＤ法を用いてＳｉＮ膜の化学量論的組成よりも窒素が少ないＳｉＮ層１４を形成する工程と、ＳｉＮ層１４を５００℃未満の基板温度でプラズマ窒化処理する工程とを有する。 - 特許庁

To sustain a player's interest by varying a process of a game ball entering an operation-start hole in a game machine having a generator device disposed in a game board formed with a game area and capable of receiving a game ball falling the game area, and the operation-start hole disposed in the lower part of the generator device.例文帳に追加

遊技領域が形成された遊技盤に配設され、該遊技領域を流下する遊技球を受入可能な役物装置と、該役物装置の下方に配置される始動口と、を備えた遊技機において、遊技球が始動口に入るまでの過程に変化を持たせて遊技者の興趣を持続させる。 - 特許庁

Finally, nitrogen gas, heated by a gas-heating mechanism 52, is supplied onto both the surfaces Wa and Wb of the wafer W from upper and lower through holes 63 and 13, at the same time, the wafer W is rotated at high speed by a wafer-rotating section 10, and the rinse liquid on the surface of the wafer W is shaken off for drying (a drying process).例文帳に追加

最後に、上貫通孔６３および下貫通孔１３からガス加熱機構５２で加熱された窒素ガスがウエハＷの両面Ｗａ，Ｗｂに供給されると同時に、ウエハ回転部１０によってウエハＷがさらに高速回転され、ウエハＷ表面のリンス液が振り切り乾燥させられる（乾燥工程）。 - 特許庁