「lower process」に関連した英語例文の一覧と使い方(31ページ目) - Weblio英語例文検索

Then, in the hardening process, while shifting the high frequency inductor 10 and the cooler 11 in the tooth line direction along the tooth surface of the tooth part 2 from the lower side to the upper side, the tooth part 2 is heated e.g. to about 900-1,000°C and rapidly cooled with cooling water.例文帳に追加

そして、焼入れ工程では高周波誘導子１０と冷却器１１とを歯部２の歯面に沿って下側から上側へと歯筋方向に移動させつつ、例えば９００〜１０００℃程度まで歯部２を加熱して冷却水により急冷させる。 - 特許庁

In the process for pressure-bonding the ceramic multilayer substance 31 using a mold, a surface of at least one of the upper mold or lower mold pressing the surrounding portion of the ceramic multilayer substance, protrudes from a surface, which presses the center portion of the ceramic multilayer substance (a, b).例文帳に追加

セラミック積層体３１を金型を用いて圧着する工程において、上金型および下金型の少なくとも一方におけるセラミック積層体の周辺部を加圧する面が、セラミック積層体の中心部を加圧する面より突出（ａ、ｂ）している。 - 特許庁

A primary vacuum tank 40 and a secondary vacuum tank 50 are connected to a lower mold 30 so as to be able to be changed over alternately and the primary vacuum tank 40 is used in a process for shaping the skin material 3 to allow the same to get intimate with the surface of the core material.例文帳に追加

成形用下型３０にプライマリー真空タンク４０とセカンダリー真空タンク５０とを交互に切替え可能に接続し、芯材２表面に表皮材３をなじませる表皮材３の形状出し工程にプライマリー真空タンク４０を使用する。 - 特許庁

The multilayered container comprises the polyester resin layer, an adhesive resin layer, and the resin layer having a combination of adhesive and gas-barrier properties wherein the melting point of the resin layer having a combination of adhesive and gas-barrier properties is not lower than 150°C, and it is molded by a two-step blow molding process.例文帳に追加

ポリエステル樹脂層、接着性樹脂層、及び接着性兼ガスバリヤー性樹脂層から成る多層容器であって、前記接着性兼ガスバリヤー性樹脂の融点が１５０℃以上であり、２段ブロー成形法により形成されることを特徴とする。 - 特許庁

As a result, when a fixed time passes until the warming becomes stable in the warming process during the standby period for cooking rice for soaking, for instance, or after the completion of the cooking of rice, air in the pot 11 is discharged by the decompression means 81 to make the pressure in the pot 11 lower than the normal atmospheric pressure.例文帳に追加

これにより、例えばひたしなどの炊飯待機時や、炊飯完了後の保温行程で、保温が安定するまでの一定時間を経過すると、減圧手段81により鍋11内の空気を排出して、鍋11内を通常の大気圧よりも低くする。 - 特許庁

When there is warning information (S145: YES), "upper and lower display switching process" replacing the display content of a first display unit 31 with a second display unit 35 is executed (S150) in order to preferentially display the warning information on the second display unit 35.例文帳に追加

警告情報がある場合には（Ｓ１４５：ＹＥＳ）、その警告情報を優先的に第ニ表示器３５へ表示するために、第一表示器３１の表示内容と第ニ表示器３５の表示内容とを入れ替える「上下表示切り替え処理」を実行する（Ｓ１５０）。 - 特許庁

To form an oxide film with improved quality on a semiconductor thin film containing silicon in a low-temperature process where a substrate temperature is at 600°C or lower, and to provide a reliable thin-film transistor with improved performance while keeping the substrate temperature at a low temperature.例文帳に追加

基板温度が６００℃以下の低温プロセスにおいて、シリコンを含む半導体薄膜上に良質な酸化膜を形成すること、および基板温度を低温に保ったまま、性能の優れた信頼性の高い薄膜トランジスタを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a compression method and a compression device in which a pressure being applied to an object can be set lower than the self-weight of a compression head through a simple mechanism without increasing the size of the device, and to provide a process and a system for manufacturing an electrooptic device.例文帳に追加

装置を大型化することなく、簡単な機構で、対象物に加える圧力を圧着ヘッドの自重よりも小さい圧力に設定することができる圧着方法、圧着装置、電気光学装置の製造方法及び製造装置を提供する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the polyimide belt including a process for coating a mold with a solution containing polyamic acid, the solution is applied to the mold preliminarily cooled to the temperature of the polyamic acid solution or lower.例文帳に追加

ポリアミック酸を含有する溶液を成形型に塗布する工程を含むポリイミドベルトの製造方法であって、ポリアミック酸溶液の温度以下に予め冷却された成形型上に溶液を塗布することを特徴とするポリイミドベルトの製造方法を示す事ができる。 - 特許庁

To lower the cost of a sealing material and prevent breakage of sealed portions and sealing failures caused by unreacted materials by inventing a fire-resistant filler powder which is low expansive, strong and solid phase-reactable at low temperatures and a process for producing the same.例文帳に追加

低膨張、高強度であり、且つ低温で固相反応し得る耐火性フィラー粉末およびその製造方法を創案することにより、封着材料の低廉化を図るとともに、封着部位の破損及び未反応の原料に起因する封着不良を防止すること。 - 特許庁

To provide a method for producing a pulley for a belt-type continuously variable transmission, capable of producing a belt-type CVT pulley having improved oil holding property and improved abrasion resistance with excellent reproducibility, and of achieving a simplified process and lower cost.例文帳に追加

油保持性の向上を図ることができ、耐摩耗性が向上したベルト式ＣＶＴプーリーを再現性よく製造することができ、しかも、工程の簡略化、コストの低廉化を図ることができるベルト式無段変速機用プーリーの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photolithographic process allowing reduction of an alignment error of an exposure shot formed on a wafer using a method not increasing costs, improving the accuracy of superposition between upper and lower mask patterns even when exposure devices having different shot area sizes are used together.例文帳に追加

コスト上昇を招くことのない方法によってウェーハ上に形成される露光ショットの配列誤差を低減し、ショットエリアの大きさが異なる露光装置を混用しても上下のマスクパターンの重ね合わせ精度が向上できるフォトリソ工程を提供する。 - 特許庁

The information storage film constituting the one memory structure is formed substantially simultaneously using the same process stage, and the lower-part and upper-part through holes constituting the one memory structure are formed in order using mutually different step stages.例文帳に追加

１つのメモリ構造体を構成する情報貯蔵膜は同一の工程段階を利用して実質的に同時に形成され、１つのメモリ構造体を構成する下部及び上部貫通ホールは互いに異なる工程段階を利用して順に形成され得る。 - 特許庁

To improve reliability and a manufacturing yield in multilayer interconnection by forming a wiring groove so that no crown fences are generated around a via hole, and by protecting lower layer wiring from a damage due to the etching of a process for forming the via hole and wiring groove.例文帳に追加

ビアホールの周囲にクラウンフェンスが生じないように配線溝を形成し、且つビアホール及び配線溝を形成する工程のエッチングによるダメージから下層配線を保護して多層配線の信頼性及び製造歩留まりを向上できるようにする。 - 特許庁

To provide a level shift circuit, that can shift input voltage which exceeds power supply voltage range to a voltage within the power supply voltage range, and to provide an output of the shifted voltage and be manufactured by using a manufacture process for a power supply voltage lower than the input voltage.例文帳に追加

電源電圧範囲を超える入力電圧を電源電圧範囲内の電圧にシフトして出力することができるとともに、入力電圧より低い電源電圧用の製造プロセスを用いて製造することができるレベルシフト回路を提供する。 - 特許庁

When a film is formed from a polymer having a carbonyl group (C=O) in the main chain mixed with only a photo-acid generator such as a diazonaphthoquinone compound and then developed by irradiation with UV rays, a negative photoresist similar to a conventional one is formed with a lower dose of exposure than a conventional process.例文帳に追加

カルボニル基（Ｃ＝Ｏ）を主鎖に有するポリマーに、ジアゾナフトキノン化合物などの光酸発生剤のみを混合して成膜し、紫外線を照射して現像すると、従来よりも低い露光量で、従来と同様のネガ型フォトレジストを形成することができる。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor with a surface layer capable of demonstrating a relaxation effect of contact stress with a contact member or the like and having excellent adhesion to a lower layer, and a process cartridge and an electrophotographic apparatus having the electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加

接触部材等との接触ストレスの緩和効果を発揮することができ、かつ、下層との密着性にも優れた表面層を有する電子写真感光体、ならびに、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供する。 - 特許庁

In a process of resupplying the processing liquid to the processing tank 10 from the lower tank 40, all the processing liquid passes a filter 23 arranged in a circulation line 20, and all the contaminants included in the processing liquid are removed by the filter 23.例文帳に追加

下部タンク４０から処理槽１０に処理液が再供給される過程において、全ての処理液が循環ライン２０に設けられたフィルタ２３を通過することとなるため、処理液に含まれている全ての汚染物質がフィルタ２３によって取り除かれる。 - 特許庁

After performing work for enabling the atmosphere outside the heat treating device 10 to flow into the transfer chamber 40, a transfer chamber inner wall heating process is executed for heating the inner wall of the transfer chamber 40 to a temperature lower than the temperature of the heat treatment performed in the heat treating chamber 40.例文帳に追加

搬送室４０内に熱処理装置１０外の雰囲気が流入可能となる作業を行った後は、搬送室４０の内壁を、熱処理室４０で行う熱処理温度に比べて低い温度に加熱する搬送室内壁加熱工程を行う。 - 特許庁

Then, the compression molding of blank wood is performed in a state that the pin tip surface 11a of the extrusion pin 11 is arranged to the cavity molding surface 9a and the extrusion pin 11 is protruded while separating the upper mold 2 and the lower mold 3, respectively, to perform a demolding process.例文帳に追加

そして、押し出しピン１１のピン先面１１ａをキャビティ金型面９ａに整列させた状態でブランク木材の圧縮成形を行い、上金型部２、下金型部３をそれぞれ離間させつつ、押し出しピン１１を突き出して脱型工程を行う。 - 特許庁

At the time of forming the capacitor and inductor element in the printed wiring board in the manufacturing process, the lower electrode 4 of the capacitor is formed by the subtractive method used for etching metal foil 2, and the upper electrode 7 of the capacitor is formed by the additive method or semi-additive method used for plating a metal.例文帳に追加

製造工程内にてキャパシタ及びインダクタ素子を作り込む際に、金属箔２をエッチングするサブトラクティブ法でキャパシタの下部電極４を形成し、金属をめっきするアディティブ法又はセミアディテイブ法でキャパシタの上部電極７を形成すること。 - 特許庁

The manufacturing method of the precursor of the bulky body comprises laying the porous sheet having the shape memory property and the sheet-like material into layers with an adhesive in between, applying pressure and heat to the thickness direction and cooling under the pressured condition to a temperature lower than the heating temperature in the pressurizing/heating process.例文帳に追加

また、形状記憶性を有する多孔シートとシート状物とを接着剤を間にして重畳し厚さ方向に加圧加熱し加圧状態で該加圧加熱工程における加熱温度より低い温度に冷却する嵩高体前駆体の製造方法である。 - 特許庁

A first etching stopper film 2, a first insulating film 3, a second etching stopper film 4, a second insulating film 5 and inorganic anti-reflection film 6 are formed on a semiconductor substrate 1 sequentially from its lower layer, on which a resist layer 7 is formed and then subjected to a photolithographical process to form a hole pattern.例文帳に追加

半導体基板１上に、下層から順に第１エッチングストッパ膜２、第１絶縁膜３、第２エッチングストッパ膜４、第２絶縁膜５、無機反射防止膜６を成膜し、その上にフォトリソグラフィによりレジスト７を用いてホールパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a method for producing a casting mold where both molds of an upper mold and a lower mold are produced by a single casting stage using a lost foam pattern casting process, thus both the mold shape parts can be easily made coincident.例文帳に追加

消失模型鋳造法を使用して１回の鋳造工程で上金型及び下金型の双方の金型を作製することにより、双方の金型形状部分を容易に合致させることができることができる鋳造金型の製造方法を実現する。 - 特許庁

When a bending force which is a component force of an impact force is applied to the upper tube 21, the upper tube 21 turns (revolves) around the tilt lever bolt 41 and displaced, and in the process of the revolving displacement, the upper tube 21 is moved to the axial direction and drawn in the lower tube 22 side.例文帳に追加

衝撃力の分力である曲げ力がアッパーチューブ２１に作用した場合にアッパーチューブ２１がチルトレバーボルト４１を中心に回転変位（公転）し、この回転変位の過程でアッパーチューブ２１が軸方向に移動してロアチューブ２２側に引き込まれる。 - 特許庁

Thereafter, the backside of the substrate 1SA is ground and polished to a degree that the penetrated separation unit 5 and the penetrated wiring unit 9 will not be exposed, and wet etching process is applied to a degree that a part of lower sections is exposed in the penetrated isolation part 5 and the penetrated wiring unit 9.例文帳に追加

その後、基板１ＳＡの裏面を、貫通分離部５および貫通配線部９が露出しない程度まで研削および研磨した後、貫通分離部５および貫通配線部９の下部の一部が露出する程度までウエットエッチング処理する。 - 特許庁

To make detectable defects in a fine pattern on a transparent layer insulating film and on the same layer with high sensitivity while detecting the defects of a lower layer pattern and the same pattern in the defocused state to detect only the defect of a process to be originally inspected.例文帳に追加

透明な層間絶縁膜上の微細パターンおよび同一層の欠陥を感度良く検出する一方、下層のパターンおよび同一層の欠陥をデフォーカスした状態で検出し、本来検査したい工程の欠陥のみを検出可能とすること。 - 特許庁

This firing process comprises firing a cylindrical ceramic tube green body 1 which is provided with a closed bottom and has a ratio of the entire length to the outer diameter of ≥6 and a ratio of the thickness to the outer diameter of ≤1/10, in such a state that the green body 1 is errected so as to a place the closed bottom lower side.例文帳に追加

外径に対し全長が６倍以上、かつ外径に対し肉厚が１０分の１以下の有底円筒状セラミック管成形体１を焼成するに当り、有底円筒状セラミック管成形体１の管底を下側にして立設して焼成する。 - 特許庁

After that, the decorative plywood 10 impregnated with the applied resin impregnating agent 44 is loaded into a heat pressurizing roll device 50 equipped with upper compressing rollers 51A-51C and lower compressing rollers 52A-52C to obtain the decorative plywood 20 with a consolidated decorative veneer in a heat compression process.例文帳に追加

中塗りクリア塗料６６を塗布し硬化させ、さらに上塗りクリア塗料６７を塗布し硬化させて、加熱圧縮された合板２２と化粧単板２３からなる化粧合板２０及びさらにクリア塗料層２５，２６，２７を有する化粧合板２４が完成する。 - 特許庁

This method for planting a cutting comprises the following process: charging a square pot 1 made from a biodegradable polymer with a medium 3 comprising vermiculite 3c for an intermediate layer, and rock wools 3a and 3b each for upper and lower layers, and thrusting a plant stem 7 down into the rock wool 3a for the upper layer so as to reach the vermiculite 3c.例文帳に追加

生分解性の高分子材料で形成される四角形のポット１内に中間層をバーミキュライト３ｃ、上下層をロックウール３ａ、３ｂとした培地３を入れ、植物の茎７を上層のロックウール３ａを通してバーミキュライト３ｃまで突き刺す。 - 特許庁

To provide a semiconductor manufacturing apparatus and a semiconductor manufacturing method, capable of providing a semiconductor device of higher performance, improved reliability, and lower cost, by suppressing degradation which is caused by infiltration of process gas into a connection part between a substrate heating heater and an electrode component.例文帳に追加

基板加熱用ヒータと電極部品との接続部へのプロセスガスの回り込みによる劣化を抑制し、半導体装置の高性能化や信頼性の向上、低コスト化を図ることが可能な半導体製造装置及び半導体製造方法を提供する。 - 特許庁

Carbon dioxide is introduced into the reaction product with pH 11 or more to forcibly lower the pH of the reaction product and moisture is supplied to the reaction product immediately after fermentation treatment or at a desired period in a fermentation treatment process to continuously propagate microorganisms.例文帳に追加

ｐＨ１１以上の反応生成物に、二酸化炭素を導入してpHを強制的に下げた後、酸素もしくは空気を吹込む一方、醗酵処理直前もしくは醗酵処理過程所望の時期に水分を供給して前記微生物の継承的に増殖させる。 - 特許庁

Thereafter, an additive diffusion process, where the periphery of the fusion spliced part A is heat- treated at a first temperature range of 800°C or higher to 1,500°C or lower, and the additive which is added to the glass fibers 11, 21 in the periphery of the fusion spliced part A is diffused, is performed (Figure 1 (e)).例文帳に追加

その後に、８００℃以上１５００℃以下の第１の温度で融着接続部Ａ周辺を加熱処理して、融着接続部Ａ周辺においてガラスファイバ１１，２１に添加されている添加物を拡散させる添加物拡散工程を行う（図１（ｅ））。 - 特許庁

The method for producing the (meth)acrylic ester includes a process in which an alcohol and a lower (meth)acrylic ester are transesterified using a titanium tetra-alkoxide as a catalyst, subsequently an inorganic material having dehydration capability is added to the reaction solution after the transesterification, then water is added to the solution.例文帳に追加

アルコールと低級（メタ）アクリル酸エステルとを、チタンテトラアルコキシドを触媒としてエステル交換反応させ、当該エステル交換反応後の反応液に脱水能力のある無機物を添加した後に水を加える工程を含む（メタ）アクリル酸エステルの製造方法である。 - 特許庁

En route process between the hydraulic motor 4 and the hydraulic pump 5, a brake valve circuit 7 regulating an upper limit of the oil pressure in the hydraulic motor 4, and a pilot check circuit 8 regulating a lower limit of pressure of hydraulic oil returning from the hydraulic motor 4 to the hydraulic pump 5 are provided.例文帳に追加

油圧モータ４と油圧ポンプ５との工程の途中に、油圧モータ４内の油圧の上限を規定するブレーキ弁回路７と、油圧モータ４から油圧ポンプ５に戻る作動油の圧力の下限を規定するとパイロットチェック回路８とを各々設けている。 - 特許庁

In the case of communication between a master station 5 and specific carrier slave stations (L_1-Ln), a transmission process is executed, where the transmitter/ receiver 9 injects a signal toward the carrier slave station, being a communication opposite party to the distribution line 1 at a reference injection level that is set lower.例文帳に追加

親局５と特定の電搬子局（Ｌ1 〜Ｌn ）との間で通信を行う際に、先ず低めに設定した基準注入レベルで送受信装置９から配電線１に通信相手とする電搬子局向けの信号を注入する送信過程を行う。 - 特許庁

The fine processing method of a glassy carbon base material has a step for providing the glassy carbon base material and performing a heat treatment for 1-10 hours at a temperature not lower than 2,000°C and not higher than 2,500°C in an atmosphere of a halogen gas, and a step for performing a dry etching process after said step.例文帳に追加

本ガラス状カーボン基材の微細加工方法は、ガラス状カーボン基材を用意し、ハロゲンガス雰囲気、２０００℃以上２５００℃以下の温度で１〜１０時間の熱処理を行う工程と、この工程後にドライエッチング加工を行う工程を有する。 - 特許庁

Therefore, during the process of reading the tree entries for comparing them with the search object, the search entries in the lower portion of the tree can be read faster than the search entries in the upper portion, and as a result, a faster traversal through the entire decision tree can be realized.例文帳に追加

したがって、ツリー・エントリを読み取って、それらを検索対象と比較するプロセスの間、ツリーの低位部分の検索エントリを、上位部分の検索エントリよりも高速に読み取ることができ、その結果、決定ツリー全体にわたるトラバースがより高速化する。 - 特許庁

The flow of the pressurized air from the tilted jetting ports 21 gently impinges on object articles, and the flow rate of the air is uniform between upper and lower spaces and dust collection faces 10, eliminating chattering and contributing to a further stable production process.例文帳に追加

さらに、傾斜噴出口２１からの加圧エアの流れが対象製品に対して、その当たりが穏やかになり、ダスト捕集面１０との上下隙間で均一流量になる為、チャタリング（異常振動）を無する事が出来、より安定した生産工程に貢献出来る。 - 特許庁

The turbidity characteristics of the lubricant composition containing the additive package become lower than those of the lubricant composition prepared by mixing the organic acid with the amine component and sulfurized extreme pressure additive without the premix by using the process.例文帳に追加

前述のプロセスを用いることにより、添加剤パッケージを含んだ潤滑剤組成物の濁度特性は、プレミックスなしで有機酸およびアミン成分と硫化極圧添加剤とを混合することによって作られた潤滑剤組成物の濁度特性よりも低くなる。 - 特許庁

When a starting resin is the epoxy resin derived from a bisphenol-A, the resulting product has much lower levels of the bisphenol-A and diglycidyl ether of the bisphenol-A(DGEBA) compared to traditional epoxy resins of comparable molecular weights prepared by an advancement process.例文帳に追加

出発樹脂をビスフェノールＡから誘導されるエポキシ樹脂とした際には、上級プロセスで製造された類似の分子量の慣用的エポキシ樹脂と比較して、得られる生成物中におけるビスフェノールＡ及びビスフェノールＡのジグリシジルエーテル（DGEBA）のレベルは、ずっと低くなる。 - 特許庁

Although there is an evident trend for the number of computers per employee in manufacturing industries to be lower than that for non-manufacturing industries, it is thought this stems from the fact that in many cases employees involved in manufacturing do not use computers in the manufacturing process.例文帳に追加

製造業の従業員一人当たりのパソコン保有台数が非製造業に比べて少ない傾向が見られるが、その背景としては製造業では製造工程に従事する従業員がパソコンを使用しない場合が多いこと等が考えられる。 - 経済産業省

Thereafter, the film 32 is etched and removed, and thereafter the underlying film 42 is subjected to a dry etching process with use of the Pt film 45 as a mask, thus forming a lower electrode of a capacitive element with use of the Pt film 45 and the conductive underlying film 42 remaining thereunder.例文帳に追加

その後、酸化シリコン膜４３をエッチングで除去した後、Ｐｔ膜４５をマスクにして導電性下地膜４２をドライエッチングすることにより、Ｐｔ膜４５とその下部に残った導電性下地膜４２とで容量素子の下部電極を形成する。 - 特許庁

The inner peripheral surface of the drum 2 of the drum type shot blasting device for applying the blasting process by blasting a shot to the work is provided with a projecting part 31 for separation capable of abutting on lower work of the work overlapped by the rotation of the drum 2.例文帳に追加

ワークにショットを投射することにより投射処理を施すドラム式ショット投射処理装置のドラム２の内周面には、ドラム２の回転により重なり合うワークのうちの下層部のワークに対し当接可能な分離用突起部３１が設けられる。 - 特許庁

To provide an image processing device capable of achieving an encoding process of encoding to maximally increase the image quality of image data after encoded with a low processing load while setting a code amount of image data after encoded lower than a target code amount.例文帳に追加

符号化後の画像データの符号量が目標符号量以下になるようにしつつ、符号化後の画像データの画質ができるだけ向上するように符号化する符号化処理を、低い処理負荷で実現することができる画像処理装置を提供する。 - 特許庁