「lower process」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

The polishing process includes a first polishing process for performing height polishing while rotating the abrasive disc 81 at a first speed, and a second polishing process for performing finish polishing while rotating the abrasive disc 81 at a second speed sufficiently lower than the first speed.例文帳に追加

研磨工程は、研磨盤８１を第１の速度で回転させながらハイト研磨を行う第１の研磨工程と、研磨盤８１を第１の速度よりも十分に小さい第２の速度で回転させながら仕上げ研磨を行う第２の研磨工程とを含む。 - 特許庁

On the other hand, in the case that it is decided that the adhesion state is good in the decision process 12, degassing from the adhesive layer is carried out by heating an adhesion body at a temperature lower than that in the peeling process 13, at which the adhesive layer hardly foams, in a degassing process 14.例文帳に追加

一方、判別工程１２で接着状態が良好にあると判別した場合には、ガス抜き工程１４において、接着剤層が発泡し難い剥離工程１３より低い温度で接着体を加熱して、接着剤層からガス抜きする。 - 特許庁

The peripheral velocity of a grinding wheel in a fine grinding process is set to be lower than that of the grinding wheel in a rough grinding process, and when performing the grinding of the fine grinding process, the peripheral velocity of the grinding wheel is changed to the set value to perform the grinding.例文帳に追加

微研削工程における砥石車の周速を粗研削工程における砥石車の周速よりも遅い周速とするように設定し、微研削工程の研削を行う際に、砥石車の周速を設定した周速に切り換えて研削する。 - 特許庁

Furthermore, as the connecting work of the metal plate 41 can be carried out in the same press process as the press process for bending the metal plate 41, the shielding shell 40 can be manufactured at a cost lower than by that in the conventional methods which require spotting process.例文帳に追加

しかも、金属板４１を屈曲させるためのプレス工程と同じプレス工程で、金属板４１の接合作業を行うことができるから、従来のスポット工程が別途必要になるものに比べて低コストで、シールドシェル４０を製造することができる。 - 特許庁

To provide a process operation monitoring operating device which can improve processing speed in relation to various communication protocol between a higher rank equipment and a lower rank equipment without waiting establishment of a industry standard communication method and which can easily process, edit and record data related to the process.例文帳に追加

業界標準通信手法等の確立を待たずに、上位機器と下位機器との間の種々の通信プロトコルに対する処理速度を向上し、かつ、プロセスに関するデータの加工、編集、記録等が容易に可能なプロセス運転監視操作装置を実現する。 - 特許庁

To provide a method for purifying a lower aliphatic carboxylic acid obtained by reacting a lower olefin with oxygen by efficiently removing a positive material against potassium permanganate test in the lower aliphatic carboxylic acid, a method for producing a lower aliphatic carboxylic acid characterized by including the method for purifying in part of the process, and a lower aliphatic carboxylic acid characterized by being produced by the method for producing.例文帳に追加

低級オレフィンと酸素とを反応して得た低級脂肪族カルボン酸中の過マンガン酸カリウム試験陽性物質の効率的な除去による精製方法、該精製方法を工程の一部として含むことを特徴とする低級脂肪族カルボン酸の製造方法、該製造方法により製造されたことを特徴とする低級脂肪族カルボン酸の提供。 - 特許庁

The storage device has means for measuring the importance of electronic documents, means for scheduling the execution of a data re-storage process for free space expansion or means for executing the data re-storage process while the frequency of a storage process is low, and means for, at the data re-storage process execution, subjecting electronic documents of lower importance preferentially to the data re-storage process.例文帳に追加

電子文書の重要度を計数化する手段と、空き容量拡大のためのデータ再格納処理の実行スケジュール設定手段または格納処理の頻度が低い時期にデータ再格納処理を実行する手段と、データ再格納処理実行時には前記電子文書の重要度の低いものを優先してデータ再格納処理を施す手段を設ける。 - 特許庁

A method for producing polytrimethylene terephthalate comprises an esterification process and a condensation polymerization process, wherein the condensation polymerization process is divided into processes of plural steps; in the condensation polymerization process of the final step, condensation polymerization is carried out in a polymerization apparatus having a twin-screw stirrer; and the polymerization temperature in the condensation polymerization process of a backward step is lower than that of a forward step.例文帳に追加

エステル化工程と縮重合工程とを含むポリトリメチレンテレフタレートの製造方法であって、縮重合工程が複数段の工程に分割され、最終段の縮重合工程では二軸攪拌機を有する重合器により縮重合が行われ、後段の縮重合工程における重合温度が前段の縮重合工程における重合温度未満であることを特徴とする。 - 特許庁

To lower the processing temperature in a heat treatment while uniform treatment is secured by preheating a process gas in a heating section provided outside a treatment chamber.例文帳に追加

処理室の外部に設けられた加熱部で処理ガスを予備加熱し、処理の均一性を確保しながら、プロセス温度の低温化を図ること。 - 特許庁

The treating method comprises a process (S3) for turning the treatment surface of an object W to be treated toward an almost perpendicular lower direction.例文帳に追加

本発明の処理方法は、被処理物Ｗの処理面を略鉛直下方に向けて処理する工程（Ｓ３）を含む表面処理方法である。 - 特許庁

An ink repelling processed surface 23 is formed by providing the ink repelling process to the rear end surface, the upper and lower surfaces and the right and left side surfaces of the ink supporting member 1.例文帳に追加

インク保持部材１の後端面、上下両面および左右両側面に、撥インク処理を施して撥インク処理面23を形成する。 - 特許庁

A restoration process of revolution speed of the engine (S154) by ignition timing control starts when the revolution speed decreases less than that of the lower limit for stabilized run (yes at S152).例文帳に追加

点火時期制御によるエンジン回転数復活処理(S154)は回転数が安定運転下限回転数より低下した場合である(S152でyes)。 - 特許庁

In the growth process, the pulling speed till the pass of the seeding part 17a through the liquid encapsulant 16 is set at 5 mm/h or lower.例文帳に追加

この成長過程において前記種付け部１７ａが前記液体封止剤１６中を通過するまでの引上速度は、５mm／ｈ以下とする。 - 特許庁

To provide a disk driver which can make the efficiency of a manufacturing process step higher, the cost lower and the space less and a hard disk drive.例文帳に追加

製造工程の効率化、コスト低減、省スペース化等を図ることのできるディスクドライブ装置、ハードディスクドライブを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for forming silicide wherein silicide can be formed at lower temperatures without increasing the wet cleaning process.例文帳に追加

ウェット洗浄工程を増加させることなく、かつ、より低温でシリサイドを形成することが可能なシリサイドの形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a solid electrolytic capacitor, the method achieving both a lower cost in a cleaning process and a reduced environmental load.例文帳に追加

洗浄工程の低コスト化と環境負荷の低減との両立を実現することが可能な固体電解コンデンサの製造方法を提供する。 - 特許庁

The lower chamfer face 12 which has been a rough surface as having undergone a drawing process according to the conventional technique, becomes a flat and smooth surface to allow suppression of rust generation.例文帳に追加

その結果、従来は引き抜き加工による粗面のままであった下面取り面１２が平滑面となり錆の発生が抑制できる。 - 特許庁

The process for producing a lower saturated aldehyde from a 1,2-diol comprises using a catalyst composed of a heteropolyacid or a heteropolyacid-catalyst carrier composite.例文帳に追加

ヘテロポリ酸あるいは、ヘテロポリ酸−触媒担体複合体からなる触媒を用いる、１，２−ジオールから低級飽和アルデヒドを製造する方法。 - 特許庁

To prevent deterioration of device characteristics only by a low- temperature treatment process at 1,000°C or lower with respect to a silicon semiconductor device, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

シリコン半導体装置及びその製造方法に関し、１０００℃以下の低温処理工程のみで、デバイス特性の劣化を防止する。 - 特許庁

To provide an ultrasonic spindle apparatus capable of reducing the fabrication process of a spindle rotating while making ultrasonic vibration and assuring a lower cost, higher speed, and higher precision.例文帳に追加

超音波振動しながら回転する主軸の製作工程を削減し、低コストで、しかも高速化、高精度化を得ることができる。 - 特許庁

A preliminary chamber 21 where a boat 31 is quickly carried out for cooling a processed wafer W is directly coupled to the lower part of a thermal process chamber 11.例文帳に追加

熱処理室１１の下部に直結して、ボート３１を高速搬出して処理済のウェハＷを冷却する予備室２１を設ける。 - 特許庁

Moreover, all processes before forming an organic EL layer after the dehydration process are carried out in an environment where a dew-point temperature is controlled at -60°C or lower.例文帳に追加

さらに、脱水処理以後の、有機ＥＬ層を形成するまでの全工程を、露点温度を−６０℃以下に管理された環境下で行う。 - 特許庁

A preheat temperature is in a range from 20°C lower than a process temperature of the insulating powder to a temperature for dissolving the insulating powder.例文帳に追加

前記の予熱温度は、絶縁性粉体の加工温度よりも２０℃低い温度から、該絶縁性粉体が分解する温度までの範囲とする。 - 特許庁

In a lower clad layer 13, an optical coupler 18 made of the same material as that of cores 15 and 16 is provided using the same manufacturing process.例文帳に追加

下クラッド層１３の中に、コア１５及び１６と同じ材料で、且つ、同一の製造工程によって、光結合体１８を設ける。 - 特許庁

At least the lower part of the processing tank 3 is made of a gas-permeable material that allows the process gas for processing the particulate material to pass through.例文帳に追加

処理槽３は、少なくとも下部が粉粒体を処理する処理ガスの通過を許す通気性を有する材料で作製されている。 - 特許庁

The stopper film 61 is formed of a material which exhibits a lower etching rate of the wet cleaning process for removing the resist pattern than that of the hydrogen barrier film 65.例文帳に追加

ストッパ膜６１は、水素バリア膜６５よりも、レジストパターンを除去するウエット洗浄処理のエッチングレートが小さい材料で形成する。 - 特許庁

To enhance overlay accuracy between lower-layer patterns and upper- layer patterns in the photolithographic process of the manufacturing of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置製造の製造工程において、フォトリソグラフィ工程時の下層パターンと上層のパターンとの重ね合わせ精度を向上させる。 - 特許庁

In the upper inside wall part 58e and the lower inside wall part 58f, vent holes or slits are arranged to pass the process gas and the exhaust gas respectively.例文帳に追加

天井部５８ｅおよび床板部５８ｆにはそれぞれ処理ガスおよび排気ガスを通すための通気孔またはスリットが形成される。 - 特許庁

In this device, a control part is constituted so that a reference value compensation is carried out where the upper and lower limits of the threshold value are made not to function in an agitating mode process.例文帳に追加

攪拌モード処理において、閾値としての上下限を機能させないような基準値補正を実施させるように制御部を構成した。 - 特許庁

To provide a display panel capable of reducing a process step to lower a manufacturing cost, and a display device and an electronic apparatus having the same.例文帳に追加

プロセスステップを減らし、製造コストを下げることの可能な表示パネルならびにそれを備えた表示装置および電子機器を提供する。 - 特許庁

In a left standing/drying process 140, the material deposit layers are dried at a temperature lower than the melting point of fluororesin and stabilized (State E).例文帳に追加

放置・乾燥工程１４０において、材料堆積層を、フッ素樹脂の溶融温度より低い温度で乾燥し、安定化する（状態Ｅ）。 - 特許庁

In a manufacturing process of an Si microphone 1, a lower sacrifice layer 30 formed of Al-Si is formed on the upper surface 29 of the Si substrate 2.例文帳に追加

Ｓｉマイク１の製造工程において、Ｓｉ基板２の上面２９には、Ａｌ−Ｓｉからなる下部犠牲層３０が形成される。 - 特許庁

To provide a method for extracting cobalt from cathode active material for lithium battery with a simpler process at a lower cost than conventional methods.例文帳に追加

従来に比べて、工程が単純、かつ、低コストであって、リチウム電池正極活物質からコバルトを抽出する方法を提供すること。 - 特許庁

The CMP process of a tungsten thin film normally utilizes aqueous slurry containing an abrasive, an oxidizing agent, and a solute having polarity lower than that of water.例文帳に追加

タングステン薄膜のＣＭＰプロセスは通常、研磨剤、酸化剤、および極性が水のそれより小さい溶質を含む水系スラリーを利用する。 - 特許庁

To prevent damages in the formed state of lower electrodes when upper electrodes are formed without introducing a process of forming a protective insulating layer.例文帳に追加

上部電極を形成する際に、保護用絶縁層形成の工程導入をせずに、下部電極の形成状態の損傷を防止する。 - 特許庁

In the reaction process, carbon dioxide or carbon monoxide is added to the lower hydrocarbon, and the reaction is performed at a temperature higher than 800°C.例文帳に追加

前記反応工程において、前記低級炭化水素に二酸化炭素又は一酸化炭素を添加し、反応温度を８００℃より高くする。 - 特許庁

The melt line may also be below the lower end of the collar, especially if the melt is drawn down or poured early in the process.例文帳に追加

メルトラインはまた、特に融液がプロセスの初期の段階で引き出される、すなわち注がれる場合にカラーの下端よりも下方にあることができる。 - 特許庁

At least the lower part of the treatment tank 3 is formed of a gas-permeable material that allows the process gas for treating the particulate material to pass through.例文帳に追加

処理槽３は、少なくとも下部が粉粒体を処理する処理ガスの通過を許す通気性を有する材料で作製されている。 - 特許庁

A replaceable ring 1253 at the lower opening of the processing chamber 1204 allows process pumping speed to be tailored for different processes by replacing the ring 1253.例文帳に追加

処理チャンバ１２０４の下部開口にある取り替え可能なリング１２５３により、プロセス排気速度を異なるプロセスに合わせることができる。 - 特許庁

The particles 3 have a solid phase fusing temperature of a temperature, which is applied in a process of manufacturing a wiring board, or lower and 100°C of higher.例文帳に追加

前記導電性粒子は、配線板の製造工程で加えられる温度以下且つ１００℃以上の固相溶融温度を有する。 - 特許庁

To provide a process for uniformly keeping a gap between a passivation layer of lower base material and upper base material of an LCD integrated circuit device.例文帳に追加

ＬＣＤ集積回路装置の下基材のパシベーション層と上基材との間の隙間を均等に維持するためのプロセスを提供する。 - 特許庁

In the pad removing process, the pad Wy stuck out on the lower face W2 of the work W caused by the formation of the inclined face W1 is removed.例文帳に追加

余肉除去工程では、傾斜面Ｗ１の形成によってワークＷの下面Ｗ２にはみ出した余肉Ｗｙを除去する。 - 特許庁

The substrate sticking device holds the upper substrate and the lower substrate W1, respectively by pressurization plates disposed opposite to each other and a stage 42 within a process chamber, and sticks the upper substrate and the lower substrate W1 to each other.例文帳に追加

基板貼合せ装置は、処理室内で互いに対向配置された加圧板及びステージ４２により上基板及び下基板Ｗ１をそれぞれ保持し、これら上基板及び下基板Ｗ１を貼り合わせる。 - 特許庁

Then, the hole is filled with a conductive film 96 which is substantially on the same level with the upper surface of the lower electrode seed layer and formed through an electroplating process in which the lower electrode seed layer is used.例文帳に追加

次いで、ホール内部を、下部電極用シード層の上部表面と実質的に同一なレベル上の導電膜９６を下部電極用シード層を用いた電気メッキ工程を行って形成することにより充填する。 - 特許庁

To provide an organic electroluminescence element capable of forming an upper layer organic film containing an electron transportable polymer on a lower layer organic film without impairing the lower layer organic film even if a wet process is used.例文帳に追加

湿式法を用いても、下層有機膜を損傷することなく下層有機膜の上に、電子輸送性高分子を含む上層有機膜を形成することが可能な有機エレクトロルミネッセンス素子を提供する。 - 特許庁