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lower processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1989件
The relative positioning of the lower die 19 and upper die 40 is determined correctly, and the upper die 40 is allowed to make follow-up in one-body after dislocation of the lower die 19 in the manufacturing process so that the intended electron tube stem 1 of high quality is manufactured.例文帳に追加
モールド下型19とモールド上型40との相対位置を確実に位置決めし、製造過程でのモールド下型19の位置ずれにモールド上型40を一体的に追従させ、高品質の電子管ステム1を製造できる。 - 特許庁
The method comprises the production of acetophenone derivative from a substituted benzene through ortholithiation process by using a bulky strong base having weak nucleophilicity such as LDA (lithium diisopropylamide) and an N-lower alkoxy-N-lower alkylamide derivative.例文帳に追加
本発明の製造法は、LDAのようなかさ高く求核性の弱い強塩基及びN-低級アルコキシ-N-低級アルキルアミド誘導体を用いて、置換ベンゼンからオルトリチオ化しアセトフェノンを得ることを特徴とする製造法である。 - 特許庁
In the following initial guide creation process S12, an initial guide is created by generating parallel lines in the upper and lower sides of the locus of the flexible medium, and in a locus section division process S13, the locus is equally divided by defined intervals.例文帳に追加
続く初期ガイド作成処理(S12)では、柔軟媒体の軌跡に対して、上下に平行線を作成して初期のガイドを形成し、軌跡区間分割処理(S13)では、軌跡を定義された間隔で等分割する。 - 特許庁
Process (ii): using the salt provided in process (i), the low polymer is crushed while production reaction of the low polymer is performed at a temperature lower than the melting point of polyamide obtained when the molecular weight is increased.例文帳に追加
工程(ii):工程(i)で得られた塩を用いて、高分子量化した場合に得られるポリアミドの融点未満の温度で低重合体の生成反応をおこないながら低重合体を破砕する工程。 - 特許庁
Also, from the transfer process to the printing medium to a fixing process, the surface temperature at least on the toner image formation surface side of the printing medium is held higher than the softening temperature of the toner solid content and lower than the melting temperature.例文帳に追加
また、印刷媒体への転写過程から定着過程への間に、印刷媒体の少なくともトナー画像形成面側の表面温度をトナー固形分の軟化温度以上で溶融温度以下に保持する。 - 特許庁
Therefore, since a cooling time for transition from shrinkage fit and assembly process to the next process can be shortened, the man-hours for manufacturing an electric compressor 10 is reduced to lower its production cost.例文帳に追加
したがって、焼き嵌め組み付け後、次の工程に移行するための冷却時間を短縮することができるので、電動圧縮機10の製造工数を低減することができ、製造原価を低減することができる。 - 特許庁
Furthermore, it comprises, in the high-frequency heating beyond the point A_3 before the hardening process, a process of holding the steel parts within a temperature region beyond the point A_3 for a prescribed time or longer, then cooling the steel parts to the transformation point A_1 or lower as they are.例文帳に追加
さらに、焼入工程前のA_3点を超えての高周波加熱において、A_3点を超える温度域に所定時間以上保持し、次いで、そのままA_1変態点以下に冷却する工程を備える。 - 特許庁
At surface-processing of a wafer 10, while being placed on a process hand 46, the wafer 10 is grasped at multiple points, from the upper and lower surfaces using the process hand 46, where a surface processing target part is opened and a presser ring 100.例文帳に追加
プロセスハンド46上にウェハ10を載置して表面処理する際に、表面処理対象部が開放されたプロセスハンド46と押えリング100によりウェハ10を上下面から多点で把持する。 - 特許庁
To reduce the amount in stock and consequently heighten productivity and lower cost by a method wherein a process of anti-slip work is made unnecessary by simultaneously performing the anti-slip work of the edge face of a metal fitting of a rubber member with the metal fitting therein with a vulcanizing molding process.例文帳に追加
金具付ゴム部材の金具端面の滑り止め加工を、加硫成形の工程で同時に行い、滑り止め加工のための工程を不要にして、ストック量を減らし、生産性を高め、コスト低下を図る。 - 特許庁
And the enlarged process is judged as completion when the current value or the integral current value in the enlarging and up-and-down repeating process falls lower and close to the current value or the integral current value at the time of excavation before blade expansion and becomes stable.例文帳に追加
拡大上下反復工程の電流値・積分電流値が低下して拡翼前の掘削時の電流値・積分電流値に近づき安定した時に拡大工程が完了したと判断する。 - 特許庁
To attain a high-reliabilty semiconductor device which protects an element from a stress generated by a bonding process and a probing process and which does not generate cracks on an insulating film at the lower side of a bonding pad.例文帳に追加
ボンディングプロセス及びプロービングプロセスにより発生した応力から素子を保護し且つボンディングパッドの下側の絶縁膜にクラックが発生することのない、信頼性の高い半導体装置を実現できるようにする。 - 特許庁
A process using an object which is not used for the delayed operation processing is specified among processes for performing the specified common operation processings to perform control to lower the priority that the specified process is performed.例文帳に追加
そして、特定した共用業務処理を実行するプロセスのうち、遅延業務処理にて用いられないオブジェクトを用いるプロセスを特定し、特定したプロセスが実行される優先度を低下させるように制御する。 - 特許庁
As for detergent injection, when the number of times of rinsing in the rinsing process is smaller than the predetermined number, detergent concentration in the washing process is set lower than the detergent concentration for the predetermined number of times of rinsing.例文帳に追加
また、洗剤投入に関しても、すすぎ行程のすすぎ回数が所定回数より少ない場合は、洗い行程における洗剤濃度を、すすぎ回数が所定回数のときの洗剤の濃度よりも薄くする。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a phosphor which comprises a spherical particle having a controlled particle size and a narrow particle-size distribution, by a process comprising calcining at a lower temperature than in the conventional dry process.例文帳に追加
従来の乾式法に比べて、より低い温度での焼成を含む工程によって、制御された粒径を有し、しかも、その粒度分布が狭い球状粒子からなる蛍光体の製造方法を提供する。 - 特許庁
In the preprocessing, the device exposes the photoconducting layer 20, by using writing light with the first intensity lower than the second intensity required for an initializing process in which the writing process is performed without the preprocessing.例文帳に追加
また、前処理では、初期化処理において前処理を行わずに書込処理を行う場合には必要であった第2の強度より小さい第1の強度の書込光を光導電層20に露光する。 - 特許庁
The manufacturing method of dielectric paste for a plasma display panel includes a process of making glass powder and paste, and a humidity in the process of making the paste is controlled to be 60% or lower.例文帳に追加
ガラス粉末の作製工程、及びペーストの作製工程を含むプラズマディスプレーパネル用誘電体ペーストの製造方法であって、ペースト作製工程における湿度を60%以下に管理することを特徴とする。 - 特許庁
This system including the heat exchanger with the heat medium side pressure lower than the process side pressure comprises a means for detecting the process fluid in a heat medium in the downstream of the heat exchanger on the heat medium side.例文帳に追加
熱媒体側の圧力がプロセス側の圧力より低い熱交換器を含むシステムであって、熱媒体側の熱交換器の下流に熱媒体中のプロセス流体を検出する手段を有する熱交換システム。 - 特許庁
At the end of the washing process or a part or all of one rinsing process, the water is discharged to a level lower than the first water level, then the water is supplied supplementarily for the supplementary water supply time and then the water is discharged.例文帳に追加
洗浄工程又は一のすすぎ工程の一部又は全部の工程の終了時に、第1の水位より低い水位まで排水した後、補足給水時間だけ補足給水を行った後に排水する。 - 特許庁
In a second process, a number of spacers 11 are formed on the lower surface of the substrate 26, in a third process, the spacers 11 of the substrate 26 are bonded to a semiconductor wafer 32 in which a number of solid state imaging elements 9 are provided.例文帳に追加
第2工程では、ガラス基板26の下面に多数のスペーサー11を形成し、第3工程では、多数の固体撮像素子9が設けられた半導体ウエハ32にガラス基板26のスペーサー11を接合する。 - 特許庁
Further, in the second forming process, the projecting part 16 in the axial direction of an intermediate product obtained with the first forming process is interposed between the second upper and lower dies and bent inward or outward to form the convex projection 24.例文帳に追加
第2成型工程では、第1成型工程で得られた中間製品の軸方向突起部16を、第2上および下型間に挟持させて、内方または外方に折り曲げて凸状突起部24を形成する。 - 特許庁
To stabilize the channel and the flow rate of process gas by reducing the quantity of process gas flowing into a gap between the lower surface of a housing and the back surface of an injector shield section thereby preventing deposition of undesired productions.例文帳に追加
本発明の目的は、筐体の下面とインジェクタシールド部の背面との間の隙間に流れ込むプロセスガスを低減し、不所望な生成物が堆積することを防止しプロセスガスの流路及び流量を安定させる。 - 特許庁
To provide a highly reliable semiconductor device for which an element is protected from stress generated by a bonding process and a probing process without generating a crack on an insulating film on the lower side of a bonding pad.例文帳に追加
ボンディングプロセス及びプロービングプロセスにより発生した応力から素子を保護し且つボンディングパッドの下側の絶縁膜にクラックが発生することのない、信頼性の高い半導体装置を実現できるようにする。 - 特許庁
To provide a process optimization control system for stably optimizing and controlling a process system configurated by a group of boiler turbine generators at a lower primary energy consumption cost, by calculating optimum fuel flow by an optimum method.例文帳に追加
ボイラータービン一発電機群で構成されるプロセス系において、最適な方法で最適燃料流量を計算し、より低い1次エネルギ消費コストで安定に最適制御するプロセス最適化制御システムである。 - 特許庁
To provide a process for production of a supported catalyst that, when used for production of lower aliphatic carboxylic acids from oxygen and lower olefins, improves yields of the lower aliphatic carboxylic acids and minimizes production of carbon dioxide gas (CO_2) being a by-product compared to the prior art.例文帳に追加
低級オレフィンと酸素とから低級脂肪族カルボン酸を製造するために用いて、低級脂肪族カルボン酸の収率が向上し、かつ副生物である炭酸ガス(CO_2)の生成を従来法よりも抑制することのできる担持型触媒の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a substrate processing apparatus with a non-contact floating conveyance function which can convey a substrate without touching the lower surface of the substrate and which can process both upper and lower surfaces or only the lower surface of the substrate without causing the contamination of the substrate or roller tracks while transferring the substrate at high speed and stably.例文帳に追加
基板の下面に非接触で基板を搬送し、基板を高速かつ安定的に移動させながら、基板の汚染やローラー痕の生成なく、基板の上下両面又は下面のみに処理を行う、非接触浮上搬送機能を有する基板処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide a safety device with a simple constitution, in a press machine where a ram having the upper die at the lower end is made vertically movable, and the upper die and the lower die are engaged, so as to process a workpiece, which prevents the fingers of an operator from being pinched between the upper die and the lower die during the operating time.例文帳に追加
下端に上型を有するラムを上下動自在にして上型と下型とが噛み合うことによりワークを加工するプレス装置において、その作業時に手指が上型と下型とに挟まれないようにする安全装置を簡単な構成で提供する。 - 特許庁
In the method for manufacturing an optical waveguide including a process of thermally oxidizing at least a silicon substrate to form a thermal oxidation film to be a lower clad film on the surface of the substrate, the process of forming the thermal oxidation film is a process of forming a thermal oxidation film containing aluminum.例文帳に追加
少なくともシリコン基板を熱酸化して下側クラッド膜となる熱酸化膜を基板表面に形成する工程を有する光導波路基板の製造方法において、前記熱酸化膜の形成は、アルミニウムを含有する熱酸化膜を形成する光導波路基板の製造方法。 - 特許庁
A process for forming the lower layer portion 10 includes a process for forming the first insulating part 12 on a first circuit forming region 110 for forming a circuit and a first region 120 for surrounding the first circuit forming region; and a process for forming the via 11 on the first circuit forming region 110.例文帳に追加
下層部10を形成する工程は、第1絶縁部12を、回路を形成するための第1回路形成領域110と、第1回路形成領域を取り囲む第1領域120とに形成する工程と、ビア11を第1回路形成領域110に形成する工程とを備える。 - 特許庁
Furthermore, a wave processing circuit 6 to generate the attenuated digital output signal having an equivalent data length to an original length with performing a rounding process such as a noise shaving process or dither process to bits of a lower part than that of a signal responding to original bits of an output from the attenuator 5 is equipped.例文帳に追加
デジタルアッテネータ5の出力の元のビットに対応する信号のビットより下位の部分のビットを、ノイズシェービング処理やディザ処理等の丸め処理を行って、元と同等のデータ長を有する減衰デジタル出力信号となるような波形処理回路6を設ける。 - 特許庁
This method for producing the tea comprises in a tea manufacturing process of unrefined tea, taking out part of tea leaves followed by squeezing before a process of heating and rolling pressure treatment of tea leaves to lower moisture content is finished, scattering squeezed juice on tea leaves before heating and rolling pressure treatment are finished, and continuing a tea manufacturing process.例文帳に追加
荒茶の製茶工程において、茶葉を加熱および、揉圧処理し含水率を低下させる工程が完了する以前に茶葉の一部を取り出し搾汁し、搾汁液を加熱および、揉圧処理が完了する以前に茶葉に散布し、製茶工程を継続する。 - 特許庁
The method comprises a pseudo liquid layer forming process for forming a pseudo liquid layer 6 by the use of material having a melting point lower than that of the oxide-based superconductor, and a superconductive layer forming process for depositing the superconductive layer 8 by the use of the oxide-based superconductor after the pseudo liquid layer deposition process.例文帳に追加
酸化物系超電導体より融点が低い物質で擬似液体層6を成膜する擬似液体層成膜工程と、 擬似液体層成膜工程の後に、酸化物系超電導体で超電導層8を成膜する超電導層成膜工程とを含む。 - 特許庁
The planar showerhead 44, the upper insulator plate 52 and the lower insulator plate 50 are in a stacked structure, and are also positioned on the shelf 42 in the vicinity of the process space 14 for introducing a process gas into a substrate in the process space.例文帳に追加
たな42は室本体の内壁に設けられ、平らなシャワヘッド44および上方52および下方50絶縁板は積重ねられた構造物として配置され、かつプロセスガスをプロセス空間内の基板に導入するため、プロセス空間14の近傍のたな42の上に設置される。 - 特許庁
Then, a plating process of forming a Ni layer on a lower base electrode by a plating process by electrolytic plating, and forming an upper base electrode by forming a Sn-plated layer on a surface of the Ni layer by applying a Sn plating process by electrolytic plating onto it is executed.例文帳に追加
次に、下地電極の上に電解めっきによるめっき処理によりNi層を形成し、更に、その上に電解めっきによるSnめっき処理を施すことによりNi層の表面にSnめっき層を形成して上地電極を形成するめっき工程を行う。 - 特許庁
This manufacturing method includes a process for forming a catalyst layer on a lower structure; a process for forming, on the catalyst layer, a carbon nanotube coating layer in an aqueous solution state in which carbon nanotube powder is mixed; and a process for coating an electroless plating solution on the carbon nanotube coating layer.例文帳に追加
下部構造体上に触媒層を形成する工程と、触媒層上に炭素ナノチューブ粉末が混合された水溶液状態の炭素ナノチューブコーティング層を形成する工程と、炭素ナノチューブコーティング層上に無電解メッキ溶液をコーティングする工程とを含む。 - 特許庁
The method includes controlling the inside of the carburizing chamber to a lower pressure during a heating process before the component to be treated reaches the carburizing temperature than during a carburizing process after the component has reached the carburizing temperature, so as to inhibit carburization during the heating process.例文帳に追加
前記被処理部品を前記浸炭温度に加熱するまでの昇温過程の間、前記浸炭室内の圧力を、前記浸炭温度に加熱してからの浸炭処理過程のときにおける圧力よりも、当該昇温過程の間における浸炭を抑制するように低くする。 - 特許庁
In a fourth process, filling concrete 50 is filled between the surface panel material 20 and a partition plate 30 every time when passing through the third process or passing through the third process in a plurality of times, and a connecting member 60 is arranged for connecting the mutual upper-lower filing concretes 50.例文帳に追加
第4工程では、第3工程を経る毎あるいは第3工程を複数回経る毎に,表面パネル材20と仕切板30との間に胴込コンクリート50が充・されると共に,上下の胴込コンクリート50同士を連結する連結部材60が設置される。 - 特許庁
For a metal material which cannot be cut and divided in this high frequency heating process, a cooling process to rapidly quench the large end part 4 locally high frequency heated lower than minus 40°C by liquid nitrogen and a hammering process to add impact force on a head end part of the large end part 4 are added.例文帳に追加
この高周波加熱工程Kbで割断できない金属素材に対しては、高周波局部加熱された大端部4を液体窒素でマイナス40℃以下に急冷する冷却工程Kdや、大端部4の先端部分に衝撃力を加えるハンマリング工程Keを追加する。 - 特許庁
The method includes a reaction process of catalytically reacting lower hydrocarbons with a catalyst to obtain aromatic hydrocarbons, and a regeneration process of regenerating the catalyst used in the reaction process, and includes repeating the reaction and regeneration processes.例文帳に追加
低級炭化水素を触媒と接触反応させて芳香族炭化水素を得る反応工程と、前記反応工程で使用された触媒を再生する再生工程を備え、前記反応工程と前記再生工程を繰り返すことにより芳香族炭化水素を製造する。 - 特許庁
The GaN layer 12 is formed in a first film forming process in which GaN is epitaxial-grown at 300°C or lower, and a second film forming process in which the GaN is epitaxial-grown at 550°C or higher upon the GaN formed in the first film forming process.例文帳に追加
GaN層12は、300℃以下の温度でGaNをエピタキシャル成長させる第1の成膜工程と、上記第1の成膜工程により成膜されたGaN上に、550℃以上の温度でGaNをエピタキシャル成長させる第2の成膜工程とにより成膜される。 - 特許庁
The method for manufacturing a capacitor structure comprises a process for forming a lower electrode film 91 on a substrate 10, a process for forming an insulating film 92 on the lower electrode film 91, and a process for forming an upper electrode film 93 on the insulating film 92 by sputtering in a state in which a susceptor electrode 35 to which a negative potential is applied is arranged on the undersurface of the substrate 10.例文帳に追加
キャパシタ構造の製造方法は、基板10上に下部電極膜91を形成する工程と、下部電極膜91上に絶縁膜92を形成する工程と、基板10の裏面に、負の電位が印加されたサセプタ電極35を配置した状態で、スパッタ法によって絶縁膜92上に上部電極膜93を形成する工程とを有する。 - 特許庁
The manufacturing method of the magnetic recording medium includes; a process which forms a mold layer on the base board; a pattern-forming process which forms patterns for forming spaces, whose lower part surface areas are different from the upper part surface areas corresponding to the lower part surfaces; and a process which fills the spaces with a magnetic body material to form the magnetic dots.例文帳に追加
基板上に鋳型層を形成する工程と、前記鋳型層をパターニングして、前記鋳型層に下部面の面積と前記下部面に対応する上部面の面積とが異なる空間を形成するパターンを形成する工程と、前記空間に磁性体物質を満たして磁性体ドットを形成する工程と、を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 特許庁
In the second process, a rotor shaft 3 is extracted with the upper motor cover 6 from the motor, the lower motor cover 7 is removed, and a stator 1 is taken out.例文帳に追加
第二工程では、廃品モータから、ロータシャフト3を上モータカバー6とともに引き抜き、次いで、下モータカバー7を取り外し、ステータ1を取り出す。 - 特許庁
In the growth process, the pulling speed after the pass of the seeding part 17a through the encapsulant 16 is set at 5 to 15 mm/h or lower.例文帳に追加
また、成長過程において前記種付け部17aが前記液体封止剤16中を通過した後の引上速度は、5mm/h以上、15mm/h以下とする。 - 特許庁
In a first process, an upper die 11 and a lower die 12 of a V shape in section recessed with respect to a round steel pipe 30 are installed to the press apparatus.例文帳に追加
第1の工程では、丸鋼管30に対して、凹んでいる断面V字形状の上型11および下型12がプレス装置10に据え付けられる。 - 特許庁
To provide a cantilever with a conductive probe that allows a lower electrode to conduct electricity and is insulated from an upper electrode, and is manufactured by a process whose costs have been reduced.例文帳に追加
コストを減らした工程により製造された、下部電極と導通し上部電極と絶縁された導電性探針を有するカンチレバーを提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a semiconductor device having flexibility, by separating an element manufactured by a comparatively low temperature (temperature of lower than 500°C) process from a substrate thereof.例文帳に追加
比較的低温(500℃未満)のプロセスで作製される素子を基板から剥離し、可撓性を有する半導体装置を作製する方法を提供する。 - 特許庁
When a document of a larger number than the estimated process number is detected, an order switch part 18 changes a print order for the document to a lower position.例文帳に追加
予定処理枚数より枚数の多い文書が検出された場合は、順位入替部18でその文書のプリント順位を下位に変更する。 - 特許庁
To improve the rice husking efficiency by shortening selection process of unpolished rice, make a mixed rice selection part compact, and lower the cost.例文帳に追加
籾摺選別機において、玄米の選別処理行程を短縮して籾摺能率の向上を図り、混合米選別部を小型化しコストの低減を図る。 - 特許庁
The game machine makes the player recognize the putting out of game mediums from the game machine by making a putting-out announcement on the basis of the lower-than-a-unit putting-out process.例文帳に追加
そして該単位未満払出処理に基づいて、払出報知を行うことにより、遊技用装置からの遊技媒体の払出を遊技者に認識させる。 - 特許庁
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