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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > lower processに関連した英語例文

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lower processの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 1989



例文

The correcting coil (4) is used in a design process so as to reduce harmonics lower than harmonics generated by the magnet.例文帳に追加

この補正コイルは、マグネットが発生させるより低次の高調波を減少させるために設計過程において使用する。 - 特許庁

In the first process, a rivet 8 connecting the upper and lower motor covers 6 and 7 with each other of the scrap motor is removed by a drill head.例文帳に追加

第一工程では、廃品モータの上下のモータカバー6、7を互いに連結しているリベット8をドリルヘッドで除去する。 - 特許庁

In the foaming process, temperature of the upper mold is 30-40°C and temperature of the lower mold is 70-80°C, especially 60-90°C.例文帳に追加

この発泡工程において、上型の温度を30〜40℃とし、下型の温度を60〜90℃特に70〜80℃程度とする。 - 特許庁

The inside of the process chamber 5 has an atmosphere of gases, such as helium, a mixed gas of nitrogen and helium, neon, and the like with density lower than air (nitrogen).例文帳に追加

処理室5内は、空気(窒素)よりも低い密度の気体(ヘリウム、窒素とヘリウムの混合ガス、ネオン等)の雰囲気とする。 - 特許庁

例文

Residual stress is eliminated by performing thermal treatment on the material at a temperature of (Tg-170)K or higher and (Tg)K or lower after the molding process.例文帳に追加

成形工程後に(Tg−170)K以上且つ(Tg)K以下の温度で熱処理して残留応力を除去する。 - 特許庁


例文

A separating membrane 81 (a base) formed of lead at a lower temperature than a predetermined temperature in an annealing treatment process is formed on a stage 80.例文帳に追加

まず、アニール処理工程での所定の温度よりも低い鉛からなる分離膜81(基材)をステージ80上に形成する。 - 特許庁

To provide a caustic alkali process for removing thermal insulation coating from lower layer metallic parts without forming inconvenient peeled material.例文帳に追加

不都合な剥離物を形成することなく、下層金属部品から遮熱コーティングを除去するための苛性アルカリ法の提供。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a semiconductor device utilizing a semiconductor film thermally crystallizable at a lower temperature more effectively.例文帳に追加

より低温にて熱結晶化可能な半導体膜を利用した半導体装置をより効果的に作製する方法の提供。 - 特許庁

To provide a process which efficiently produces a lower saturated aldehyde using a 1,2-diol as a raw material.例文帳に追加

本発明の課題は、1,2−ジオールを原料とし、低級飽和アルデヒドを効率よく製造する方法を提供することである。 - 特許庁

例文

In an annealing process after the piezoelectric layer 4 is formed, the sintering of the lower electrode 3 can be simultaneously advanced.例文帳に追加

また、圧電層4の形成後に必要なアニール工程において、下部電極3の焼成を同時に進行させることができる。 - 特許庁

例文

They store canned beverages at normal room temperature (or lower temperature) on standby and rapidly heat up a selected drink during the process of dispensing. 例文帳に追加

待機時は常温(あるいは低温)で缶飲料を保管し、販売時のみ選択商品を急速加熱して提供する。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide a functional material wherein functional particles comprising titanium oxide has a specific gravity lower than that of a conventional material and its manufacturing process.例文帳に追加

従来よりも酸化チタンからなる機能粒子の比重を低くした機能材料およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the macromolecular optical waveguide by forming a lower clad, a core, and an upper clad on a substrate in this order includes an annealing process of maintaining a temperature which is lower than the glass transition temperature of the polymer of the lower clad by 0 to 20°C before a process of forming the upper clad after forming the lower clad and core on the substrate.例文帳に追加

基板上に、下部クラッド、コアおよび上部クラッドがこの順に形成されてなる高分子光導波路の製造方法であって、基板上に下部クラッドおよびコアを形成後、上部クラッドを形成する工程の前に、下部クラッドの重合体のガラス転移温度より0〜20℃低い温度に維持するアニール工程を含むことを特徴とする高分子光導波路の製造方法。 - 特許庁

A process for forming the intermediate layer portion 30 includes: a process for forming the first wiring 31 on the first circuit forming region 110; a process for forming a film of the second insulating part 32 to cover the lower layer portion 10; and a process for removing the second insulating part 32 on the first region 120 so that an outer circumferential part 10a of an upper surface of the lower layer portion 10 is exposed.例文帳に追加

中間層部30を形成する工程は、第1配線31を第1回路形成領域110に形成する工程と、下層部10を覆うように第2絶縁部32を成膜する工程と、下層部10の上面の外周部10aが露出するように、第1領域120上の第2絶縁部32を除去する工程とを備える。 - 特許庁

The powder magnetic core manufacturing method is provided with a mixing process for mixing silicon resin and a low boiling point solvent of which the boiling point is 60°C and lower, a drying process for removing the solvent from a mixture obtained in the mixing process and a molding process for molding power obtained in the drying process.例文帳に追加

(Si−O)_100-xC_x (0<x(at%)≦20) ・・・(1) 軟磁性材料からなる磁性粉末と、シリコン系樹脂と、沸点が60℃以下である低沸点溶媒とを混合する混合工程と、前記混合工程で得られた混合物から溶媒を除去する乾燥工程と、前記乾燥工程で得られた粉末を成形する成形工程とを備えた圧粉磁芯の製造方法。 - 特許庁

This cellulose acylate film is manufactured by a manufacturing method having a process for preparing a dope liquid by dissolving cellulose acylate and additives, a process for casting the obtained dope liquid, a process for peeling the formed film and a process for drying the peeled film and characterized in that a drying temperature in the drying process is not lower than the glass transition temperature of cellulose acylate.例文帳に追加

セルロースアシレートと添加剤を溶解してドープ液を調製する工程、得られたドープ液を流延する工程、形成されたフィルムを剥離する工程、及び、剥離したフィルムを乾燥する工程を有し、前記乾燥工程における乾燥温度がセルロースアシレートのガラス転移温度以上とした製造方法により製造したセルロースアシレートフィルム。 - 特許庁

To suppress a square error caused in a decoded signal small and enhance the subject image quality by properly selecting a lower-order bit plane or a lower-order sub-bit plane whose code is omitted or aborted in a coding process or a recompression process of coded data.例文帳に追加

符号化プロセス又は符号化データの再圧縮プロセスにおいて、符号を省略もしくは破棄する下位ビットプレーン又は下位サブビットプレーンを適切に選択することにより、復号した信号に生じる二乗誤差を小さく抑え、また主観画質を向上させる。 - 特許庁

As a third process, the lower part of the pocket upper part cloth partly overlaps the inner surface side of the upper end part of the pocket lower part cloth, and both right and left ends of the pocket lower part cloth are sewn up to project toward the right and left sides of the pocket upper part cloth.例文帳に追加

第三工程としてポケット下部生地の上端部内面側に、ポケット上部生地の下部が一部重なるようになすと共に、該ポケット下部生地の左右両端がポケット上部生地の左右側方に突出するようになして縫合する。 - 特許庁

To provide a composition for forming a resist lower-layer film, by which a lower-layer film can be formed, wherein the lower-layer film is excellent in etching resistance, is less likely to be bent when subjected to dry-etching process, and can transfer a resist pattern precisely with good reproducibility to a substrate to be processed.例文帳に追加

エッチング耐性に優れ、ドライエッチングプロセスにおいて折れ曲がり難く、レジストパターンを忠実に再現性よく被加工基板に転写することが可能な下層膜を形成することができるレジスト下層膜形成用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for tying lower yarn enabling a double yarn cord comprising a tying yarn smoothly passing through a process which has a following process in a production line such as diing process for a fiber with a limited diameter.例文帳に追加

限られた径を所有するダイス工程などを次工程に持つ製造ラインにおいて、糸繋ぎされている糸を使用した双糸コードを前記工程内で糸切れなど起こさず円滑に通過可能ならしめる、下糸糸繋ぎ方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method comprises a preparatory pre-drive process for impressing a preparatory pre-drive voltage Vpre' having a voltage wave peak value which is lower than the voltage wave peak value Vpre of the preparatory drive voltage that is impressed at the time of preparatory drive process, before the preparatory drive process is impressed.例文帳に追加

予備駆動工程を実施する前に、該予備駆動工程時に印加される予備駆動電圧の電圧波高値Vpreよりも低い電圧波高値の予備前駆動電圧Vpre’を印加する予備前駆動工程を有する。 - 特許庁

When the circuit is in the link-up state in the process 200, priorities of a linked-up port and a port in a communication state are compared (process 300), and when the priority of the linked-up port is lower, the BPDU processing is moved to the process 400 and is peformed.例文帳に追加

処理200で回線状態がリンクアップの場合はリンクアップしたポートと通信中ポートのプライオリティを比較し(処理300)、リンクアップしたポートのプライオリティが低い場合は処理400へ移行してBPDU処理を実行する。 - 特許庁

The prescribed temperature in the cleaning process is set to 450°C or lower, at which the selection ratio between Poly-Si and SiO2 (quartz) varies greatly.例文帳に追加

このクリーニング工程時の所定温度は、Poly−SiとSiO_2(石英)の選択比が大きく変化する450℃以下とする。 - 特許庁

The die 12 is vibrated for increasing the density distribution of the mixed powder P toward the lower side in the direction of gravity by the density control process.例文帳に追加

密度制御工程により、ダイ12に振動を付与して混合粉末Pの密度分布を重力方向下側ほど高める。 - 特許庁

To prevent an electromigration of copper in an interface between a plug and a lower layer wiring that are manufactured in a wiring forming process by using a damascene method.例文帳に追加

ダマシン法を用いた配線形成プロセスにより製造されたプラグと下層配線との界面における銅のエレクトロマイグレーションを防ぐ。 - 特許庁

Valuable materials can be recovered respectively from the upper suspension and the lower suspension discharged from the process by a known method.例文帳に追加

この工程から排出される上層懸濁液および下層懸濁液のそれぞれから公知の方法で有価物の回収を行える。 - 特許庁

In the forcibly cooling process, cooling gas is repeatedly supplied into the carbonizing furnace to forcefully lower the treated material's temperature.例文帳に追加

強制冷却工程においては、炭化炉内に冷却気体を繰返し供給して被処理物の温度を強制的に低下させる。 - 特許庁

In the resin sealing process, the recessed portions 17' are filled with the resin 16 from above and lower surfaces of the leads 11 are exposed in the resin 16.例文帳に追加

樹脂封止工程において、凹部17´を樹脂16で上方から充填し、リード11の下面を樹脂16から露出させる。 - 特許庁

Specifically, an NGO (NdGaO_3) substrate is used, which is subjected to an ingot annealing process of holding the ingot at 1,200°C or higher and 1,400°C or lower for 5 to 20 hours.例文帳に追加

具体的には、1200℃以上1400℃以下で5〜20時間保持するインゴットアニール処理を施されたNGO基板を用いる。 - 特許庁

The lower-layer film 108 is formed by denaturalizing the amorphous film of non-dope silicon in a thermal process, with a rough 110 (figure 1 (b)) formed.例文帳に追加

下層膜108は,熱処理によりノンドープシリコンの非晶質膜から変化したものであり,凹凸110(図1(b))が形成される。 - 特許庁

The chemical is added to the lower layer part of a packed bed in a sintering machine or to a sole ore, thus suppressing occurrence of dioxines in a sintering process.例文帳に追加

焼結機の充填層下層部か、床敷鉱に薬剤を添加して、焼結工程におけるダイオキシン類の生成を抑制する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a silicon wafer which performs BMD formation in the inside by a heating process at shorter time and lower temperature than before.例文帳に追加

従来よりも短時間かつ低温の熱処理で内部でのBMD形成を行うシリコンウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a nickel fine powder which is fine, contains low levels of impurities and has a small specific surface area, and to provide a method for producing the same with an industrially simple process at a lower cost.例文帳に追加

微細で低不純物品位であるとともに、比表面積の小さいニッケル微粉を提供することを目的とする。 - 特許庁

The lower part metal layer 140 is composed of at least 2 metal layers and an oxidation precess is conducted after a forming process of each of metal layers.例文帳に追加

下部金属層140は少なくとも2個の金属層からなり、酸化工程は各金属層形成工程後にそれぞれ実行される。 - 特許庁

The first shift register unit and the first data latch unit are shared by upper and lower blocks to process the first and second group channel data together.例文帳に追加

第1シフトレジスタ部及び第1データラッチ部は、上下ブロックによって共有されて第1及び第2グループチャンネルデータを共通で処理できる。 - 特許庁

Then, a diaphragm 52 is pressurized and bonded to the surface of the lower piezoelectric layer 40 of the piezoelectric material 55 (bonding process), and a piezoelectric actuator is manufactured.例文帳に追加

次に、圧電体55の下部圧電層40の表面に、振動板52を押圧して接合して(接合工程)、圧電アクチュエータを製造する。 - 特許庁

This manufacturing process is conducted at a temperature of lower than 1200 °C and the time to inhibit recrystallization of a highly-fine structure in the alloy MA956.例文帳に追加

この製法は、合金MA956中の非常に細かい構造の再結晶化を阻止するための1200℃未満の温度および時間で行う。 - 特許庁

The sealant is thereby prevented from being cured prior to the bonding process, and an adhesive force is enhanced thereby between a lower substrate and an upper substrate.例文帳に追加

このことにより、シール剤が合着工程の前に硬化することなく、下部基板と上部基板との接着力が上昇する。 - 特許庁

The temperature T is read in S21 to compare it with the predetermined temperature in S22, and when it is lower, the process proceeds to S15, and when higher, it proceeds to S19.例文帳に追加

S21で温度Tを読み込み、S22で所定温度と比較し、小さいときはS15に、大きいときはS19に進む。 - 特許庁

In the coating process, the lower end opening of the glass tube 22 is immersed into the suspension 36 and the suspension 36 is sucked into the glass tube 22.例文帳に追加

塗布工程では、ガラス管22の下端開口を懸濁液36に浸漬させて、懸濁液36をガラス管22の内部へと吸引する。 - 特許庁

In this process, every time when either one of the split ring members 20 of a pair is laminated on the lower mold 4, the turntable is rotated by 180 degree.例文帳に追加

この際、一対の分割リング部材20の何れか1つを下型4に積層する都度にターンテーブルを180度で回転させる。 - 特許庁

The upper resist roller 12a is arranged in the process cartridge 2 so as to be made movable in a vertical direction, the lower resist roller 12b is arranged on the printer main body side.例文帳に追加

上側レジストローラ12aをプロセスカートリッジ2に上下動可能に設け、下側レジストローラ12bはプリンタ本体側に設ける。 - 特許庁

After definite time treatment, the flocculated solid is discharged from the lower part of the tank and a supernatant liquid is sent to a drain treatment process from the upper part of the tank.例文帳に追加

一定時間処理した後、凝集固形分は下部より排出し、上澄み液は上部より排水処理工程に送る。 - 特許庁

To provide a membrane switch which does not need an independent component or printing process for keeping a gap between upper and lower membranes.例文帳に追加

本発明は、上下のメンブレンの間隙を確保するための独立した部品や印刷工程を必要としないメンブレンスイッチを提供する。 - 特許庁

In the process for fabricating a nonlinear element 10x, a lower electrode 13x is formed of a tantalum film containing tungsten and nitrogen.例文帳に追加

非線形素子10xの製造工程では、まず、タングステンおよび窒素を含有するタンタル膜によって下電極13xを形成する。 - 特許庁

To provide an artificial jewel production process in which sintering is performed rapidly and by heating at a temperature lower than heretofore by using electromagnetic waves.例文帳に追加

電磁波を利用して短時間で且つ従来に比して低温な加熱により焼結を行う人工宝石製造方法の提供。 - 特許庁

CATALYST COMPOSITION FOR INCREASING OCTANE NUMBER OF GASOLINE AND/OR LOWER OLEFIN, AND FLUIDIZED CATALYTIC CRACKING PROCESS OF HYDROCARBON USING THE SAME例文帳に追加

ガソリンのオクタン価及び/又は低級オレフィン増加用触媒組成物及びそれを使用した炭化水素の流動接触分解方法 - 特許庁

In the slot machine 1, if the game state is shifted to a treasure bonus process (S17), 23 treasure boxes 301 are displayed on a lower liquid crystal display 4.例文帳に追加

スロットマシン1では、トレジャーボーナス処理(S17)に移行すると、下部液晶ディスプレイ4に23個の宝箱301が表示される。 - 特許庁

The laser welding process minimizes the distortion of a cast lower tie plate of a debris filter by applying minimal heat during the welding.例文帳に追加

このレーザ溶接工程は、溶接中に最小限の熱を加えることによって、デブリフィルタの下部タイプレート14の歪みを最小化する。 - 特許庁

例文

Furthermore, a memory cell can be fabricated with significantly lower process cost and complicacy than those of the conventional deep trench capacitor arrangement.例文帳に追加

加えて、従来のディープ・トレンチ・キャパシタ構成よりも著しく少ないプロセスのコストおよび複雑さでメモリ・セルを形成することができる。 - 特許庁




  
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