「pattern beam」に関連した英語例文の一覧と使い方(25ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a slot array antenna having a required frequency bandwidth for the antenna so that a main beam of a directional radiation pattern is perpendicular to the radiating plane of the antenna.例文帳に追加

スロットアレーアンテナに必要な周波数の帯域幅をもたせると、放射指向性の主ビームがアンテナの放射面に垂直になるようなスロットアレーアンテナ - 特許庁

To form guide grooves or bits finer than the beam diameter of an exposure spot and to obtain a uniform pattern shape when track pitches are narrowed.例文帳に追加

露光スポットのビーム径よりも細い案内溝またはピットを形成することを可能とし、かつトラックピッチが狭くなった時に均一パタン形状を得るようにする。 - 特許庁

A pattern group composed of a plurality of fine patterns is formed by using the first clock signal and then blanking of the electron beam is performed by using the second clock signal.例文帳に追加

そして、第１クロック信号を用いて複数の微小パターンからなるパターン群を形成した後に、第２クロック信号を用いて電子線のブランキングを行う。 - 特許庁

In order to evaluate the pattern of a sample K, an electron beam 2a emitted from an electron gun 37 is made incident on a sample face Ka through an object lens 10.例文帳に追加

試料Ｋのパターンを評価するため、電子銃３７から放出される電子線２ａを対物レンズ１０を介して試料面Ｋａへ入射させる。 - 特許庁

To provide an electron beam exposure apparatus which can improve throughput and the accuracy of a formation pattern during partial batch exposure.例文帳に追加

部分一括露光において、スループットの向上を図るとともに、形成パターンの精度を向上させることのできる電子ビーム露光装置を提供すること。 - 特許庁

An electron beam projected on a mask 1 surface transfers the image of pattern formed on the mask 1 onto a sensitized substrate 2 through action of transfer lenses 4 and 5.例文帳に追加

マスク１面を照射した電子線は、マスク１に形成されたパーターンの像を、転写レンズ４、５の作用により感応基板２上に転写する。 - 特許庁

To provide a multi-layer structure and minute structure plotting method in which a pit pattern of diffraction limit or less can be formed using a laser beam.例文帳に追加

レーザー光を用いて回折限界以下のピットパターンを形成できる多層構造体及び微細描画方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

The reduction of doming and the lowering of power consumption are attained by performing ON/OFF control of an electron beam in synchronization with a mask aperture pattern.例文帳に追加

マスク開口パターンに同期して、電子ビームをＯＮ／ＯＦＦ制御することにより、ドーミングの大幅な低減、消費電力の低減を図ることができる。 - 特許庁

The interference fringe and the diffraction grating pattern are plotted by an electron beam lithographing device based on an image data generated by calculation by a computer.例文帳に追加

干渉縞や回折格子パターンは、コンピュータによる演算に基いて生成された画像データに基き、電子線描画装置によって描画される。 - 特許庁

A reference beam, which is spatially modulated and diffracted by an interference pattern formed on the holographic memory, is received by a photodetector 130.例文帳に追加

参照光はホログラフィックメモリに形成されている干渉パターンによって空間的に変調され、かつ回折されて、フォトディテクタ１３０で受光される。 - 特許庁

The truncation schedule lines are established in a grid pattern, the cruciform-like recesses 12 are formed by the irradiation of a laser beam to the respective intersections.例文帳に追加

切断予定ラインは碁盤目状に設定されており、それぞれの交差部分にレーザビームを照射することによって十字形状の凹部１２が形成される。 - 特許庁

The dot patterns 8 are formed on the emulsion layer side of the material 2 and a recessed part corresponding to the intensity of the laser beam 7 is formed immediately under each dot pattern 8.例文帳に追加

ドットパターン８は感光材料２の乳剤層側に形成されるが、その直下のフイルムベースにはレーザービーム７の強度に応じた凹部が形成される。 - 特許庁

By monitoring the variation of the curvature of the secondary lid surface based on the variation of the pattern caused on the beam surface plate, integrity of the canister is monitored.例文帳に追加

そして、光線定盤に生じた縞模様の変化に基づいて二次蓋表面の曲率変化を監視することにより、キャニスタの健全性を監視する。 - 特許庁

To make a light distribution pattern for high beam superior in long-range visibility in a projector type lighting fixture unit with a light emitting element as a light source.例文帳に追加

発光素子を光源とするプロジェクタ型の灯具ユニットにおいて、これにより形成されるハイビーム用配光パターンを遠方視認性に優れたものとする。 - 特許庁

A fine uneven pattern 5 is formed by applying CO_2 laser beam to the entire side circumferential surface of a barrel portion 4 of a blow-molded cosmetic container.例文帳に追加

ブロー成形された化粧料容器の胴体部４の側周面全体に、ＣＯ_２レーザを照射して微細凹凸模様５を形成するようにした。 - 特許庁

The main lobe of the auxiliary antenna 4 is controlled by using the complex weight to obtain an auxiliary beam whose shape is similar to the side lobe pattern shape by so-called directivity composition.例文帳に追加

この複素ウェイトを用いて補助アンテナ４のメインローブを制御し、いわば指向性合成により当該サイドローブパターン形状に類似の補助ビームを得る。 - 特許庁

A control device adjusts an intensity of the radiation beam so as to compensate an influence which the measured relative vibration has on the pattern projected onto the substrate.例文帳に追加

制御装置は、測定された相対的振動が基板上に投影されるパターンに及ぼす影響を補償するよう前記放射ビームのパワーを調整する。 - 特許庁

To provide an electron beam measuring technique for inspecting the shape, dimensions, presence of an defect, and the like in regard to a pattern formed on a sample through a multiple exposure method.例文帳に追加

多重露光法により試料上に形成されたパターンの形状、寸法、または欠陥の有無等の検査を行う電子ビーム測定技術を提供する。 - 特許庁

To provide an antenna device which has an omnidirectional horizontal radiation pattern and can set the direction of a main beam to a desired direction in a vertical plane.例文帳に追加

水平面指向性が無指向性であり、かつ垂直面では主ビームの方向を所望の方向に設定することが可能なアンテナ装置を提供する。 - 特許庁

To obtain an apparatus a method for X-ray beam exposure system, with which a pattern of high resolution can be obtained, using X rays within a range of 0.45 to 0.7 nm.例文帳に追加

０．４５ｎｍ〜０．７ｎｍの範囲内のＸ線を用いて高解像度のパターンが得られるＸ線露光装置やＸ線露光方法を得ること - 特許庁

The vibration are predicted after behavior of vibration generating sources are leaned in advance to perform feedforward control of a beam position, so that formed pattern precision is further improved.例文帳に追加

振動発生源の動作を予め知った上で振動を予測し、ビーム位置をフィードフォワード制御するので、形成するパターンの精度を一層向上できる。 - 特許庁

To provide lithography equipment in which a patterned radiation beam is projected on a substrate from a pattern-forming device by using a projection system.例文帳に追加

投影系を用いてパターン形成装置から基板上にパターン化された放射線ビームを投影するように構成されたリソグラフィ装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a nanoimprint mold, a manufacturing method of an optical element, and a forming method of a resist pattern capable of forming a resist pattern in which circular patterns of about 200 nm are regularly arranged with a practical productivity by using a variable shaped beam electron beam writer and forming a uneven nano-structure from the resist pattern.例文帳に追加

本発明は、可変成型ビーム方式の電子線描画装置を用いて、実用的な生産性で、２００ｎｍ前後の円形パターンが規則的に配列したレジストパターンを形成し、前記レジストパターンからナノ凹凸構造体を形成することができるナノインプリントモールドの製造方法、光学素子の製造方法、およびレジストパターンの形成方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

The lithography device comprises a lighting system which supplies projection beams, a structure for supporting a pattern forming unit which is so constituted that the pattern forming device gives the section of a beam a pattern, a substrate table which retains a substrate, a projection system which projects a patterned beam to a target portion on the substrate, and an adjustment system which adjusts the substrate.例文帳に追加

本発明のリソグラフィ装置は、放射ビームを提供する照明系と、パターン形成装置を支持する構造体であって、パターン形成装置がビームの断面にパターンを与えるように構成された構造体と、基板を保持する基板テーブルと、パターンの形成されたビームを基板のターゲット部分に投影する投影システムと、基板を調節する調節システムとを含む。 - 特許庁

The lithography device comprises a lighting system which supplies projection beams, a structure for supporting a pattern forming unit which structure is so constructed that the pattern forming device gives the section of a beam a pattern, a substrate table which retains a substrate, a projection system which projects a patterned beam onto target portions on the substrate, and an adjustment system which adjusts the substrate.例文帳に追加

本発明のリソグラフィ装置は、放射ビームを提供する照明系と、パターン形成装置を支持する構造体であって、パターン形成装置がビームの断面にパターンを与えるように構成された構造体と、基板を保持する基板テーブルと、パターンの形成されたビームを基板のターゲット部分に投影する投影システムと、基板を調節する調節システムとを含む。 - 特許庁

A lithography apparatus of the present invention comprises: a lighting system which supplies projection beams; a structure for supporting a pattern forming device which is constituted so that the pattern forming device gives a section of a beam a pattern; a substrate table which retains a substrate; a projection system which projects a patterned beam to a target portion on the substrate; and an adjustment system which adjusts the substrate.例文帳に追加

本発明のリソグラフィ装置は、放射ビームを提供する照明系と、パターン形成装置を支持する構造体であって、パターン形成装置がビームの断面にパターンを与えるように構成された構造体と、基板を保持する基板テーブルと、パターンの形成されたビームを基板のターゲット部分に投影する投影システムと、基板を調節する調節システムとを含む。 - 特許庁

The processing method includes a basic shape forming step of forming a recess pattern smaller in depth than a recess shape on a surface of a workpiece; and a shape growth step of irradiating the recess pattern with laser light which has a beam diameter larger than a width of the recess pattern so as to process the recess shape.例文帳に追加

被加工物表面に前記凹形状よりも深さが浅い凹形パターンを形成する基本形状形成工程と、前記凹形パターンの幅よりも大きいビーム径のレーザ光を、前記凹形パターンに照射して、凹形状を加工する形状成長工程とを有する。 - 特許庁

To provide a light control device by which light having a desired beam section is obtained in a technology for presenting a phase pattern formed by superposing a phased grating pattern and a phase pattern having predetermined phase modulation distribution to a space light modulator of a phase modulation type.例文帳に追加

ブレーズドグレーティングパターンと所定の位相変調分布を有する位相パターンとが重畳されてなる位相パターンを位相変調型の空間光変調器に呈示させる技術において所望のビーム断面を有する光を得ることができる光制御装置を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method, capable of making a pattern groove which is provided to a resin film by irradiating the film with a laser beam stable in depth and high in accuracy, stabilizing the characteristics of a pattern which is formed on a board through printing by the use of the resin film as an intaglio, easily forming a pattern groove of high accuracy, and improving an electronic part in productivity.例文帳に追加

樹脂フィルムにレーザー光線によって形成するパターン溝の深さが安定し、精度の高いパターン溝ができ形成、この樹脂フィルムを凹版として印刷により基板に形成するパターンの特性値が安定し、精度が高いパターン溝が容易に形成でき、生産性が高まる。 - 特許庁

This method forms a mask pattern 13a on the treatment film, forms a hardened portion 12a on the treatment film by injecting energy such as an electron beam to the treatment film with the mask pattern set as a mask, and then forms a groove 12b by providing anisotropic etching to the hardened portion of the treatment film with the mask pattern set as a mask.例文帳に追加

この上にマスクパターン１３ａを形成し、このマスクパターンをマスクに被加工膜に向けて電子線等のエネルギー注入を行って被加工膜に硬化部位１２ａを形成し、このマスクパターンをマスクに被加工膜の硬化部位を異方性エッチングし溝１２ｂを形成する。 - 特許庁

Titanium nitride film (third TiN film 13) is formed in a covering state of the sacrificial layer pattern made of the second HCD-SiN film 9, and the film is patterned, thereby forming an oscillating beam (structure pattern) 13a of which end is supported on the substrate surface across the sacrificial layer pattern.例文帳に追加

第２ＨＣＤ−ＳｉＮ膜９からなる犠牲層パターンを覆う状態で窒化チタン膜（第３ＴｉＮ膜１３）を成膜し、これをパターニングすることによって犠牲層パターンを跨いでその下地面上に端部が支持された振動ビーム（構造体パターン）１３ａを形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a photomask, which can prevent the occurrence of positional deviation error of a drawing pattern due to electron beam in a mask manufacturing step and the deterioration in yield due to the occurrence of the positional deviation of the pattern when a circuit pattern is transferred to a semiconductor wafer by using a photomask deflected by distortion of a glass substrate of the photomask.例文帳に追加

フォトマスクのガラス基板の歪みなどにより撓んだフォトマスクを使用することにより、マスク製造工程での電子ビームによる描画パターンの位置ズレ誤差の発生や、回路パターンが半導体ウエハに転写される際のパターンの位置ズレ発生による歩留まりが低下するのを防ぐ。 - 特許庁

To provide a light control device by which light having a desired beam section is obtained in a technology for presenting a phase pattern formed by superposing a blazed grating pattern and a phase pattern having predetermined phase modulation distribution on a phase modulation type space light modulator.例文帳に追加

ブレーズドグレーティングパターンと所定の位相変調分布を有する位相パターンとが重畳されてなる位相パターンを位相変調型の空間光変調器に呈示させる技術において所望のビーム断面を有する光を得ることができる光制御装置を提供する。 - 特許庁

The collective transfer areas 13 and 14 of an electron beam transfer mask are arranged in such a way that the areas 14 (hatched areas) having higher pattern densities and the areas 13 (white areas) having lower pattern densities are arranged in a state of a checker flag, so that the pattern densities may be averaged on the whole surface of the wafer.例文帳に追加

電子ビーム転写用マスクの一括転写領域１３，１４を、パターン密度の高い領域１４（斜線領域）と、パターン密度の低い領域１３（白色領域）とをチェッカーフラッグのように配列するようにして、ウエハ全面上でパターン密度が平均化されるように配列する。 - 特許庁

The film pattern consists of an opening-restricting film pattern for restricting the opening for laser beams of two wavelengths in accordance with the difference in the transmissivities and a rim strength correcting film pattern for reducing a transmitted light quantity, in an area including an ellipse major axis with respect to a laser beam of three wavelengths constituting the elliptic shape in the cross-sectional shape.例文帳に追加

膜パターンは、２波長のレーザビームを透過率の違いで開口制限する開口制限用膜パターンと、断面形状が楕円形を成す３波長のレーザビームに対してその楕円長軸を含む領域での透過光量を低下させるリム強度補正用膜パターンと、から成る。 - 特許庁

A surface layer part of the internal layer pattern is subjected to etching by making incident the pulse laser beam in the ultraviolet range on the internal layer pattern so as to make the pulse energy density on the surface of the internal layer pattern exposed on a bottom face of the hole to become second pulse energy density which is larger than the first pulse energy density.例文帳に追加

穴の底面に露出した内層パターンの表面におけるパルスエネルギ密度が、第１のパルスエネルギ密度よりも大きな第２のパルスエネルギ密度になるように、該内層パターンに紫外域のパルスレーザビームを入射させて、該内層パターンの表層部をエッチングする。 - 特許庁

In some embodiments, a converged gallium ion beam not containing a deposition precursor gas is scanned on a silicon substrate with a pattern to form a conductive pattern, and copper structure is formed on the conductive pattern by electrochemical deposition with one or more kinds of metals.例文帳に追加

いくつかの実施形態では、付着前駆体ガスを含まない集束ガリウム・イオン・ビームが、シリコン基板上をあるパターンで走査して、導電パターンを生成し、次いでこの導電パターン上に、１種または数種の金属の電気化学付着によって銅構造が形成される。 - 特許庁

To provide a dimension measuring pattern, a formation method therefor and a dimension measuring method by which, when the dimension measuring pattern wherein the same formation patterns are periodically arranged is measured by using a charged particle beam, a designated specific pattern can be measured without fail.例文帳に追加

同一形状パターンが周期的に配列された寸法測定パターンを荷電粒子線を用いて測定する際に、指定された特定のパターンを確実に測定することができる、寸法測定パターン、当該寸法測定パターンの形成方法、および寸法測定パターンの測定方法を提供する。 - 特許庁

To provide a stencil mask facilitating thickness reduction and stress adjustment, high in mechanical strength, excelling in electron beam irradiation resistance, suitable for providing a stencil mask for electron beam exposure, simple in a manufacturing process, and high in pattern position accuracy; a method of manufacturing the same; and a method of transferring a pattern for the same.例文帳に追加

薄膜化及び応力調整が容易であるとともに、機械的強度が高くかつ電子線照射耐性に優れた電子線露光用のステンシルマスクを得るために好適で、かつ製造プロセスが簡便かつパターン位置精度の高いステンシルマスク、その製造方法、およびそのパターン転写方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

After the shape of a main size pattern 3a is plotted on the electron beam resist, the positional coordinates of the electron beam is corrected by adequately reading the positional coordinates of the patterns 4a to 4d in optional number of times and referring to the positional deviation from the positional coordinates of the patterns 4a to 4d for correction obtained before the pattern 3a is plotted.例文帳に追加

電子線レジストに主尺パターン３ａの形状を描画した後、補正用パターン４ａ〜４ｄの位置座標を任意の回数、適時読み取り、主尺パターン３ａの描画前の補正用パターン４ａ〜４ｄの位置座標からの位置ずれを参照して、電子ビームの位置座標を補正する。 - 特許庁

To provide a pattern drawing method and a pattern drawing device which are capable of realizing uniform exposure without elongating a drawing time even if an energy variation is large in the pulse laser beam of a light source when a gray scale is reproduced through the frequency of overlapping spots in the laser beam drawing device using a digital mirror device.例文帳に追加

デジタルミラーデバイスを用いたレーザビーム描画装置におけるスポットの多重回数でグレースケールを再現する場合に、光源のパルスレーザ光のエネルギーばらつきが大きくても、描画時間が長くならずに、均一な露光量を得ることが可能なパターン描画方法、及びパターン描画装置を提供する。 - 特許庁

In a radio receiver provided in a vehicle 50, an array antenna 100 has a first radiation pattern having a beam direction substantially in a going direction of the vehicle 50 and a second radiation pattern having a beam direction substantially in a direction opposite to the going direction 51 of the vehicle 50.例文帳に追加

車両５０に設けられた無線受信装置において、アレーアンテナ１００は、車両５０の進行方向５１に対して実質的にビーム方向を有する第１の放射パターンと、車両５０の進行方向５１の逆方向に対して実質的にビーム方向を有する第２の放射パターンとを有する。 - 特許庁

To enhance reliability and productivity of semiconductor devices by preventing anomalous electrostatic charging of a circuit pattern, and controlling electrostatic charge voltage to a desired value uniformly in an electron-beam irradiation region in a method of inspecting the position and the type of defect on a wafer having a circuit pattern using a charged-particle beam during a semiconductor manufacturing process.例文帳に追加

荷電粒子線を用いて、半導体製造工程途中の回路パターンを持つウエハ上の欠陥の位置や種類を検査する方法において、回路パターンの異常な帯電を防ぎ、電子線照射領域を均一に、所望の帯電電圧に制御し、半導体装置の信頼性および生産性を高める。 - 特許庁

This surface film for a polarizer is configured by printing a transparent pattern having the regularity of invisible beam reflexibility on the surface of a substrate, and forming a reflection prevention layer or an antidazzle layer on this or on the back face, wherein ink configuring the transparent pattern contains materials on which the invisible beam is reflected.例文帳に追加

基板の表面に非可視光線反射性の規則性を有する透明パターンが印刷され、その上に又は裏面に反射防止層又は防眩層が形成されてなるフィルムであって、該透明パターンを構成するインキが非可視光線を反射する材料を含むことを特徴とする偏光板用表面フィルムである。 - 特許庁

When the traveling pattern of the cart 1 is designated from a control and monitor device 4, the communication controller 10 performs the traveling control of the cart and the beam direction control so that the traveling pattern can be realized, and the communication controller 20 performs the beam direction control at the same time so that an optical transmission line during the traveling of the mobile cart can be ensured.例文帳に追加

操作・監視装置４から台車１の走行パターンが指定されると、そのパターンとなるように通信制御装置１０は台車の走行制御とビーム方向制御を行い、同時に通信制御装置２０もそのビーム方向制御を行って、走行中の光伝送路を確保する。 - 特許庁