「pattern beam」に関連した英語例文の一覧と使い方(23ページ目) - Weblio英語例文検索

To form a pattern (e.g., a print character, a design) having good printing reproducibility in terms of thin line, on a resin screen printing plate with a laser beam with hardly affecting a resin screen gauze used for the formation of the pattern.例文帳に追加

レーザ光により樹脂スクリーン印刷版にパターン（印刷文字、図案など）を形成させる際、樹脂スクリーン紗にほとんど影響を与えることなく、かつ細線の印刷再現性のよいパターンを形成する。 - 特許庁

The position of each laser opening head is adjusted depending on the determined opening pattern and the timing of irradiation of the laser beam through each laser opening head is adjusted depending on the indicated opening pattern.例文帳に追加

また指定された開孔パターンに応じて前記各レーザ開孔ヘッドの位置を調整すると共に、指定された開孔パターンに応じて前記各レーザ開孔ヘッドを介するレーザ光の照射タイミングを調整する。 - 特許庁

A light-shielding film 3 and a photosensitive material layer 5 are formed on a quartz substrate 1 (A), a photosensitive material pattern 5a is formed by electron beam lithography (B) and a light-shielding film pattern 3a is formed by dry etching (C).例文帳に追加

石英基板１上に遮光膜３及び感光性材料層５を形成し（Ａ）、電子線描画により感光性材料パターン５ａを形成し（Ｂ）、ドライエッチングにより遮光膜パターン３ａを形成する（Ｃ）。 - 特許庁

Each light distribution pattern formed of each light source module 10a to 10d is set by changing curvatures of the projection lens, and the low-beam light distribution pattern is formed by synthesis of those light distribution patterns.例文帳に追加

各光源モジュール１０ａ〜１０ｄで形成される夫々の配光パターンは投影レンズの曲率を変えることで設定され、それら配光パターンの合成によってすれ違いビーム用配光パターンが形成される。 - 特許庁

The antenna pattern 2 can be constituted of a coil, or the antenna pattern 2 can be constituted by carrying out fine working such as etching working or laser beam working to a conductive film formed on the surface of the insulating layer 4.例文帳に追加

アンテナパターン２は、巻線をもって構成することもできるし、絶縁層４の表面に形成された導体膜に例えばエッチング加工やレーザビーム加工等の微細加工を施すことにより構成することもできる。 - 特許庁

When the solder resist pattern made of a cured film of the solder resist composition is formed on the printed wiring board, it can be easily determined through a laser beam reflection method whether the solder resist pattern is formed properly.例文帳に追加

上記ソルダーレジスト組成物の硬化皮膜からなるソルダーレジストパターンが形成されたプリント配線板は、ソルダーレジストパターンが適正に形成されているかどうかの良否をレーザー光反射法により簡単に判定できる。 - 特許庁

To contribute to the improvement of semiconductor product quality by obtaining a pattern of high dimensional uniformity for an arbitrary pattern, without being affected by an aberration distribution which originates from an electron beam exposure system.例文帳に追加

電子ビーム露光装置に起因する収差分布の影響を受けることなく、任意のパターンに対して寸法均一性の高いパターンを得ることを可能とし、半導体製品の品質向上に寄与することを目的とする。 - 特許庁

To provide a charged particle beam drawing device and a drawing method by which a pattern can be accurately and easily drawn even when the drawing region of the drawing pattern to be formed on the surface of a sample is large.例文帳に追加

試料の表面に形成する描画パターンの描画領域が大きい場合でも、描画パターンを正確、かつ容易に描画することができる荷電粒子ビーム描画装置および描画方法を提供する。 - 特許庁

A resist master disk RD is exposed using enlarging masks MK along a rugged pattern by an electron beam(EB) plotting method in which lump-sum exposure is performed for each predetermined area while reducing the pattern of the enlarging masks.例文帳に追加

凹凸形状のパターンに沿った拡大マスクＭＫを用いて、当該拡大マスクのパターンを縮小しながら所定領域毎に一括露光する電子線（ＥＢ）描画法により、レジスト原盤ＲＤを露光する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method suitable for fine pattern formation with an electron beam, X-ray or extreme ultraviolet radiation, and a radiation-sensitive resin composition and a radiation-sensitive acid generation group-containing resin for use in the same.例文帳に追加

電子線、Ｘ線、極紫外線による微細パターン形成に好適なパターン形成方法並びにそれに用いられる感放射線性樹脂組成物及び感放射線性酸発生基含有樹脂を提供する。 - 特許庁

The device transmits the beam 17 from the terminal 12 with two different scanning patterns, i.e., a circular flowered pattern 625 or 650 of the center for cancellation and a spiral pattern 600 for the remaining part of scanning.例文帳に追加

装置は２つの異なる走査パターン、即ち相殺の中央部分のための円花飾りパターン（６２５又は６５０）及び走査の残りの部分のための螺旋パターン（６００）でターミナル（１２）からのビーム（１７）を伝達する。 - 特許庁

To provide a method of estimating the shape of a resist pattern formed by exposure using a charged particle beam exposure device which exactly simulates the resist pattern and does not take a so long time for calculation thereof.例文帳に追加

荷電粒子線露光装置を使用して露光を行った場合に、形成されるレジストパターンを正確にシミュレートでき、かつ計算時間があまり長時間とならないレジストパターン形状の推定方法を提供する。 - 特許庁

When the coil pattern is energized, a driving force is generated between the coil pattern and a permanent magnet installed around the movable part 13, with the movable part 13 oscillated in the direction in which the beam part 12 is twisted on the support 11 as a fulcrum.例文帳に追加

コイルパターンに通電すると、可動部１３周辺に設置された永久磁石との間に駆動力が発生し、可動部１３は支持部１１を支点として梁部１２が捻じれる方向へ揺動する。 - 特許庁

The recording device includes a beam deflection section for relatively moving an irradiation position of the exposure beam with respect to a substrate; a substrate velocity adjustment section for adjusting a moving velocity of the substrate according to roughness and fineness of the latent pattern; and a deflection control section for controlling to change a deflection velocity of the exposure beam during formation of the latent pattern according to the moving velocity of the substrate.例文帳に追加

基板に対して相対的に露光ビームの照射位置を移動させて潜像パターンの記録を行なうビーム偏向部と、潜像パターンの疎密に応じて基板の移動速度を調整する基板速度調整部と、潜像パターンの形成時における露光ビームの偏向速度を基板の移動速度に対応させて変化させる制御をなす偏向制御部と、を有する。 - 特許庁

To provide a lamp with double filament type in which, by suppressing that light emitted from a low beam filament for passing is reflected by inner lead wires supporting a high beam filament for driving, occurrence of irregular reflection light which does not contribute to formation of low beam light distribution pattern and gives an adverse effect is prevented, and thereby, an optimal light distribution pattern can be formed.例文帳に追加

ダブルフィラメントタイプの電球において、すれ違いビーム用フィラメントから放出された光が走行ビーム用フィラメントを支持する内部リード線で反射されるのを抑制することによって、すれ違い用配光パターンの形成に寄与せず、且つ有害な影響を与える乱反射光の発生を防止し、よって最適な配光パターンの形成が可能となるようにすること。 - 特許庁

The essential information reproducing method involves; radiating a beam onto a pattern of crystalline and amorphous marks in which essential information of the optical disk is recorded; receiving the beam reflected from the pattern of crystalline and amorphous marks and photoelectrically converting the received beam to detect a signal; filtering the detected signal through a high-pass filter; and reproducing the essential information of the optical disk from the filtered signal.例文帳に追加

光ディスクの固有情報再生方法は、固有情報が記録されたマークの配列パターンにビームを照射し、そのマークの配列パターンから反射されたビームを光検出器で受光した後で光電変換して信号を検出し、さらに前記検出された信号を高域通過フィルタでフィルタリングし、前記フィルタリングされた信号から光ディスクの固有情報を再生する。 - 特許庁

To provide an aligner or the like capable of reducing position deviations of a beam due to an eddy current and performing highly accurate pattern forming on a stage moving at a high speed.例文帳に追加

渦電流によるビームの位置ずれを低減でき、高速移動するステージ上での高精度な描画を可能な露光装置等を提供する。 - 特許庁

Each of right side lamp 30R and left side lamp 30L irradiates regions including an upper part from a cutoff line of a luminous intensity distribution pattern for a low beam.例文帳に追加

左側灯具３０Ｌおよび右側灯具３０Ｒは、それぞれロービーム用配光パターンのカットオフラインから上方を含む領域を照射する。 - 特許庁

The measuring method is for measuring the precision of drawing by writing a pattern for measurement by irradiating a beam upon a base material for measurement.例文帳に追加

測定用基材に対してビームを照射することにより測定用描画パターンを描画して描画の精度を測定する測定方法である。 - 特許庁

To provide a defect inspection apparatus capable of highly accurately detecting pattern defects without reducing the light quantity of a laser beam used for defect detection.例文帳に追加

欠陥検出に用いるレーザ光の光量が低減することなく、パターン欠陥の検出を高感度にて行うことができる欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

Then the mask area 11 with the X-direction pattern P1 arranged therein is exposed to an electron beam EB having smaller out-of-focus in the X-direction as compared with the Y-direction.例文帳に追加

そして、Ｘ方向パターンＰ１が配置されたマスク領域１１にはＸ方向に比べてＹ方向のぼけが小さい電子線ＥＢで露光する。 - 特許庁

To provide a defect inspecting device that embodies high resolution and a fast inspection speed for a technique for inspecting a pattern on a wafer by using an electron beam.例文帳に追加

電子ビームを用いたウェハ上パターンを検査する技術において、高分解能で、かつ検査速度の高速化を実現する欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

A semiconductor laser element is driven by the outputted image split pattern to emit laser beam to form a potential latent image on a photosensitive body not shown in a drawing.例文帳に追加

半導体レーザ素子は出力される画像分割パターンにより駆動されてレーザ光を発光し、不図示の感光体に電位潜像を形成する。 - 特許庁

In this method, when operating autofocus, a scanning pattern of an electron beam optimum to operate the autofocus is selected in advance according to the surface structure of a sample 5.例文帳に追加

オートフォーカス動作の際には、あらかじめ試料５の表面構造に応じて、オートフォーカスを行うのに最適な電子ビームの走査パターンの選択が行われる。 - 特許庁

To provide an anti-static film forming composition used for an upper layer of an electron beam resist, a resist pattern using it, and a method of manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

電子線レジストの上層に用いられる帯電防止膜形成組成物とそれを用いたレジストパターン及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

As a result, a scanning display device changes a speckle noise pattern resulting from an interference phenomenon of a laser light beam, and reduces a speckle noise by a temporal averaging effect.例文帳に追加

その結果、レーザ光ビームの干渉現象に起因するスペックルノイズパターンを動的に変化させ、時間的平均化効果により、スペックルノイズを低減する。 - 特許庁

The laser beams from the laser light sources of three primary colors are successively switched by a beam chopper to form the interference pattern, whereby the color three-dimensional animation is recorded.例文帳に追加

３原色のレーザ光源からのレーザ光をビームチョッパにより順次切り替えて干渉パターンを形成することによりカラー立体動画が記録される。 - 特許庁

Next, each subaperture is divided into two interferential subsets of the beam pattern with a round/linear layout in the directions of different coordinates in the multi-dimensional layout.例文帳に追加

次に各サブアパーチャを多次元配列の異なる座標方向に円形及び／又は線形配列のビームパターンの２つの干渉性サブセットに分解する。 - 特許庁

To improve the layout of a pattern definition device in a particle-beam exposure apparatus to become a layout which lends itself to a production by inexpensive state-of-the-art processes.例文帳に追加

粒子ビーム露光装置におけるパターン規定デバイスのレイアウトを、廉価な最新のプロセスによる製造に適するレイアウトになるように改善する。 - 特許庁

Thereby, an initial focus of the primary electron beam can be well focused to a requested domain of in the sample surface, and pattern shift phenomenon generation can be reduced.例文帳に追加

これにより、試料表面での所望の領域に１次電子ビームの初期フォーカスを良好に合わせられ、パターンシフト現象発生を減らせる。 - 特許庁

In this system, reflectors with specific pattern formed (10a) and (10b) are secured to the axle (2) of a shaft rotor (1), and then irradiating means (20) has a laser beam irradiated to these reflectors.例文帳に追加

軸回転体(1)の回転軸(2)に、特定の模様が形成された反射体(10a)、(10b)を固定し、それらに対して照射手段(20)がレーザ光を照射する。 - 特許庁

When the movable reflectors 13U, 13D are at a first position, a low-beam light distribution pattern LP is obtained by the reflecting surfaces 2U, 2D of the fixed reflector 3.例文帳に追加

可動リフレクタ１３Ｕ、１３Ｄが第１位置に位置するときには、固定リフレクタ３の反射面２Ｕ、２Ｄでロービーム用配光パターンＬＰが得られる。 - 特許庁

As a result, the luminous intensity in the hot zone HZ of the low-beam light distribution pattern P can be increased by the diffusion type light distribution sub-patterns LP and RP.例文帳に追加

この結果、すれ違い用の配光パターンＰのホットゾーンＨＺの光量を拡散タイプのサブ配光パターンＬＰ、ＲＰで上げることができる。 - 特許庁

(3) A gain condition at the five constraint points is set to a peak gain or larger of the beam pattern of the initial value, and a minimum gain or smaller in a predetermined service area.例文帳に追加

３）上記５拘束点での利得条件を初期値のビームパターンのピーク利得以上及び所定サービスエリア内での最低利得以下に設定する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam exposing mask suppressing or eliminating non-opening or opening failure of a desired pattern and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

所望のパターンの未開口や開口不良を抑止ないしは解消することを可能とする荷電粒子線露光用マスクとその製造方法を提供する。 - 特許庁

To increase the visibility of a pattern display which is formed on the road surface by a beam regarding a vehicle operation-supporting system.例文帳に追加

本発明は、車両運転支援システムに関し、光ビームにより道路路面に形成されるパターン表示の視認性を向上させることを目的とする。 - 特許庁

In production of the beam structure 144 having the step portion 160 by wet etching, an etching substance 400 is coated with a mask pattern 450.例文帳に追加

ステップ部１６０を有するはり構造体１４４をウエットエッチングによって製作するために、被エッチング材４００にマスクパターン４５０をコーティングする。 - 特許庁

To enable to accurately form a bright low-beam light distribution pattern for a projector type headlight for a vehicle by cutting short a longitudinal length of a lighting tool.例文帳に追加

プロジェクタ型の車両用前照灯において、灯具前後長を短縮した上で、明るいロービーム用配光パターンを精度良く形成可能とする。 - 特許庁

Accordingly, colored light, for example, blue light in the vicinity of the cut-off lines CL1, CL2, CL3 of the low beam light distribution pattern P can be extinguished.例文帳に追加

このために、すれ違い用の配光パターンＰのカットオフラインＣＬ１、ＣＬ２、ＣＬ３付近の着色光たとえば青色光を消すことができる。 - 特許庁

To provide an electron beam exposure system which can rapidly adjust the line width of a pattern exposed to a wafer, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

ウェハに露光されるパターンの線幅の調整を迅速に行うことのできる電子ビーム露光装置及び半導体素子製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a means for measuring the shot position of a beam which changes at about such frequency as shot cycle at a high speed, without performing pattern drawing.例文帳に追加

本発明は、パターン描画を行わずに、ショットサイクル程度の周波数で高速に変化するビームのショット位置を計測する手段を提供する。 - 特許庁

Then, after a character pattern 53 for presentation performs a specified action, a voice of 'magical beam' is outputted as indicated in a balloon 53b.例文帳に追加

次に、演出用のキャラクタ図柄５３が所定の動作を行った後、吹き出し５３ｂに表示されている「マジカルビーム！」という音声が出力される。 - 特許庁

To provide a beam exposure apparatus using a translatory stage and a spindle rotation mechanism, in which a circular arc pattern is transferred by exposure onto a master, with a simple and inexpensive circuit configuration.例文帳に追加

直動ステージとスピンドル回転機構を用いたビーム露光装置において、簡単で安価な回路構成で、円弧パターンを原盤に露光する。 - 特許庁

METHOD OF CALCULATING IRRADIATION ENERGY, METHOD OF CALCULATING PROXIMITY EFFECT, METHOD OF DESIGNING MASK OR RETICLE PATTERN, CHARGED-PARTICLE-BEAM EXPOSURE SYSTEM, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

照射エネルギーの計算方法、近接効果計算方法、マスク又はレチクルパターンの設計方法、荷電粒子線露光装置及び半導体デバイスの製造方法 - 特許庁

This unit 60 inserts or deletes a space in a printed dot pattern by selectively inserting or deleting a little delay in the image stream by a laser beam.例文帳に追加

レーザ走査装置は、レーザビームの画素データストリームに対しわずかな遅延を挿入または削除することにより、レーザ書込み周波数を調整する。 - 特許庁