「pattern beam」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

A discharge lamp lighting circuit 100 supplies power to a discharge lamp 226 used as a light source of a headlight unit which can switch between a high beam state and a low beam state which is different from a light distribution pattern of the high beam state by a light distribution changer.例文帳に追加

放電灯点灯回路１００は、配光変更手段によってハイビーム状態とハイビーム状態とは配光パターンが異なるロービーム状態とを切替可能な前照灯ユニットの光源として使用される放電灯２２６に電力を供給する。 - 特許庁

One or ones of the resistance branches (8a) of the resistance pattern (8) are cut off by a laser beam to thereby change the resistance value of the resistance pattern (8) so that the voltage which will be imposed on the liquid crystal is adjusted.例文帳に追加

抵抗パターン（８）の抵抗枝（８ａ）の１つ又はいくつかをレーザ光によって切断することにより、抵抗パターン（８）の抵抗値を変化させ、液晶に印加する電圧を調節する。 - 特許庁

As a result, the unused light can be distributed as the diffusive light distribution pattern WP to be effectively utilized without changing (reducing) the quantity of light of the reference light distribution pattern LP for low beam.例文帳に追加

この結果、ロービーム用の基準配光パターンＬＰの光量を変えずに（減らさずに）、使用されていなかった光量を拡散配光パターンＷＰとして振り分けて有効利用することができる。 - 特許庁

Fine particles (102) of conductive material are arranged in a desired pattern on a board (a), and the fine particles (102) arranged in the desired pattern are scanned with an energy beam (103) indicated by an arrow (b).例文帳に追加

基板（１０１）上に、導電性物質からなる微粒子（１０２）を所望のパターンに配列し（ａ）、矢印で示したエネルギービーム（１０３）で所望のパターンに配列した微粒子（１０２）を狙ってスキャンする（ｂ）。 - 特許庁

To improve a visibility of lane mark sufficiently in a vehicular illuminating lamp device which is composed so that light distribution pattern for lane mark illumination may be formed in overlay with respect to light distribution pattern for low beam.例文帳に追加

ロービーム用配光パターンに対してレーンマーク照射用配光パターンを重畳的に形成し得るように構成された車両用照明灯具において、レーンマークの視認性を十分に高める。 - 特許庁

In this repair method, irradiation of charged particle beam is selectively performed at least two times to a black defect part 13 generated on the transfer pattern, and correction of the transfer pattern is performed.例文帳に追加

このリペア方法は、該転写パターンに生じた黒欠陥部１３に少なくとも２回の荷電粒子線の照射を選択的に行うことにより該転写パターンの修正を行うものである。 - 特許庁

The surface forming method is a method for forming a desired pattern in a calcium fluoride substrate and has a step for irradiating the substrate with a beam through a mask in which the above desired pattern has been formed.例文帳に追加

弗化カルシウム基板に所望のパターンを形成する方法であって、前記所望のパターンが形成されたマスクを介して前記基板にビームを照射するステップを有する形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection device for pattern defects, capable of realizing high reliability stable pattern defect inspection, having high resolution relative to minute patterns by using an ultraviolet laser beam as the light source.例文帳に追加

紫外レーザ光を光源として微細パターンを高解像度で、しかも安定したパターン欠陥検査を高信頼性で実現するようにしたパターン欠陥検査装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a resist composition excellent in a pattern profile, reproducibility of a beam form and resolution relating to pattern formation by irradiation of active rays or radiation, particularly electron beams, X-rays or EUV light.例文帳に追加

活性光線又は放射線、特に電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光の照射によるパターン形成に関して、パターンプロファイル、ビーム形状再現性、解像力に優れたレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

A plateau area of a distribution pattern of a power density in a diffracted image on the photocathode is larger than that of a distribution pattern of a power density in a cross section of the laser beam before entering the optical diffraction element.例文帳に追加

フォトカソードの表面上における回折像のパワー密度分布の頂部の平坦な部分が、回折光学素子入射前のレーザビームのビーム断面内におけるパワー密度分布のそれより広い。 - 特許庁

To form a light distribution pattern for over-head signal (OHS) irradiation after achieving downsizing and weight saving of a shade, for a projector type vehicle headlight composed to form a low-beam light distribution pattern.例文帳に追加

ロービーム用配光パターンを形成するように構成されたプロジェクタ型の車両用前照灯において、シェードの小型軽量化を図った上で、ＯＨＳ照射用配光パターンを形成可能とする。 - 特許庁

According to this structure, partial shrinkage of a pattern which is caused by the electron beam emitted for measurement or inspection can be suppressed to improve the overall accuracy of pattern formation in the semiconductor wafer.例文帳に追加

当該構成によれば、測定や検査のために行われる電子ビームによって生ずる部分的なパターンのシュリンクを抑制し、半導体ウェーハ全体でパターンの形成精度を向上することが可能となる。 - 特許庁

A near field pattern of a laser beam L outputted from a semiconductor laser device LD is to be a parallel flux by a collimator lens 26, then the pattern is imaged on an aperture member 20 by a first lens 18.例文帳に追加

半導体レーザＬＤから出力されたレーザビームＬのニアフィールドパターンは、コリメータレンズ２６によって平行光束とされた後、第１レンズ１８によってアパーチャ部材２０上に結像される。 - 特許庁

The patterned beam PB of radiation includes a pattern for forming device features in areas of a product die and a pattern for use in forming features of an alignment mark 101 in other areas.例文帳に追加

放射線のパターン形成ビームＰＢは、製品ダイの領域にデバイス・フィーチャーを形成するためのパターン、および他の領域にアラインメントマーク１０１のフィーチャーを形成する際に使用するパターンを含む。 - 特許庁

To provide a pattern forming apparatus capable of improving drying efficiency of a droplet in flying in the pattern forming apparatus for drying the droplet in flying by irradiating with laser beam to the flying droplet.例文帳に追加

飛行中の液滴にレーザ光を照射して飛行中の液滴を乾燥させるパターン形成装置において、飛行中の液滴の乾燥効率を向上させるパターン形成装置を提供する。 - 特許庁

This reticle repair method has a pattern transfer section comprising an electron beam scattering body and is a method of correction processing of the pattern defect of the reticle 13 used in exposure by electron beams.例文帳に追加

本発明に係るレチクルリペア方法は、電子線散乱体から構成されたパターン転写部を有し、電子線で露光する時に用いるレチクル１３のパターン欠陥を修正加工する方法である。 - 特許庁

The repair wiring pattern 128 is drawn and formed, for instance, by scanning, with a laser beam, a region planned for the repair wiring pattern 128 in a gas atmosphere of a conductive material such as tungsten.例文帳に追加

修復配線パターン１２８は、例えばタングステンなどの導電材料のガス雰囲気中で修復配線パターン１２８の形成領域をレーザビームで走査することで、描画して形成することができる。 - 特許庁

In the radiation beam inspecting configuration, the operation of the lithographic apparatus is modified in order to minimize the difference between the pattern of radiation exposed on the substrate W and the required pattern of radiation to be exposed on the substrate.例文帳に追加

放射ビーム検査構成では、基板Ｗに露光される放射のパターンと基板に露光する必要のある放射のパターンの相違を最小化するために、リソグラフィ装置の動作が修正される。 - 特許庁

To enable to form a light distribution pattern suitable for structuring a center part of the light distribution pattern for high beam having a compact structure, in a lighting lamp for a vehicle using a light-emitting device as a light source.例文帳に追加

発光素子を光源とする車両用照明灯具において、これをコンパクトな構成とした上で、ハイビーム用配光パターンの中心部の構成に適した配光パターンを形成可能とする。 - 特許庁

A light quantity control part reduces the light quantity of a beam at least during formation of the security pattern in the case that it is determined that the security pattern cannot be formed so as to be readable by the reader.例文帳に追加

光量制御部は、セキュリティパターンを読み取り装置により読取可能に形成できないと判定されると、少なくともセキュリティパターンを形成する際のビームの光量を低下させる。 - 特許庁

To form a light distribution pattern suitable for constituting a central part of the light distribution pattern for a high beam, after compactly constituting the vehicular lighting fixture, in the vehicular lighting fixture with a light emitting element as a light source.例文帳に追加

発光素子を光源とする車両用照明灯具において、これをコンパクトな構成とした上で、ハイビーム用配光パターンの中心部の構成に適した配光パターンを形成可能とする。 - 特許庁

After forming a resist pattern, DUV or electron beam is irradiated on the desired portion of the resist pattern to carry out selective slimming of the resist.例文帳に追加

これを実現する従来技術に、全面スリミング法やシフタエッジ位相シフト露光法などがあるが、前者はゲートパターンと同時にゲート電極配線も細くなり、配線部分が断線しやく歩留まり低下を起こす。 - 特許庁

In the forming method, aperture masks 17, 17A, 17B made of glass on which a pattern having openings 18a-18e corresponding to the pattern of the black membrane 3 is formed, is used on the optical system 9 on which the laser beam L is irradiated.例文帳に追加

レーザ光Ｌを照射する光学系９に、黒色膜３のパターンに対応した開口部１８ａ〜１８ｅのパターンが形成されたガラス製のアパチャマスク１７、１７Ａ、１７Ｂを用いる。 - 特許庁

Thereafter, radiation of the energy beam 12 is stopped, and the heat is radiated from the surface of the raw material substrate 10 to deposit iron at a position corresponding to the thermal pattern 11 to form a pattern of deposition range.例文帳に追加

そののち、エネルギービーム１２の照射を止めて素材基板１０の表面を放熱させることにより、熱分布１１に応じた位置に鉄を析出させて析出領域のパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having i-beam transmit tance and low thermal expansion after imidization, and enabling to form a pattern with excellent thermal resistance, and to provide a method of forming such a pattern, and further to provide electronic parts with high reliability.例文帳に追加

ｉ線透過性とイミド化後の低熱膨張性を有し、優れた耐熱性のパターンを形成できる感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び信頼性に優れる電子部品の提供。 - 特許庁

To transfer a circuit pattern having a size finer than a half of a wavelength of an exposure beam on a semiconductor wafer plane with excellent accuracy by means of a mask whereupon an integrated circuit pattern is formed and a reduction projection aligner.例文帳に追加

集積回路パターンを形成したマスクと縮小投影露光装置により、露光光の波長の半分より微細な寸法の回路パターンを精度よく半導体ウエハ面に転写する。 - 特許庁

An electron-beam passing through a pattern provided on a reticle 7 images the pattern on the reticle 7 on a surface of a wafer 9 with a transferring optical system mainly comprising a collimator lens 1 and a projection lens 4.例文帳に追加

レチクル７上に設けられたパターンを通過した電子線は、コリメータレンズ１、プロジェクションレンズ４を主体とする転写光学系により、レチクル７上のパターンの像をウェハ９表面に結像する。 - 特許庁

To prevent deterioration in pattern transfer precision by vibrating beams 1 and 3 for composing the mask pattern of a stencil mask with the acceleration motion of the mask in an electron beam transfer exposure (EPL).例文帳に追加

電子ビーム転写露光（ＥＰＬ）において、ステンシルマスクのマスクパターンを構成する梁１、３が、マスクの加速運動に伴い振動することによって、パターン転写精度が悪化することを防止する。 - 特許庁

The use of a semiconductor microfabrication technology for manufacturing enables a low-cost resonator to be manufactured, and the formation of a resonator by the use of an arbitrary pattern reduces the number of external optical parts for forming a laser beam pattern.例文帳に追加

半導体微細加工技術を利用して製造するため、廉価であり、共振器部が任意パターンで形成されているためレーザ光パターン形成のための外部光学部品が少なくてすむ。 - 特許庁

To form a high aspect etching pattern without being accompanied with positive-negative reverse or increasing the number of etching steps, to improve etching durability of a photoresist pattern and to prevent line thinning by electron beam irradiation.例文帳に追加

ポジネガ反転を伴うことなく、エッチング回数増なく、高アスペクトエッチングパターンを形成でき、また、フォトレジストパターンのエッチング耐性を向上させ、電子ビーム照射によるライン細りを防止できる。 - 特許庁

A main control device 50 controls the characteristics of a laser beam LB emitted from a laser device 16 (laser resonator 16a) by using wavelength width directly reflected to the image formation performance of a pattern image as an index value, performs scanning exposure by using the laser beam and generates a pattern image of a reticle R.例文帳に追加

主制御装置５０により、パターン像の結像性能に直接反映される波長幅を指標値として、レーザ装置１６（レーザ共振器１６ａ）から射出されるレーザビームＬＢの特性が制御され、そのレーザビームを用いて走査露光が行われ、レチクルＲのパターンの像が生成される。 - 特許庁

The lithographic apparatus comprises an array of individually controllable elements that modulate a beam of radiation, a compressed-pattern memory that stores a compressed representation of a requested dose pattern to be formed on a substrate by the modulated beam, and a dictionary decompressor that at least partially decompresses the compressed representation.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビーム変調用の個々に制御可能な素子アレイと、変調されたビームにより基板上に形成される要求照射パターンの圧縮表現を蓄積する圧縮パターン・メモリと、圧縮表現を少なくとも部分的に解凍する辞書解凍器とを含む。 - 特許庁

Then, the lag time t2 of the write-start timing between the beam for the 2nd line of the 1st laser diode and the beam for the 2nd line of the 2nd laser diode is calculated according to the detecting time (x) of the 1st registration detecting pattern and the detecting time (y) of the 2nd registration detecting pattern detected by a registration detecting sensor.例文帳に追加

そして、レジスト検知センサで検知した、第１のレジスト検知用パターンの検知時間ｘと第２のレジスト検知用パターンの検知時間ｙにより、第１のレーザダイオードの第２ライン用ビームと第２のレーザダイオードの第２ライン用ビームの書き出しタイミングのずれ時間ｔ２を算出する。 - 特許庁

A reflector 91 has a reflecting surface which reflects a visible light from the first light emitting part 71 to irradiate to a road surface with a low-beam light distribution pattern LP, and reflects an infrared ray from the second light emitting part 72 to irradiate to a road surface with a high-beam light distribution pattern HP.例文帳に追加

リフレクタ９は、第１光発光部７１からの可視光を反射させてすれ違い用の配光パターンＬＰで路面などに照射させ、また、第２発光部７２からの赤外線を反射させて走行用の配光パターンＨＰで路面などに照射させる反射面９０を有する。 - 特許庁

The audio reproducing device determines a beam control pattern determining in which directions audio signals of respective channels are generated on the basis of the shape of the room, reads beam control data including delay times for generating the beams in the directions out of a pattern memory, and automatically sets them in a DSP.例文帳に追加

オーディオ再生装置は、その部屋の形状に基づいて各チャンネルのオーディオ信号をそれぞれどの方向に形成するかのビーム制御パターンを決定し、その方向にビームを形成するためのディレイ時間を含むビーム制御データをパターンメモリから読み出してＤＳＰに自動設定する。 - 特許庁

The reflecting surface of a reflector 3 is divided into a main reflecting surface 10 forming the light distribution pattern of the almost external shapes of light distribution patterns LP2, LP3 for a low beam, and a sub-reflecting surface 11 forming the almost center light distribution pattern of the light distribution patterns LP2, LP3 for the low beam.例文帳に追加

リフレクタ３の反射面は、すれ違い用配光パターンＬＰ２、ＬＰ３のほぼ外形の配光パターンを構成するメイン反射面１０とすれ違い用配光パターンＬＰ２、ＬＰ３のほぼ中央の配光パターンを構成するサブ反射面１１とに分割されている。 - 特許庁

The control part of the head lamp 56 performs the application control of the light sources so as to form a light distribution pattern of first additional beam and a light distribution pattern of second additional beam FH determined based on the size of the pedestrian estimated at the shoulder of the road and a distance from the light sources to the pedestrian.例文帳に追加

前照灯装置制御部５６は、路肩で想定される歩行者の大きさと光源から歩行者までの距離とに基づいて決まる第１付加ビーム配光パターンと第２付加ビーム配光パターンＦＨを形成するように光源の照射制御を行う。 - 特許庁

In this case, the machining is started from the state that the width of irradiation region with the laser beam 34 is equal to the width of a groove 5 to be machined, the width of the opening pattern 32 for machining is gradually narrowed, and the irradiation with the laser beam 34 is stopped before the opening pattern 32 for machining is completely closed.例文帳に追加

このとき、レーザー光３４の照射領域の幅が加工溝３５の幅と等しい状態から出発して徐々に加工用開口パターン３２の幅を狭くしていき、加工用開口パターン３２が完全に閉じる前にレーザー光３４の照射を停止させる。 - 特許庁

Only when the modulation pattern of the pulse laser beam outputted from the laser outgoing section 401 matches with the modulation pattern of the pulse laser beam received by a laser receiving section 402, a DSP 10 detects that an obstacle exists at the target position, and measures the distance between it and the obstacle.例文帳に追加

ＤＳＰ１０は、レーザ出射部４０１から出力したパルスレーザ光の変調パターンとレーザ受光部４０２によって受光したパルスレーザ光の変調パターンがマッチングしたときのみ目標位置に障害物が存在するとして検出し、障害物との距離を測定する。 - 特許庁

The head lamp device control part divides a light distribution pattern PH for a high beam, formed by light irradiation of the light source, into a plurality of regions and controls light irradiation from each of the divided individual regions PHa to PHe so as to additionally irradiate light to a light distribution pattern PL for a low beam.例文帳に追加

前照灯装置制御部は、光源の光照射によって形成されるハイビーム用配光パターンＰＨを複数に分割して、分割された個別領域ＰＨａ〜ＰＨｅについて光の照射を制御し、ロービーム用配光パターンＰＬに付加的に照射するように制御する。 - 特許庁

The headlight device control ECU decreases the illuminance of the high-beam light distribution pattern when a vehicle enters a detection range of the vehicle detection device, and increases the illuminance of the high-beam light distribution pattern after the lapse of waiting time when the vehicle within the detection range departs from the detection range.例文帳に追加

前照灯装置制御ＥＣＵは、車両が車両検知装置の検知範囲に入った場合、ハイビーム用配光パターンの照度を低減せしめ、検知範囲内の車両が当該検知範囲から外れた場合、待機時間の経過後にハイビーム用配光パターンの照度を増大せしめる。 - 特許庁

In high beam irradiation, an additional light distribution pattern is additively formed in the central area of the high beam light distribution pattern by reflecting a directly projected light, which travels forwardly and obliquely upward from a light source 22a, downward by the first additional reflector 36, and then by reflecting it forward by the second additional reflector 44.例文帳に追加

そして、ハイビーム照射時に、光源２２ａから前方斜め上方へ向かう直射光を、第１付加リフレクタ３６で下方へ反射させた後、第２付加リフレクタ４４で前方へ反射させることにより、ハイビーム配光パターンの中心領域に付加配光パターンを付加的に形成する。 - 特許庁

In a laser processing process, the electrode pattern formation programming area of a dielectric block 1 is irradiated with a laser beam to remove prescribed thickness from the electrode pattern formation programming area, and in a succeeding surface correction process, a dielectric part deteriorated by laser beam irradiation is removed or repaired.例文帳に追加

レーザ加工工程で誘電体ブロック１の電極パターン形成予定領域にレーザビームを照射して電極パターン形成予定領域を所定厚み分除去し、続く表面修正工程で、レーザビームの照射によって変質した誘電体部分の除去または修復を行う。 - 特許庁

To make a high-beam light distribution pattern formed by a projector type lamp unit excellent in distant visibility, and to enhance distant visibility for a low-beam light distribution pattern as required as well, in a projector type lamp unit composed by arranging first and second light source units behind a projection lens.例文帳に追加

投影レンズの後方に第１および第２光源ユニットが配置されてなるプロジェクタ型の灯具ユニットにおいて、これにより形成されるハイビーム用配光パターンを遠方視認性に優れたものとするとともに、ロービーム用配光パターンに関しても必要に応じて遠方視認性を高める。 - 特許庁

A vehicle headlight device is provided with: a light source bulb for forming a high-beam light distribution pattern including a region above a cut-off line of a low-beam light distribution pattern; and a headlight device control ECU for controlling the light source bulb based on information obtained from a vehicle detection device.例文帳に追加

車両用前照灯装置は、ロービーム用配光パターンのカットオフラインから上方の領域を含むハイビーム用配光パターンを形成可能な光源バルブと、車両検知装置から得られた情報に基づいて光源バルブを制御する前照灯装置制御ＥＣＵと、を備える。 - 特許庁