「pattern beam」に関連した英語例文の一覧と使い方(21ページ目) - Weblio英語例文検索

To transfer a pattern on a specimen with high accuracy by the use of an exposure device of a CP type using a beam which varies in blur with the direction of X or Y.例文帳に追加

ＸＹ方向でビームのぼけ量が異なるＣＰ方式の露光装置を用いて、試料上にパターンを高精度に転写すること。 - 特許庁

To uniformize the light intensity distribution of a laser beam even when the light intensity distribution of incident light is an inclined pattern having inclination in one direction.例文帳に追加

本発明は入射光の光強度分布が一方向に傾きをもった傾斜パターンの場合でも均一化することを課題とする。 - 特許庁

To carry out the evaluation of the defect inspection or the like of a test piece having a pattern of a minimum line width of 0.2 μ or less by using a multiple beam at high throughput.例文帳に追加

最小線幅０．２ミクロン以下のパターンを有する試料の欠陥検査等の評価を、マルチビームを用いて高スループットで行なう。 - 特許庁

To obtain an exposure method and a system which restricts reduction in throughput, when a dummy pattern is exposed by using an electron beam direct drawing system.例文帳に追加

電子線直接描画露光装置を用いてダミーパターンを露光する場合のスループットの低下を抑える露光方法及び装置の提供。 - 特許庁

Based on the expansion/contraction rate measured at the time of alignment, incident angle of an electron beam to the mask pattern is controlled thus correcting the transfer magnification.例文帳に追加

そして、転写時に前記測定した伸縮率に基づいて電子ビームのマスクパターンへの入射角度を制御し、転写倍率を補正する。 - 特許庁

When the prism members 14S, 14W are positioned in the first location by means of the switching device 15, a light distribution pattern HP for high beam is illuminated.例文帳に追加

また、切替装置１５でプリズム部材１４Ｓ、１４を第１位置に位置させたときには、ハイビーム要配光パターンＨＰが照射される。 - 特許庁

To provide a laser dicing method that suppresses cracking by optimizing an irradiation pattern of a pulse laser beam to achieve superior fracturing characteristics.例文帳に追加

パルスレーザビームの照射パターンを最適化することでクラックの発生を制御し、優れた割断特性を実現するレーザダイシング方法を提供する。 - 特許庁

The laser beam runs against the inside surface of the cover to form a notch in the groove or a hole isolated, and a pattern to be embrittled previously is formed.例文帳に追加

レーザビームはカバーの内側表面に衝突し、溝の刻み或いは離間された孔を形成して、予脆弱化するパターンを形成する。 - 特許庁

The sample 12 is formed with the wiring pattern and is fixed onto the sample stage 11, and an electronic beam is made incident on a surface thereof from the irradiation part 1.例文帳に追加

試料１２は、配線パターンが形成され、試料ステージ１１に固定され、表面に照射部１から電子ビームが入射される。 - 特許庁

To prevent a failure due to temperature from occurring when a marking pattern is formed at an element to be printed, such as a photosensitive material etc. by using a laser beam.例文帳に追加

レーザー光を用いて感光材料などの被印字体にマーキングパターンを形成するときに、温度による性能故障の発生を防止する。 - 特許庁

To realize a drawing method which uses a charged particle beam and is capable of making a correction for a proximity effect and furthermore coping with a micronization of a pattern to draw.例文帳に追加

近接効果補正にプラスして、パターン描画の更なる微小化に対応することができる荷電粒子ビーム描画方法を実現する。 - 特許庁

A shield 26 is disposed along an optical axis X and intercepts part of reflected light from the reflector 16 to form a low beam light distribution pattern.例文帳に追加

遮蔽板２６は光軸Ｘに沿って配置され、リフレクタ１６からの反射光の一部を遮蔽してロービーム用配光パターンを形成する。 - 特許庁

To correct a defect of a pattern formed on a surface of a resin substrate with high quality by laser beam irradiation without damaging the resin substrate.例文帳に追加

樹脂基板の面上に形成されたパターンの欠陥を樹脂基板にダメージを与えることなく、レーザ光照射により高品位に修正する。 - 特許庁

To realize a new method for accurately detecting the defect and distortion of the mask pattern of an electron beam exposure device relatively in a short time.例文帳に追加

電子ビーム露光装置に使用するマスクパターンの欠陥及び歪みを、実際の露光電子パターンを比較的短時間に正確に測定できる。 - 特許庁

Further, the OPD for each spot in the pattern is individually established by heating the plastic material with a laser beam of ultra-short pulses.例文帳に追加

更に、パターン内の各スポットについてのＯＰＤは、プラスチック材料を超短パルスのレーザ光で加熱することによって個別に確立される。 - 特許庁

The color three-dimensional animation is reproduced by reproducing the interference pattern in synchronization with the chopping in recording, and applying the laser beam of the same color.例文帳に追加

記録時のチョッピングに同期して干渉パターンを再生し、同色のレーザ光を照射することにより、カラー立体動画が再生される。 - 特許庁

In another way of patterning, the stage 5 is periodically moved to shift the irradiation position and the fine pattern is formed on the surface of the substrate by laser beam machining.例文帳に追加

また、ステージ５の周期的移動により照射位置を変え、レーザ加工により基板表面に微細形状を形成することもできる。 - 特許庁

The middle land of the postscript pattern of pit-land-pit is melted by being irradiated with a laser beam having power higher than the laser power for reproduction.例文帳に追加

ピット−ランド−ピットの追記パタンの真ん中のランドは、再生のためのレーザパワーよりも大きいパワーのレーザ光を照射すると溶融する。 - 特許庁

To provide an electron beam device to carry out with high throughput evaluation of a test piece such as a semiconductor wafer having a minute pattern of 0.1 μm or less.例文帳に追加

０．１μｍ以下の微細パターンを有する半導体ウエハ等の試料の評価を高スループットで行うための電子線装置を提供する。 - 特許庁

To prevent the direction of scanning of an electron beam and parallel two sides of a dimension measuring pattern from not becoming vertical and a measurement error from being produced.例文帳に追加

電子線のスキャン方向と寸法測定パターンの平行な２辺が垂直にならず測定誤差を生じることを防止することができる。 - 特許庁

The inorganic resist material is film-deposited on the substrate and exposed to a laser beam and an exposed part corresponding to grooves is left after development to obtain a resist pattern.例文帳に追加

無機レジスト材料が基板上に成膜され、レーザ光で露光され、グルーブに対応する露光部が現像後に残るレジストパターンが得られる。 - 特許庁

The reflected light is projected to a fixed reticle 5, provided with an illuminated second reticle pattern via the object lens 4 and the beam splitter 3.例文帳に追加

その反射光は、対物レンズ４及びビームスプリッタ３を介して、照明された第２レティクルパターンを備える固定レティクル５に投影される。 - 特許庁

Then the amorphous silicon is scan-irradiated with a beam pattern 16 in a second scanning direction 15 different from the first scanning direction 12 by 90° (a second crystallization process).例文帳に追加

次に、第１のスキャン方向１２と９０°異なる第２のスキャン方向１５にビームパターン１６をスキャン照射する（第２の結晶化工程）。 - 特許庁

To provide a method for electron beam exposing or the like capable of cleaning a reticle in an exposure apparatus and contributing to an improvement in a pattern transfer accuracy or a yield.例文帳に追加

レチクルを露光装置内でクリーニングでき、パターン転写精度や歩留まりの向上に貢献できる電子線露光方法等を提供する。 - 特許庁

As a result, a main light-distribution pattern MP with a cut-off line CL and sub light-distribution patterns SP1, SP2 of a beam-convergent type can be obtained.例文帳に追加

この結果、カットオフラインＣＬを有するメイン配光パターンＭＰと集光タイプのサブ配光パターンＳＰ１、ＳＰ２とを得ることができる。 - 特許庁

To provide a laser beam machining method capable of preventing the generation of a grain boundary in the vicinity of the center of a belt-like insulating pattern.例文帳に追加

帯状の絶縁パターンの中央近傍に結晶粒界が発生することを防止することが可能なレーザ加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an EUV mask by using an electron beam, without changing the size of a mesh area or the design of a mask pattern.例文帳に追加

メッシュ領域のサイズやマスクパターンの設計変更をすることなしに、電子ビームを用いてＥＵＶマスクを製造する方法を提供する。 - 特許庁

To precisely and speedily transfer a pattern by providing an accurate alignment system suitable to a charged particle beam exposure device of a reflection type.例文帳に追加

反射型の荷電粒子ビーム露光装置に適した高精度なアライメント方式を提供し、高精度・高速度なパターン転写を可能とする。 - 特許庁

A resonant fiber scanner 137 of the resonant fiber scanner 137 projects a modulated beam in a curved pattern.例文帳に追加

共振形ファイバスキャナ１３７の共振カンチレバー部１３９は、変調されたビームを例えばボールレンズアセンブリ３０により湾曲パターンで投影する。 - 特許庁

The planar plate or the curved plate for forming the reflecting surface of the reflector is arbitrarily set, and hence a radiating pattern of a desired beam is formed.例文帳に追加

当該反射器の反射面を形成する平面板または曲面板を任意に設定して、所望のビームの放射パターンを形成する。 - 特許庁

To provide an optical scanner which can prevent the deviation in the scanning pattern of a laser beam on a surface to be scanned by preventing mispositioning of a cylindrical mirror.例文帳に追加

シリンドリカルミラーの位置ずれを防止し、被走査面上におけるレーザ光の走査パターンのずれを防止可能な光走査装置を提供する。 - 特許庁

The slit type image is configured to generate a curved pattern image of a patterned radiation beam on the image flat plane of a projection system.例文帳に追加

スリット型の像は、パターニングされた放射ビームの湾曲パターンイメージ部分を投影システムの像平面に生成するように構成されている。 - 特許庁

The second surface is made to diffuse light, and includes at least one facet (38) structured to bring about a predetermined beam pattern.例文帳に追加

第２の表面は、光を拡散させると共に所定のビームパターンをもたらすよう構成された少なくとも１つのフェーセット（３８）を有する。 - 特許庁

A second shade 40 forms a partial shape of the low-beam light distribution pattern in a traveling lane area with the backward focal position as an advance position.例文帳に追加

第２シェード４０は後方焦点位置を進出位置として走行車線領域にロービーム用配光パターンの一部形状を形成する。 - 特許庁

The measuring method is disclosed which draws a drawing pattern for measurement by irradiating the base material for measurement with a beam and measures the precision of the drawing.例文帳に追加

測定用基材に対してビームを照射することにより測定用の描画パターンを描画して描画の精度を測定する測定方法。 - 特許庁

To easily correct an imaging position of each beam when a two-dimensional pattern image is formed on a photosensitive material in an exposure apparatus.例文帳に追加

露光装置において、感光材料上に２次元パターンの像を形成するときの各光束の結像位置の補正をより容易に行う。 - 特許庁

The laser beam impinges the inside surface of the cover to form a groove scoring 20 or spaced perforations to form a preweakening pattern.例文帳に追加

レーザビームはカバー１６の内側表面に衝突し、溝の刻み２０或いは離間された孔を形成して、予脆弱化するパターンを形成する。 - 特許庁

When an electron beam is scanned across the test structure, an expected intensity pattern is produced and imaged as a result of the expected voltage potentials of the test structure.例文帳に追加

電子ビームがテスト構造にわたって走査されるとき、予期された輝度パターンが作られ、テスト構造の予期された電位の結果、画像化される。 - 特許庁

Continuously, the substrate S for the diffraction optical element is prepared, and a diffraction optical element pattern is drawn by electron beam exposure after resist film formation.例文帳に追加

続いて、この回折光学素子用の基板Ｓを用意し、レジスト成膜後に電子ビーム露光により回折光学素子パターンを描画する。 - 特許庁

A hologram grating pattern is set to the diffraction-grating 102 so that the diffraction efficiency of the laser beam of each wavelength may range reasonably.例文帳に追加

また、軸補正用回折格子１０２は、各波長のレーザ光の回折効率が適正範囲となるようホログラム格子パターンが設定されている。 - 特許庁

RESIN COMPOSITION COMPRISING ORGANIC MOLECULE REVERSIBLY COLORED/DECOLORED BY QUANTUM BEAM IRRADIATION AND PHOTOIRRADIATION OR HEATING, AND NANO-PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

量子ビーム照射と光照射又は加熱により可逆的に着色／脱色する有機分子を含んだ樹脂組成物とナノパターン形成方法 - 特許庁

The photoresist pattern 13 is used as a mask, and a plating base film 14 composed of Cu/Ti is formed on the whole surface of the board 11 through electron beam deposition.例文帳に追加

このフォトレジストパターン１３をマスクとして、基板１１全面に、電子ビーム蒸着でＣｕ／Ｔｉからなるメッキ下地膜１４を形成する。 - 特許庁

To efficiently establish a directional link and to reduce an overhead by effectively using a beam pattern used in last communication.例文帳に追加

前回通信時に用いたビーム・パターンを有効に利用することによって、効率的に指向性リンクを確立することができ、オーバーヘッドを低減する。 - 特許庁

SYSTEM/METHOD FOR CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE, APPARATUS/METHOD FOR PREPARING LAYOUT PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR, AND APERTURE例文帳に追加

荷電ビーム露光装置、荷電ビーム露光方法、レイアウトパターンの作成装置、レイアウトパターンの作成方法、半導体装置の製造方法、及び、アパーチャ - 特許庁

ABERRATION EVALUATION PATTERN, ABERRATION EVALUATION METHOD, ABERRATION CORRECTION METHOD, ELECTRON BEAM DRAWING APPARATUS, ELECTRON MICROSCOPE, MASTER, STAMPER, RECORDING MEDIUM AND STRUCTURE例文帳に追加

収差評価用パターン、収差評価方法、収差補正方法、電子線描画装置、電子顕微鏡、原盤、スタンパ、記録媒体、及び構造物 - 特許庁