「pattern beam」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索

The mask 15 is a scattering stencil mask, in which a bored pattern 15a is formed on a film 15b through which as illumination beam passes being scattered.例文帳に追加

マスク１５は、照明ビームが散乱されながら透過する膜１５ｂに孔明きパターン１５ａが形成された散乱ステンシルマスクである。 - 特許庁

To provide a pattern printing method by a laser beam which is easily controlled and no affection by a change of laser performance.例文帳に追加

レーザの制御が容易で、レーザ性能の変化に影響されにくいレーザによるパターンの印刷方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The lithography system is provided, comprising an illumination system for providing a radiation beam, and a support structure for supporting a pattern forming device.例文帳に追加

放射ビームを提供するための照明システムと、パターン形成デバイスを支持するための支持構造とを備えたリソグラフィ装置である。 - 特許庁

To accurately transfer the pattern of a mask to a substrate, without being affected by a variation in optical characteristics of a laser beam even if the variation occurs.例文帳に追加

レーザ光の光学特性が変動してもこれに影響を受けることなく、基板上にマスクのパターンを精度良く転写する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam exposure apparatus to which countermeasures are implemented so that a pattern precision is not lowered by shakes of each part of the exposure apparatus.例文帳に追加

露光装置各部の振動によりパターン精度が悪化しないような対策を施した荷電粒子線露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam aligner or the like for accurately forming a pattern by improving a mark detection method.例文帳に追加

マーク検出方法に改良を加え、高精度のパターン形成を行うことのできる荷電粒子ビーム露光装置等を提供する。 - 特許庁

In a pattern definition device (102) to be used for an exposure system, a beam of charged particles is patterned via a plurality of devices.例文帳に追加

露光装置に使用するためのパターン規定デバイス（１０２）において、帯電粒子のビームが複数の装置を介してパターン化される。 - 特許庁

To provide a vehicular headlight capable of suitably forming a low-beam light-distribution pattern by utilizing light emitted from a light source with a plane light-emitting surface.例文帳に追加

平面状の発光面を有する光源から発せられる光を利用してロービーム用配光パターンを適切に形成する。 - 特許庁

To alter a low beam light distribution pattern suitably into that for right-hand traffic and that for left-hand traffic with a simple constitution compared with a conventional manner.例文帳に追加

従来に比べて簡易な構成で、すれ違い配光パターンを右側通行用と左側通行用とに好適に変更する。 - 特許庁

To provide a multi-beam pattern defining (PD) system, capable of correcting a distortion error in an image forming system and a charged particle processing or inspecting apparatus.例文帳に追加

結像系のひずみエラーを補正できるマルチビーム・パターン定義（ＰＤ）システム、及び荷電粒子処理または点検装置を提供する。 - 特許庁

On the other hand, when a selected channel is changed, the above mentioned ideal beam pattern is to be collapsed, and the performance is to be deteriorated because the Doppler broadening becomes large.例文帳に追加

一方選局チャンネルが変わると、前述の理想的なビームパターンが崩れ、ドップラー広がりが大きくなって性能が劣化する。 - 特許庁

Resist is applied on the mask material layer, and then a resist pattern 143 for a mask for producing a grating using electron-beam exposure.例文帳に追加

マスク材料上にレジストを塗布した後に電子ビーム露光法により回折格子の作製マスク用のレジストパターン１４３を作製する。 - 特許庁

A lithographic apparatus includes an array MLA of individually controllable elements to impart a projection beam PB with a pattern in its cross-section.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、その断面にパターンを有する投影ビームＰＢを付与する個別に制御可能な要素のアレイＭＬＡを有する。 - 特許庁

The work 18 is moved to the second working position (=imaged position) and worked with a laser beam 12 imaged with the same pattern as the one of the mask 14.例文帳に追加

第二の加工位置（＝結像位置）にワーク１８を移動させ、マスク１４のパターン通りに結像したレーザ光１２にて加工する。 - 特許庁

Since it does not transmit through the projector lens 5, it become a light reaching far and thereby the distant place visibility at high-beam distribution pattern B is improved.例文帳に追加

プロジェクタレンズ５を透過しないため、遠くまで届く光となり、ハイビーム用配光パターンＢの際の遠方視認性が向上する。 - 特許庁

Next, at least the surface part of the copper wiring pattern 12 laying at the bottom of the via hole 13 is melted by means of a UV pulse laser beam L2.例文帳に追加

次いで、ＵＶパルスレーザ光Ｌ２を用いて、ビア穴１３の底の銅配線パターン１２の少なくとも表層部を溶融させる。 - 特許庁

A resist is coated onto the a-Si membrane 3, and the resist is minutely processed with electron beam exposure or photolithography to form a resist pattern 4.例文帳に追加

ａ−Ｓｉ膜３上に、レジストを塗布し、電子線露光あるいはフォトリソでレジストを微細に加工して、レジストパターン４を形成する。 - 特許庁

The illumination pattern of laser beam within a target area is controlled based on external signals related to traveling direction and traveling speed.例文帳に追加

走行方向および走行速度に関する外部信号をもとに、目標領域内におけるレーザ光の照射パターンが制御される。 - 特許庁

The optical part optically interacts with the pattern-imparted radiant beam, and transmits a result of the interaction as an output to the sensor part.例文帳に追加

光学部は、パターン付与された放射ビームと光学的に相互作用し、その相互作用の結果を出力としてセンサ部に送信する。 - 特許庁

To form a marking pattern of highly visible dots and a dot array on a photosensitive material by irradiating the material with a laser beam.例文帳に追加

感光材料にレーザービームを照射して、感光材料に視認性の高いドット及びドット配列によりマーキングパターンを形成する。 - 特許庁

The side lobe of the major antenna 3 is reduced by subtracting the auxiliary beam obtained as above from the antenna pattern of the major antenna.例文帳に追加

これにより得られた補助ビームを主アンテナのアンテナパターンから減算することにより、主アンテナ３のサイドローブを低減させるようにした。 - 特許庁

The light distribution pattern to the same degree as a conventional headlight for low beam is accomplished by controlling the irradiation range of the first headlight.例文帳に追加

第一のヘッドライトの照射範囲を制御することによって、従来のロービーム用ヘッドライトと同等の配光パターンを実現する。 - 特許庁

Little laser beam 11, which forms the hole 12, reaches the diode 2 since it is reflected and absorbed in the metal film pattern 3.例文帳に追加

孔１２を形成するレーザ光１１は、金属膜パターン３によって反射および吸収されるので、ダイオード２に殆ど達しない。 - 特許庁

To provide a laser beam machining device having high degree of freedom of a processing pattern, where the improvement in use efficiency of readout light can be attained.例文帳に追加

読み出し光の利用効率の向上を図ることができると共に、加工パターンの自由度の高いレーザ加工装置を提供する。 - 特許庁

With respect to a pattern for which multiple plotting is omitted, the plotting is adjusted by increasing the dose quantity of an electron beam, or the like.例文帳に追加

多重描画を省略したパターンについては、電子線のドーズ量を多くすることなどの方法によって描画の調整をする。 - 特許庁

To provide electron beam transfer equipment which can reduce defocusing due to space charge effect and can form a pattern with higher accuracy and high throughput.例文帳に追加

空間電荷効果によるボケを低減でき、より高精度・高スループットでパターン形成できる電子ビーム転写装置を提供する。 - 特許庁

To prevent the occurrence of a striped pattern in annealing a low temperature poly-liquid-crystal substrate by an excimer laser by decreasing an energy variation of a laser beam.例文帳に追加

レーザ光のエネルギ変動を低減して、低温ポリ液晶基板をエキシマレーザでアニーリングする際の縞目模様の発生を防止する。 - 特許庁

The antenna directivity control part 2 stores the position coordinates of the access point while associating the position coordinates with the beam direction of the set directivity pattern.例文帳に追加

アンテナ指向性制御部２は、設定した指向性パターンのビームの方向に、アクセスポイントの位置座標を関連付けて記憶する。 - 特許庁

The apparatus includes a laser for outputting an incident laser beam towards the sample and a first diffractive element having a plurality of diffraction pattern portions.例文帳に追加

本装置は、入射レーザビームを試料に向けて出力するレーザと、複数の回折パターン部分を有する第１回折要素とを含む。 - 特許庁

To eliminate effects of ununiformity of a lower wiring structure such as a step, etc., when a photoresist pattern is formed by electron beam linear drawing.例文帳に追加

電子線直描によりフォトレジストパターンを形成するに際して、段差等の下層配線構造の非一様性の影響を除去する。 - 特許庁

DEVELOPMENT LOADING EVALUATION PATTERN, EVALUATION METHOD USING THE SAME, MASK FOR DEVELOPMENT LOADING EVALUATION, DEVELOPING METHOD, AND ELECTRON BEAM EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

現像ローディング評価パターン、それを用いた評価方法、現像ローディング評価用マスク、および現像方法、並びに電子ビーム露光装置 - 特許庁

Further, a pattern is drawn with electron beams by using a high acceleration voltage electron beam drawing machine, and then treated for patterning such as by developing to produce a photomask.例文帳に追加

さらに、高加速電圧の電子ビーム描画機で電子ビーム描画し、現像等のパターニング処理を施してフォトマスクを作製する。 - 特許庁

The prescribed pattern is printed by a prescribed ink to receive a beam from the surrounding light source and to generate a corresponding infrared ray.例文帳に追加

所定のパターンは、周囲の光源からの光線を受け取り、対応する赤外線を生じるように、所定のインクでプリントされている。 - 特許庁

Since the laser beam with the large wavelength region has weak coherence, a semiconductor film is not made to produce an interference pattern by an interference.例文帳に追加

波長領域が広いレーザ光は干渉性が弱いため、干渉によって半導体膜に干渉縞を生じさせることがない。 - 特許庁

A reception side high-frequency circuit (RX 19-3) synthesizes a signal from each antenna element by antenna directivity of a specific beam pattern.例文帳に追加

受信側高周波回路（ＲＸ１９−３）は、各アンテナエレメントからの信号を所定のビームパタンのアンテナ指向性で合成する。 - 特許庁

The source and the target which is brought into with each other may be shifted relative to the laser beam, to form the emission center at the prescribed pattern.例文帳に追加

また、互いに接触したソースとターゲットとをレーザー光に対して移動させて、所定のパターンに発光中心を形成してもよい。 - 特許庁

The beam 3 diffracted by the hologram board 16 forms inside the workpiece 1 a unit diffraction pattern for diffracting visible light.例文帳に追加

ホログラム板１６により回折された回折ビーム３が、加工対象物内１に、可視光を回折させる単位回折パターンを形成する。 - 特許庁

An EFM output means 130 generates an EFM output signal corresponding to the EFM bit pattern and outputs it to a laser beam recorder 300.例文帳に追加

ＥＦＭ出力手段１３０は、ＥＦＭビットパターンに応じたＥＦＭ出力信号を生成し、レーザービームレコーダ３００へ出力する。 - 特許庁

To provide a projector for photographing a pattern of a mask on a substrate, which includes a radiation-sensitive layer, using a projection charged particle beam.例文帳に追加

投影荷電粒子ビームによって、放射線感応層を含む基板上にマスクのパターンを撮像する投影装置を提案する。 - 特許庁

A standard pattern, which uses wavelength as a parameter, for a derivative value of an interference beam to predetermined film thickness of a first processed material is set.例文帳に追加

第１の被処理材の所定膜厚に対する干渉光の微分値の、波長をパラメータとする標準パターンを設定する。 - 特許庁

The electron beam exposure apparatus for applying electron beam scanning onto the wafer to detect the positioning mark includes: a storage means for storing a first data table representing a relation among a distance from the positioning mark to the element pattern, an emission amount of the electron beam emitted to detect the positioning mark, and dimensional accuracy of the element pattern.例文帳に追加

電子ビームをウエハ上で走査し、位置合わせマークを検出する電子線露光装置は、位置合わせマークから素子用パターンまでの距離と、前記位置合わせマークを検出するために照射される電子ビームの照射量と、前記素子用パターンの寸法精度との間の関係を表す第１のデータテーブルを記憶する記憶手段を備える。 - 特許庁

An acceleration sensor includes: a front pattern composed of a weight part 1A, a frame part 2 and a beam part 3 formed by etching a semiconductor substrate from the front by the thickness of the beam part 3; a back pattern formed by etching from the back with the beam part 3 left; and a through hole penetrating the semiconductor substrate between the weight part 1A and the frame part 2.例文帳に追加

加速度センサは、半導体基板を表面から梁部３の厚さだけエッチングして形成された錘部１Ａ、枠部２及び梁部３からなる表面パターンと、裏面から梁部３を残すようにエッチングして形成された裏面パターンと、錘部１Ａと枠部２の間に半導体基板を貫通する貫通孔を有している。 - 特許庁

The lithography equipment used for pattern-forming a substrate comprises a lighting system for supplying a projection beam of radiation, an array of individually controllable elements for imparting the cross-section of the projection beam with a pattern, and a substrate table for supporting the substrate at the time of exposure operation, and a projection system projects the patterned beam to a target part of the substrate.例文帳に追加

基板をパターン形成するために使用されるリソグラフィー装置において、放射の投影ビームを供給するための照明系と、投影ビームの断面にパターンを与えるための個別制御可能要素のアレイと、露光動作時に基板を支持するための基板テーブルとを具備し、投影系が、パターン形成されたビームを基板の標的部分の上に投影する。 - 特許庁

The lithography apparatus has a lighting system that provides a radiation beam, a support structure for supporting a product patterning device that adds a product pattern indicating a feature of a product device to a profile of the radiation beam from the lighting system, and a measuring-target patterning device that adds a measuring target pattern indicating a measuring target to the profile of the radiation beam.例文帳に追加

放射線ビームを提供する照明システムと、照明システムからの放射線ビームの断面に製品デバイスのフィーチャを表す製品パターンを付与する製品パターン化デバイスを支持する支持構造と、放射線ビームの断面に、計測ターゲットを表す計測ターゲット・パターンを付与する計測ターゲット・パターン化デバイスとを有するリソグラフィ装置が提供される。 - 特許庁

To provide a method of forming a proper resist pattern by EB (electron beam) direct lithography and proper circuit pattern thereafter in a manufacturing process of semiconductor devices, etc., using the EB (electron beam) direct lithography, which coats the entire substrate uniformly with an EB (electron beam) direct lithography resist even in the presence of electrodes having a gold layer and wirings on the substrate.例文帳に追加

EB（電子線）直接描画を用いる半導体装置等の製造プロセスにおいて、基板上に金（Au）層を有する電極、配線が存在しても基板全体に均一にEB直接描画用レジストが塗布でき、EBの直接描画による良好なレジストパターン形成、その後の良好な回路パターンの形成を可能とした方法を提供する。 - 特許庁