「pattern beam」に関連した英語例文の一覧と使い方(24ページ目) - Weblio英語例文検索

A base station 801 transmits a pilot signal in a specific direction with a narrow directional beam pattern by using an individual pilot channel of a first slot (S323).例文帳に追加

基地局８０１が、第１のスロットの個別パイロットチャネルを用いて、狭い指向性のビームパターンで特定の方向にパイロット信号を送信する（Ｓ３２３）。 - 特許庁

A pattern is projected onto a target through a projection system by a beam of highly energetic charged particles of largely a species of a nominal mass having a nominal kinetic energy.例文帳に追加

パターンが、主に、名目運動エネルギーを有する名目質量の種の高エネルギー荷電粒子のビームを用いて、投射システムを介して対象に投射される。 - 特許庁

The transfer mask consists of a mask body, having a mask pattern and a mask holder 70 for holding this mask body and is to be used for the electron beam exposure system.例文帳に追加

マスクパターンを有するマスク本体と、このマスク本体を保持するマスクホルダ７０とから構成され、電子ビーム露光装置に使用される転写用マスクである。 - 特許庁

An inspection film 10 is irradiated with a laser beam from a laser 11, and Fourier transform is executed by a lens 13, and a Fraunhofer diffraction pattern is obtained on a screen 14.例文帳に追加

被検査フィルム１０には、レーザ１１からのレーザビームが照射され、レンズ１３でフーリエ変換されて、スクリーン１４にはFraunhofer回析パターンが得られる。 - 特許庁

To form a marking pattern by a dot or a dot array with high visibility by radiating a laser beam onto a surface layer of a light-photosensitive heat-developable photosensitive material.例文帳に追加

光感光性熱現像感光材料の表面層にレーザービームを照射して、視認性の高いドットないしドット配列によるマーキングパターンを形成する。 - 特許庁

A sensor 131 detects an image concentration of an image pattern formed on a photoreceptor drum 40 of each color by an imaging device and a light beam scanning apparatus.例文帳に追加

センサ１３１は、作像装置及び光ビーム走査装置により、各色の感光体ドラム４０上に形成された画像パターンの画像濃度を検出する。 - 特許庁

To provide a shape correcting charged particle beam pattern drawing device removing an influence of scan rounding of oblique side parts of a trapezoid and a triangle.例文帳に追加

本発明は形状補正荷電粒子ビームパターン描画装置に関し、台形、三角形の斜辺部分の走査丸めの影響を除去できるようにすること。 - 特許庁

An amorphous silicon 10 is scan-irradiated with a beam pattern 11 including a plurality of recessed patterns 11a in a first scanning direction 12 (a first crystallization process).例文帳に追加

非晶質シリコン１０に、複数の凹パターン１１ａを含むビームパターン１１を、第１のスキャン方向１２にスキャン照射する（第１の結晶化工程）。 - 特許庁

By this, a part of the transparent conductive membrane where the laser beam is irradiated is eliminated for an electrode pattern for one cell formed on the transparent substrate.例文帳に追加

これにより、レーザ光が照射された部分の透明導電性膜が除去され、透明基板上に１セル分の電極パターンが形成される。 - 特許庁

The electrostatic charge potentials in a pattern to be observed and the periphery of an observation range are stabilized by pre-charging with stepwise changing the irradiation range of an electron beam.例文帳に追加

電子線の照射範囲を段階的に変更してプリチャージを行うことによって、観察するパターンと観察範囲周辺の帯電電位を安定させる。 - 特許庁

To provide a laser beam machining apparatus capable of correctly machining a machining pattern even when a machining surface on a work is relatively inclined.例文帳に追加

加工対象物上の加工面が相対的に傾いている場合であっても、加工パターンを正しく加工することができるレーザ加工装置を提供する。 - 特許庁

During scanning, the laser beam is on/off controlled and a plurality of spots scattered radially are projected to an observation area including an affected part A as a pattern light.例文帳に追加

走査の間、レーザービームをＯＮ／ＯＦＦ制御し、放射状に点在する複数のスポットを、パターン光として病変部Ａを含む観察エリアに投影する。 - 特許庁

RESIST FILM FOR ELECTRON BEAM, SUBSTRATE TO BE PROCESSED HAVING ORGANIC CONDUCTIVE FILM STACKED THEREON, METHOD FOR MANUFACTURING THE SUBSTRATE TO BE PROCESSED AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

電子線用レジスト膜及び有機導電性膜が積層された被加工基板、該被加工基板の製造方法、及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁

In addition, in order to plot the oblique side pattern P of a field of the inclined coordinate with only a rectangle, an electronic beam is formed at a rectangle whose respective sides are inclined at 45°.例文帳に追加

更に、座標が傾けられたフィールドの斜辺パターンＰを矩形のみによって描画するため、各辺が４５°傾いた矩形に電子ビームを成形する。 - 特許庁

To provide a ultrasonic imaging apparatus capable of obtaining a clear image without a stripe pattern when sending an ultrasonic beam to receive a plurality of echoes.例文帳に追加

超音波ビームを発信して複数のエコーを受信する場合に、縞模様が存在しない鮮明な画像を得る超音波撮像装置を提供すること。 - 特許庁

To determine proper imaging magnification for every measurement spot in a plurality of the spots, in a charged particle beam device to pick up the image of a semiconductor pattern.例文帳に追加

半導体パターンを撮像する荷電粒子線装置において、複数ある測定個所毎に適切な撮像倍率を定める手法を提供する。 - 特許庁

To provide a beam-scanning inspection apparatus which can carry out length-measurement of a pattern and the like with accuracy.例文帳に追加

本発明の目的は、上記問題を解決し精度良くパターン等の測長を行うことができるビーム走査形検査装置を提供することにある。 - 特許庁

A pattern is drawn on a substrate 90, by having a light beam from an irradiating unit 33 irradiated toward the substrate 90 held on a substrate holding plate 21.例文帳に追加

基板保持プレート２１に保持された基板９０に向けて照射ユニット３３から光ビームを照射することで、基板９０にパターン描画を行う。 - 特許庁

To provide a negative type resist composition for electron beams or X-rays excellent in sensitivity and resolving power even under the condition of a high accelerating voltage and excellent in beam shape reproducibility of a pattern.例文帳に追加

高加速電圧の条件においても、感度、解像力に優れ、且つパターンのビーム形状再現性に優れたネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor laser contrived so as to easily obtain a high output in a low current without dispersing each pattern irradiated with a laser beam.例文帳に追加

レーザ光による各照射パターンが分散することなく、小電流で大出力を容易に得るようにした半導体レーザを提供することを目的とする。 - 特許庁

The polishing surface supports a second type of second substrate, and the projection system is so constituted as to project the radiation beam, provided with the pattern, to the second substrate.例文帳に追加

研磨面は第２のタイプの第２の基板を支持し、投影系は、パターン付与された放射ビームを第２の基板に投影するように構成される。 - 特許庁

To obtain an ion beam machining system in which a fine pattern thin element can be machined by preventing charge up on the surface of a substrate at the time of opening/closing a shutter plate thereby suppressing electrostatic breakdown of the element.例文帳に追加

シャッタ板開閉時の基板面のチャージアップを防ぐことにより、素子の静電破壊を抑制し、微細化、薄膜化した素子の加工を可能とする。 - 特許庁

To provide a charged beam apparatus applicable to an in line evaluation which has a function of high speed and high precision incline observation as well as an incline observation method of a pattern.例文帳に追加

インライン評価に適用可能で高速かつ高精度の傾斜観察機能を有する荷電ビーム装置およびパターンの傾斜観察方法を提供する。 - 特許庁

In addition, another mask area 12 with the Y-direction pattern P2 arranged therein is exposed to an electron beam EB having smaller out-of-focus in the X-direction as compared with the Y-direction.例文帳に追加

また、Ｙ方向パターンＰ２が配置されたマスク領域１２にはＹ方向に比べてＸ方向のぼけが小さい電子線ＥＢで露光する。 - 特許庁

To provide a lighting tool for a vehicle capable of forming a low-beam light distribution pattern with a slanted cutoff line without increasing the number of lighting tool units.例文帳に追加

灯具ユニット数を増やさずに斜めカットオフラインを有するすれ違い配光パターンを形成することができる車両用灯具を提供する。 - 特許庁

Accordingly, both laser beams L13 and L14 proceeding from the beam splitter 110 also have approximately the same mean power, and are transmitted to a mask pattern projecting section 101b.例文帳に追加

したがって、ビームスプリッタ１１０から進むレーザ光Ｌ１３もＬ１４もどちらもほぼ同じ平均パワーとなり、マスクパターン投影部１０１ｂに供給される。 - 特許庁

To provide a charged particle beam aligner and a method for measuring exposure dimensions in which the dimensions of an exposure pattern on a sample can be measured with high accuracy.例文帳に追加

試料上の露光パターンの寸法測定の高精度化を図ることができる荷電粒子線露光装置及び露光寸法測定方法を提供する。 - 特許庁

With this, light forming a near-downward region of an on-coming lane side cutoff line in the low-beam light distribution pattern is prevented from irradiating forward.例文帳に追加

これにより、ロービーム用配光パターンにおける対向車線側カットオフラインの下方近傍領域を形成する光が前方へ照射されないようにする。 - 特許庁

Edges 17, 18 for increasing the light intensity in the peripheries of the cutoff lines CL2, CL3 of the low-beam light distribution pattern LP are provided on a first plate shade 11.例文帳に追加

第１板シェード１１にすれ違い用配光パターンＬＰのカットオフラインＣＬ２、ＣＬ３付近の光量を上げるためのエッジ１７、１８を設ける。 - 特許庁

Blind members are not provided at both the ends of the pattern region CP in a Y direction, but a defect-free area PF of one illumination beam IB is provided.例文帳に追加

パターン領域ＣＰのＹ方向の両端には、ブラインド部材を設けず、照明ビームＩＢ１本分の欠陥フリー領域ＰＦを設けている。 - 特許庁

Therefore, a patterned radiation beam is irradiated, thereby a patterned film 17 is established on the surface of a substrate W according to the pattern.例文帳に追加

したがってパターン化された放射ビームを照射することにより、そのパターンに従ってパターン化された膜１７が基板Ｗの表面に構築される。 - 特許庁

To provide a pattern forming method, where improvement is so made that performance of a connecting part for a light exposure part and an electron beam exposure part can be made to stabilize.例文帳に追加

光露光部と電子ビーム露光部の接続部の性能を安定させることのできるよう改良を加えたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

At this time, a dielectric layer and a conductive pattern for a coil are laminated such that a lamination body is formed and a first through-hole is formed by laser beam machining to the winding core of the coil of the lamination body.例文帳に追加

誘電体層とコイル用導体パターンを積層して積層体内にコイルが形成され、コイルの巻軸部分に磁性体のコアが形成される。 - 特許庁

The method for adjusting the landing angle in the charged particle beam exposure system includes a step of disposing a minute point pattern 51 regarded as being substantially a point on a mask stage 11, and a step of disposing a minute first pin hole 61 on the surface of a wafer.例文帳に追加

マスクステージ１１上にほぼ点とみなせる微小な点パターン５１を配置し、ウェハ面上に微小な第１ピンホール６１を配置する。 - 特許庁

To prevent a shorting failure from occurring due to swelling of a color filter pattern film and a flattened film when recovering a defective pixel part by irradiating it with a beam of laser.例文帳に追加

レーザ照射により画素不良部位の救済を行う際に、カラーフィルタパターン膜や平坦化膜が盛り上がりショート不良が生じることを防止する。 - 特許庁

A rugged surface corresponding to the pit pattern of the information recording disk such as a CD-ROM is formed on a silicon substrate 1 by using an electron beam/photolithography method.例文帳に追加

情報記録ディスク、例えばＣＤ−ＲＯＭ、のピットパターンに対応する凹凸面を、電子ビーム・フォトリソグラフィ法を用いてシリコン基板１に形成する。 - 特許庁

To more accurately evaluate an effect of laser light source over the exposure pattern of spectrum of laser beam or imaging performance, when the laser light source is used as a source of exposure light.例文帳に追加

レーザ光源を露光光源とする場合に、レーザ光のスペクトルの状態の露光パターン又は結像性能に対する影響をより正確に評価する。 - 特許庁

To avoid dropping the gain of an antenna assembly having broadband antenna characteristics over a wide angle of its radiation pattern, thus obtaining a wide width of beam over a wide band.例文帳に追加

広帯域のアンテナ特性をもつアンテナ装置において、放射パターンの広角での利得の落ち込みを防止し、広帯域に亘って広いビーム幅を得る。 - 特許庁

The beam dot pattern provides not only a specific identification character, but also other information, such as a longitudinal address of the tape or data of each servo track by a manufacture.例文帳に追加

ビームドットパターンは固有の識別表示字だけでなく、テープ長手方向アドレスや各サーボトラックの製造者データといったほかの情報をも与える。 - 特許庁

To provide transmission/reception frequency division multiplex wireless equipment that has a transmission/reception array antenna to realize simple and highly accurate transmission beam pattern control.例文帳に追加

簡易でかつ高精度な送信ビームパタン制御を実現する、送受信アレーアンテナを有する送受信周波数分割多重無線装置を提供する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam exposure apparatus for exposing a desired pattern by suppressing the generation of other aberrations when performing an astigmatic correction of an electronic optical system for contraction.例文帳に追加

縮小電子光学系の非点を補正する際、他の収差の発生を抑え、所望パターンを露光できる荷電粒子線描画装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for preparing a semiconductor device by using a method that irradiates a laser beam to a desired position at a high speed while changing over a laser irradiation pattern.例文帳に追加

レーザ照射パターンを切り替えながら、所望の位置に高速にレーザ照射を行う方法を用いた半導体装置の作製方法を提供する。 - 特許庁

To appropriately define coordinates of respective spots in a nano electron beam diffraction pattern to calculate a lattice plane distance with sufficient accuracy.例文帳に追加

本発明の課題は、ナノ電子線回折パタンにおける各スポットの座標を適切に定義し、格子面距離を精度良く算出することを目的とする。 - 特許庁

To perform exposure of high contrast with small amount of electron beam irradiation, accurately form a pattern on a wafer, and perform a highly accurate inspection.例文帳に追加

少ない電子線の照射量で高いコントラストの露光を行わせ、かつ高精度にウェーハ上にパターンを形成させると共に、高精度な検査を行う。 - 特許庁

To form a high resolution and high accuracy chemically amplified resist film pattern having excellent dry etching resistance and small edge roughness in electron beam lithography.例文帳に追加

電子線リソグラフィにおいて、ドライエッチング耐性に優れ、エッジラフネスが小さい、化学増幅型高解像度・高精度レジスト膜パターンの形成を可能にする。 - 特許庁