「pattern defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

The pattern data only of a place where this defect is detected can be output to an external device from the inspection device 100.例文帳に追加

この欠陥の検出された箇所のみのパターンデータは、検査装置１００から外部装置に出力可能である。 - 特許庁

To detect a defect of the pattern of a nano order of a nano-imprint mold (NIM) smaller than the wavelength of illumination light with high accuracy.例文帳に追加

照明光の波長よりも小さい、ナノインプリントモールド（ＮＩＭ）のナノオーダーのパターンの欠陥を高精度で検出する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device by which the repair of a defect of a wiring pattern can be made efficiently.例文帳に追加

配線パターンの欠陥修正の効率化を図ることができる半導体装置の製造技術を提供する。 - 特許庁

Thus, unsuitable exposure (fogging) on the sensitive substrate due to the defect out of the pattern area CP can be prevented.例文帳に追加

これにより、パターン領域ＣＰ外の欠陥に起因する感応基板上への不適正露光（かぶり）を防ぐことができる。 - 特許庁

To provide a pattern forming method capable of attaining both CDU (Critical Dimension Uniformity) performance and defect performance at high levels.例文帳に追加

ＣＤＵ（Critical Dimension Uniformity）性能と欠陥性能とを高い水準で両立させることが可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photomask whose defect quality can be ensured, while forming a gradation pattern in a small area of pixel size.例文帳に追加

ピクセルサイズの小さな領域に階調パターンを形成しながら、欠陥品質保証が可能なフォトマスクを提供する。 - 特許庁

A displaced crest factor emulation defect is selectively positioned at the defective serial data pattern analog output signal.例文帳に追加

欠陥のあるシリアル・データ・パターン・アナログ出力信号に変位クレスト・ファクタ・エミュレーション欠陥を選択的に位置決めする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a wiring circuit board, wherein erroneous detection of a defect of a wiring pattern is sufficiently reduced.例文帳に追加

配線パターンの不良の誤検出が十分に低減された配線回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The defect of the wiring pattern is detected from the angle between the preceding profile vector and the following profile vector (S18).例文帳に追加

そして、先行輪郭ベクトルと追従輪郭ベクトルとの間の角度から配線パターンの欠陥を検出する（Ｓ１８）。 - 特許庁

To provide an exposure mask which can prevent a defect from being caused in a light shielding pattern, and to provide a method for manufacturing the mask.例文帳に追加

遮光パターンに欠陥が入るのを防ぐことができる露光用マスクとその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a substrate processing method capable of preventing the occurrence of a pattern defect by suppressing deformation of a resist pattern due to substitution of a solvent atmosphere in a chamber, in reflow processing for dissolving the resist pattern in the chamber to form a desired resist pattern.例文帳に追加

チャンバ内でフォトレジストパターンを溶解し所望のレジストパターンを形成するリフロー処理において、チャンバ内の溶剤雰囲気置換に伴うレジストパターンの変形を抑制し、パターン不良の発生を防止することのできる基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of making high-precision position corrections of imaging data of a mask pattern in an easy method, and to provide a high-reliability pattern defect inspecting method.例文帳に追加

マスクパターンの撮像データに対して簡便な方法により、高精度の位置補正を行う方法を実現し、高信頼性のパターン欠陥検査方法を実現する。 - 特許庁

To provide a pattern layout method for a photo-mask for pattern transfer by which a mask defect inspection is easily done with enhancement of resolving power contriving by providing auxiliary patterns.例文帳に追加

補助パターンを設けることによって解像力の向上を図りつつ、マスク欠陥検査が容易に行なえるパターン転写用フォトマスクのパターンレイアウト方法を提供する。 - 特許庁

To provide a curable composition for nanoimprint which causes no mold contamination or pattern defect even after repeated pattern transfer and excels in line edge roughness after dry etching.例文帳に追加

繰り返しパターン転写を行ってもモールド汚れ、パターン欠陥が発生せず、かつドライエッチング後のラインエッジラフネスに優れるナノインプリント用硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To prevent defect of a weft by introducing leaning control into shedding control of a heddle or heald frame and making real behavior pattern converging to an optimum pattern.例文帳に追加

綜絖又は綜絖枠の開口制御に学習制御を取り入れ、綜絖又は綜絖枠の実挙動パターンを最適パターンに収束させることにより緯糸不良を防止すること。 - 特許庁

To provide a photomask manufacturing method which can reduce the manufacturing cost by forming the pattern considering the demanded properties such as the positioning precision of each pattern and defect levels.例文帳に追加

パターン毎に必要な位置精度、欠陥レベル等の要求特性を考慮してパターンを形成することで、製造コストを削減可能なフォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

A recipe setting GUI for presetting a parameter required for determining the pattern region and the defect inspection method and sensitivity corresponding to each pattern region are provided.例文帳に追加

また、上記パターン領域の判定に必要なパラメータやパターン領域毎に対応する欠陥検査方式及び感度を予め設定するレシピ設定ＧＵＩを設ける。 - 特許庁

To provide an inspection device capable of inspecting precisely the presence of a defect in a wiring pattern, as to an inspected object with the wiring pattern formed on a polycrystal substrate.例文帳に追加

多結晶基板上に配線パターンが形成されてなる被検査物について、その配線パターンの欠陥の有無を精度良く検出できる検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a water residue decision method by a pattern inspection machine configured to specify a water residue defect from the defective image inspected by the pattern inspection machine.例文帳に追加

パターン検査機で検査された欠陥画像から水残り欠陥を特定できるようにしたパターン検査機による水残り判定方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a servo pattern inspecting device for magnetic tape, which is suitable for inspection of a defect of a magnetized pattern, recorded on a magnetic tape 1, which is thin and long along the length of the magnetic tape 1.例文帳に追加

磁気テープ１に記録された磁化パターンのうち、磁気テープ１の長手方向の細長い欠陥を検査するのに適した磁気テープのサーボパターン検査装置を得る。 - 特許庁

To provide a pattern-inspecting device for reducing unneeded inspection time caused by the pattern defect of design-side data due to the inconveniences of a design data development circuit.例文帳に追加

設計データ展開回路の不具合による設計側データのパターン欠陥に起因する無駄な検査時間を削減することが可能なパターン検査装置を提供する。 - 特許庁

By this, defects existing in the outermost-part pattern 22 can be compared with the dummy pattern 24 existing at a place apart at the periodic pitch, thereby detecting accurate defect.例文帳に追加

これにより、最外部パターン２２に存在する欠陥も、周期ピッチ離れた箇所に存在するダミーパターン２４と比較できるため、正確な欠陥の検出ができる。 - 特許庁

To provide an image acquisition device, a defect correction device and an image acquisition method that stably focus on an electrode pattern or wiring pattern.例文帳に追加

電極パターンまたは配線パターンに安定的に焦点を合わせることができる画像取得装置、欠陥修正装置および画像取得方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a pattern forming method, capable of suppressing development defects by using a defect removing agent in formation of a fine resist pattern by liquid immersion exposure or the like.例文帳に追加

液浸露光法等により微細なレジストパターンを形成する際に、欠陥除去剤を用いることによって、現像欠陥を抑制できるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The reticle pattern is replaced as coordinate data by a certain means and the pattern defect is extracted by differential processing of this coordinate data and CAD coordinate data.例文帳に追加

レチクル検査装置では、レチクルパターンを何らかの手段で座標データとして置き換え、その座標データとＣＡＤ座標データとの差分処理よりパターン欠陥を抽出する。 - 特許庁

The dummy patterns 2 are arranged in such a manner that at least one dummy pattern is present in the objective range of scanning by a mask pattern defect detecting device.例文帳に追加

ダミーパターン２は、パターン点在領域２２内では、マスクパターン欠陥検査装置の走査対象範囲内に少なくとも１個が存在するようにして配置されている。 - 特許庁

To provide a pattern forming apparatus flexibly adaptable to a diversified small-quantity production and easily forming a smooth and defect-free pattern on a desired position.例文帳に追加

少量多品種生産に柔軟に対応でき、かつ滑らかで欠陥のないパターンを所望位置に形成し易いパターン形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a linearly driving device and a variable shutter device each having simple configuration, a defect correcting device using them, and a defect correction method and a method for manufacturing a pattern substrate.例文帳に追加

簡便な構成の直線駆動装置、可変シャッター装置及びそれを用いた欠陥修正装置、並びに欠陥修正方法、及びパターン基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

When the resin layer has a two-layered structure wherein the rugged surface is formed at a lower layer part and an upper layer part is flattened, an adhesion defect and a pattern defect of a rugged film are easily generated.例文帳に追加

この樹脂層が、下層部に凹凸を形成し、上層部に平坦化を持たせた二層構造の場合、凹凸膜の密着性およびパターン不良などが発生しやすい。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a substrate capable of forming a conductive pattern having no defect such as damage on both the faces of the substrate without generating the defect such as the damage on both the faces of the substrate.例文帳に追加

基板の両面に傷等の不良を発生させることなくその基板の両面に傷等の不良のない導電パターンを形成できる基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection method and a defect inspection device capable of surely detecting unevenness due to defects at a surface of an object regardless of pattern or gloss at the surface of the object.例文帳に追加

対象物の表面の模様やツヤによらず、対象物表面の欠陥による凹凸を確実に検出する欠陥検査方法及び欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

For example, the defect may be detected by adding a pattern with respect to the undetected region where it is difficult to detect the defect, and a defective fraction may be lowered by widening intervals of patterns.例文帳に追加

例えば、検出が困難な未検出領域についてパターンを追加することで検出可能とする、パターンの間隔を広げることで不良率を低下させることなどが考えられる。 - 特許庁

To increase the defect detecting accuracy by preventing incorrect detection of a false defect apt to occur when two images are in a high-frequency region, in pattern inspection for comparing a multi-level image.例文帳に追加

多値画像を比較するパターン検査において、２枚の画像が高周波領域にある場合に発生しやすい擬似欠陥の誤検出を防止して、欠陥検出精度を高くする。 - 特許庁

In the nozzle defect inspection method, the abnormal nozzles are detected by preventing the erroneous determination by the blurring of ink even though the recording medium for recording the test pattern is the non-coat paper by the above defect determination.例文帳に追加

この不良判断により、テストパターンを記録する記録媒体が非コート紙であっても、インクの滲みによる誤判断を防止して異常ノズルを検出するノズル不良検査方法である。 - 特許庁

Based on the search domains in the series of resolution-enhanced visible images, pattern analysis is performed by a visible image defect part decision means 6 by using density differences of images to determine a defect part.例文帳に追加

可視画像欠陥部位特定手段６は、高解像度化された一連の可視画像の検索領域に基づいて、画像の濃度差によってパターン解析を行い、欠陥部位を特定する。 - 特許庁

The apparatus 23 for correcting the defect is used for removing the defect of the defective pixels in the pixel pattern provided on the substrate by irradiating the defective pixels with a laser beam.例文帳に追加

本発明にかかる欠陥修正装置２３は、基板上に設けられた画素パターンのうちの欠陥画素に対して、レーザー光を照射することによって欠陥を除去するものである。 - 特許庁

To discriminate the proprietary of the route of a linear pattern with a simple method and allow one to detect, when there is a defect such as discontinuity and adhesion, the defect surely.例文帳に追加

線状パターンの経路の適否判別を簡易な方法で精度良く行うとともに、途切れや接着などの不良がある場合には、確実にその不良を検出できるようにする。 - 特許庁

A defect is detected which is generated in a wafer on which a pattern is formed, and positional relationships between a coordination system for indicating a defect position used by an inspection equipment 1 for outputting the position where the detected defect is generated and a coordination system used in the design data of the pattern are set in multiple ways (steps S3 and S4).例文帳に追加

パターンが形成されたウェハに発生した欠陥を検出し、検出した欠陥の発生位置を出力する検査装置１が使用する欠陥位置を指し示すための座標系と、パターンの設計データにおいて使用される座標系と、の間の位置関係を複数設定する（ステップＳ３、Ｓ４）。 - 特許庁

To provide an appearance inspecting apparatus having the function of detecting an uneven defect and the function of detecting a pattern defect (minute defect) in a color filter or the like, from image data acquired by photographing a substrate such as the color filter or the like having a pattern shape by using an optics and a photographing system with high resolutions.例文帳に追加

カラーフィルタ等のパターン形状を有する基板を解像度の高い光学系と撮像系を用いて撮像した画像データより、カラーフィルタ等のパターン欠陥（微細欠陥）を検出する機能とムラ欠陥を検出する機能とを兼ね備えた外観検査装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

A controller 20 of the defect correction device 1 has a recipe database, wherein the data of a pattern of the next process is stored, and determines the defect which will become a problem later, in accordance with an actual image taken in by the CCD camera 6 and the pattern of the next process.例文帳に追加

欠陥修正装置１の制御装置２０には、次工程のパターンのデータが格納されたレシピデータベースを有し、ＣＣＤカメラ６で取り込んだ実際の画像と、次工程のパターンとから後に問題となる欠陥を判定する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is excellent in development defect performance, liquid immersion defect performance and limit resolution and enables to form a pattern having a good shape, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

現像欠陥性能、液浸欠陥性能、及び限界解像力に優れ、且つ良好な形状を有したパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a screen printing plate which reduces a blur defect or a thin-spot defect in an edge portion of a printed pattern and forms the printed pattern having a high dimensional accuracy and little nonuniformity in the area, and a manufacturing method of an electronic component.例文帳に追加

印刷パターンのエッジ部分におけるにじみ不良やかすれ不良の発生を抑制し、寸法精度が高く面積ばらつきの少ない印刷パターンを形成することができるスクリーン印刷版及び電子部品の製造方法を得る。 - 特許庁

According by, the pattern data is prevented from being unexpectedly divided within the divided region determined according to the defect inspecting machine file format to solve the increase in data by the unnecessary pattern division and the delay of processing operation of the defect inspecting machine using it.例文帳に追加

これにより欠陥検査機用のファイルフォーマットで決まる分割領域内で図形データが不用意に分割されるのを防止して、不必要な図形分割によるデータの増大と、これを利用する欠陥検査機の処理動作の遅れを解消する。 - 特許庁

To enhance defect detection sensitivity at a pattern edge portion by improving the method of determining a correction amount, as to correction of gray level difference at the pattern edge portion performed in an image defect inspection method used for a visual inspection device for a semiconductor circuit.例文帳に追加

半導体回路の外観検査装置に使用される画像欠陥検査方法で行う、パターンエッジ部分におけるグレイレベル差の補正において、補正量の決定方法を改善して、パターンエッジ部分における欠陥検出感度を向上する。 - 特許庁

The difference between the value obtained by multiplying the dimension A1 of the evaluation pattern 11 by the ratio of the dimension B2 to the dimension B1, and the dimension A2 of the reference pattern 11s is calculated as the defect size of the evaluation pattern 11.例文帳に追加

寸法Ｂ１に対する寸法Ｂ２の比率を評価用パターン１１の寸法Ａ１に乗算した値と基準パターン１１ｓの寸法Ａ２との差分を、評価用パターン１１の欠陥サイズとして算出する。 - 特許庁