「pattern defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

Predicted registration is added before defect on a magnetic disk grows and reaches a normal sector by writing a pattern for judgement in an predicted registration sector adjacent to the defect and monitoring a read-error of this pattern, and reliability of data of the magnetic disk unit is therefore improved.例文帳に追加

欠陥に隣接する予想登録セクタに判定用パターンを書き込み、このパターンのリードエラーを監視することにより、磁気ディスク上の欠陥が成長して正常なセクタに到達する前に予想登録を追加し、磁気ディスク装置のデータ信頼性を向上する。 - 特許庁

The method for correcting the pattern comprises the steps of: applying correction ink 8 to the central part of a white defect 7; and jetting air from just above the white defect 7 through an injection plate 23 formed from a porous material to uniformize the thickness of the applied correction ink 8 in the white defect 7.例文帳に追加

このパターン修正方法では、白欠陥７の中央部に修正インク８を塗布した後、多孔質材料で形成された噴射板２３を介して白欠陥７の真上からエアーを噴射し、白欠陥７における修正インク８の厚みを均一化する。 - 特許庁

To provide a surface defect inspection device capable of freely setting an incident angle so as to form an optimum observation condition to each defect or pattern on a subject and further freely setting an incident direction to perform an accurate defect inspection.例文帳に追加

被検体上の各欠陥やパターンに対して最適な観察条件となるように入射角度を自由に設定でき、又これに加えて入射方向を自由に設定でき、精度の高い欠陥検査が可能となる表面欠陥検査装置を提供すること。 - 特許庁

The inspection system for the circuit pattern is provided with an electron beam visual inspection device, provided with a monitor for displaying the defect on a map; and an external visual inspection device for storing an image of the defect, and is constituted to display concurrently the map and the image of the defect on the monitor.例文帳に追加

また、回路パターンの検査システムは、マップに欠陥を表示するモニタを備えた電子線外観検査装置とこの欠陥の画像を記憶した外部外観検査装置とを備え、モニタにマップと欠陥の画像とを同時に表示する構成とする。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern with a high aspect ratio by suppressing occurrence of a defect such as a fallen pattern in a lithography method, a heater used for the method, a semiconductor device using the pattern, and a manufacturing method thereof.例文帳に追加

リソグラフィー工程において、パターンの倒れなどの不具合の発生を抑制して、高アスペクト比を有するパターンを形成する方法、それに用いる加熱装置、そのパターンを用いた半導体装置、およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

A correcting device 1 comprise a pattern correcting mechanism 2, image detecting mechanism 3, drive part 6, drive-part control part 7, defect discriminating circuit 11, pattern comparison circuit 12, matching identifying circuit 13, and correction pattern control circuit 14, etc.例文帳に追加

修正装置１は、パターン修正機構２、画像検出機構３、駆動部６、駆動部制御部７、欠陥選別回路１１、パターン比較回路１２、一致指摘回路１３、および修正パターン制御回路１４等を備えている。 - 特許庁

In a manufacturing method of a lithography original, a continuous pattern of periodic patterns 4 which appear on a circuit pattern 3 is formed over the substantially whole area of a substrate, and defect inspection is performed to detect defects in the continuous pattern.例文帳に追加

実施の形態のリソグラフィ原版の製造方法は、回路パターン３に表れる周期的パターン４を連続させた連続パターンを基板の略全面にわたって形成し、連続パターンの欠陥を検出する欠陥検査を行う。 - 特許庁

Resist patterns corresponding to at least two exposure shots are extracted, and the resist pattern corresponding to at least one shot is compared with a master pattern as an inspection reference so as to inspect whether a defect is present in the resist pattern or not and to extract a defective portion.例文帳に追加

ここでは、レジストパターンを少なくとも２ショット分取り出し、この内の少なくとも１ショット分のレジストパターンと、検査の基準となるマスタパターンとを比較して上記レジストパターンの欠陥の有無を検査し欠陥個所を抽出する。 - 特許庁

To provide an antenna that uses aluminum and is inexpensive and practical by eliminating a pattern precision defect of an aluminum pattern layer, formed by chemical etching, which is caused when the material of a metal pattern layer is changed from copper to inexpensive aluminum.例文帳に追加

金属パターン層の材質を銅から安価なアルミニウムに代えると生じる、ケミカルエッチングで形成したアルミニウムパターン層のパターン精度不良を解消して、アルミニウムを用いた安価でしかも実用可能なアンテナを提供する。 - 特許庁

In the surface defect data display management device 3, a risk level calculation part 33 calculates an influence degree of a defect upon yield of the final product on the basis of a defect size of the wafer detected by an appearance inspection device 12 and a review device 10 and a pattern density obtained from design data of a pattern figure corresponding to neighbors of the position of the defect.例文帳に追加

表面欠陥データ表示管理装置３において、危険率算出部３３は、外観検査装置１２やレビュー装置１０によって検出されたウェーハの欠陥サイズと、その欠陥の位置の近傍に対応するパターン図の設計データから得られるパターン密度とに基づき、その欠陥が最終製品の歩留まりに影響を及ぼす影響度を表面欠陥の危険率として算出する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition excellent in pattern collapse margin with excellent fine pattern formation, excellent pattern shape, and less development defect even in not only normal exposure (dry exposure) but also immersion exposure, and to provide a pattern forming method using it.例文帳に追加

通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光においても、微細で良好なパターン形成が可能で、パターン形状が良好であり、現像欠陥が極めて少なく、且つパターン倒れマージンに優れた、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of producing a mask blank and a method of producing a transfer mask, for obtaining desired flatness of the mask blank even when a thin film has a film stress, and preventing reduction in positional accuracy of a mask pattern as well as pattern shift and pattern defect during pattern transfer.例文帳に追加

薄膜自体に膜応力がある場合においても、マスクブランクの平坦度が所望の平坦度となり、マスクのパターン位置精度や、パターン転写の際、パターン位置ずれやパターン欠陥が発生することがないマスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a stamper capable of reducing a height defect of a pattern and fluctuation of a pattern width and accurately forming a more minute pattern shape by reducing scattering of an electron beam when a conductive layer is formed under a resist layer to draw a pattern on the resist layer.例文帳に追加

レジスト層の下に導電化層を形成してレジスト層にパターンを描画する際の電子線の散乱を低減することにより、パターンの高さ不良やパターン幅のばらつきを低減し、以ってより微細なパターン形状を精度よく形成可能なスタンパの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of producing a mask blank and a method of producing a transfer mask, for achieving a desired flatness of the mask blank even when a thin film itself has a film stress, and avoiding degradation in positional accuracy of a mask pattern or occurrence of a pattern displacement error and a pattern defect during pattern transfer.例文帳に追加

薄膜自体に膜応力がある場合においても、マスクブランクの平坦度が所望の平坦度となり、マスクのパターン位置精度や、パターン転写の際、パターン位置ずれやパターン欠陥が発生することがないマスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

A light defect 42 is determined as a location where the brightness of the image pattern exceeds the brightness of the upper pattern image by comparing the brightness at each location in each gray area of the image pattern picked up by the image pickup apparatus with the brightness at each location in each gray area of the upper pattern image.例文帳に追加

そして、画像読取装置で読取った画像パターンの各濃淡域における各位置の輝度と上限パターン画像の各濃淡域における各位置の輝度とを比較して、画像パターンの輝度が上限パターン画像の輝度を超えた位置を明欠陥４２と判定する。 - 特許庁

Since this coating agent for making the pattern finer contains the water-soluble peptide, the pattern can be narrowed with a large narrowing quantity compared with a conventional coating agent for making the pattern finer, without causing any defect after processing with the coating agent for making the pattern finer.例文帳に追加

本発明のパターン微細化用被覆剤は水溶性ペプチドを含有するので、パターン微細化用被覆剤による処理の後にディフェクトが発生することなく、従来のパターン微細化用被覆剤に比べて大きな狭小化量により、パターンの狭小化を行うことができる。 - 特許庁

As a result, the developer or the resist component is suppressed from being residual on the surface of the substrate to obtain a pattern in which the development defect is reduced.例文帳に追加

このため基板の表面に現像液やレジスト成分が残るのを抑えられて現像欠陥の少ないパターンを得ることができる。 - 特許庁

To provide an optical disk manufacturing sheet wherein a void defect hardly takes place on a rugged pattern transposition face of a hardened stamper receptor layer.例文帳に追加

硬化したスタンパー受容層の凹凸パターン転写面にボイド状の欠点が生じ難い光ディスク製造用シートを提供する。 - 特許庁

To make the inspection of pattern defects possible in a photomask using a resist as a light shield by a photomask defect inspection device which detects transmitting light.例文帳に追加

レジストを遮光体としたホトマスクにおいて、透過光検出型のホトマスク欠陥検査装置によるパターン欠陥検査を可能にする。 - 特許庁

To suppress deterioration of resolution by erroneous correction by suppressing defect correction at an edge of an image pattern.例文帳に追加

画像パターンのエッジではキズ補正を抑制することで誤補正による解像度低下を抑制することを最も主要な特徴とする。 - 特許庁

A defect information file from another testing apparatus is retrieved, and based on the content of the file, a new recipe for the circuit pattern testing apparatus 1 is created.例文帳に追加

また、他の検査装置で検査された欠陥情報ファイルを読み込み、その内容から当該検査装置用のレシピを生成する。 - 特許庁

The statistical value of the potential contrast of a pattern part is calculated from a sampled picture, and the defect occurrence situation of the whole wafer is estimated.例文帳に追加

サンプリングされた画像から、パターン部分の電位コントラストの統計量を算出し、ウェハ全体の欠陥発生状況を推定する。 - 特許庁

The defect inspection device is also provided with a spatial filter arranged on a Fourier transformation face for shutting out diffracted rays from the linear part of the circuit pattern.例文帳に追加

更に、回路パターンの直線部分からの回折光を遮光するためにフーリエ変換面上に設けた空間フィルタを有する。 - 特許庁

To provide a method of forming a pattern of a gold plated layer thin and little in defect on a stainless substrate while suppressing the corrosion to a stainless substrate.例文帳に追加

ステンレス基板への腐食を抑え、薄く欠陥のない金めっき層のパターンをステンレス基板上に形成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern defect inspecting device capable of detecting micro defects on a sample with high sensitivity without causing speckle noise in signals.例文帳に追加

試料上の微小欠陥を信号にスペックルノイズを発生すること無く、高感度に検出できるパターン欠陥検査装置を実現する。 - 特許庁

To provide a letterpress printing machine capable of forming a high-quality and highly precise print pattern having no defect.例文帳に追加

本発明は、欠陥がなく印刷品位の高い、高精細な印刷パターンを形成する凸版印刷機を提供することを目的とする。 - 特許庁

Then the processor advances to an all picture element reading-out mode and makes defect inspections by performing pattern matching based on the selected template image data.例文帳に追加

次いで、全画素読み出しモードに進み、前記の選択したテンプレート画像データに基づいてのパターンマッチングにより欠陥検査を行う。 - 特許庁

To provide a method and a device for correcting a white defect in a photomask with high correction accuracy while preventing influences on image quality on transferring a pattern.例文帳に追加

転写時の像質への影響がなく修正精度の高いフォトマスクの白欠陥修正方法及び装置を提供すること。 - 特許庁

A defect is determined according to the result of comparison between the generated ideal pattern and the unit patterns contained in the inspection image S.例文帳に追加

そして、この生成された理想パターンと被検査画像Ｓに含まれる単位パターンとを比較した結果を用いて欠陥を判定する。 - 特許庁

To provide a substrate for imprint, transferring an uneven pattern with a small defect rate by photo nanoimprint.例文帳に追加

本発明は、光ナノインプリントによる欠陥率の小さい凹凸パターンの転写が可能なインプリント用基板を提供することを目的とする。 - 特許庁

To shorten a supply time of an address signal from a pattern generator to a defect analysis memory in a memory test device.例文帳に追加

メモリ試験装置において、パターン発生器から不良解析メモリまでのアドレス信号の供給時間を短縮することを目的とする。 - 特許庁

To automatically prepare a mask image capable of reliably masking a border line of a light-and-shade pattern, and to appropriately detect coating defect.例文帳に追加

明暗パターンの境界線をより確実にマスクするマスク画像を自動作成すると共に塗装欠陥をより適切に検出する。 - 特許庁

To provide a method of correcting a reticle which is capable of correcting a black defect in such a manner that the perpendicularity of a pattern section may be assured.例文帳に追加

パターン断面の垂直性を確保できるように黒欠陥を修正することができるレチクルの修正方法を提供すること。 - 特許庁

Further, the defect compensating circuit 76 performs interpolation using a prepared interpolation pattern selected according to adjacent patterns of the dot flaw and line flaws.例文帳に追加

また、欠陥補正回路７６は点キズと線キズの隣接パターンに応じて予め用意された補間パターンから選択して補間する。 - 特許庁

Inspection units 10 and 20 performing macro defect inspection or line width measurement of a pattern are disposed in the indexer ID.例文帳に追加

マクロ欠陥検査やパターンの線幅測定等を行う検査ユニット１０および検査ユニット２０はインデクサＩＤの内部に配置している。 - 特許庁

A defect is determined thereby in the pattern inspection, by comparing detection signals obtained substantially concurrently in the same circuit patterns.例文帳に追加

これにより、同一の回路パターン同士でほぼ同時に得られた検出信号を比較し、パターン検査の欠陥判定を同時に行う。 - 特許庁

Corresponding two pattern parts which differ on an object 3 to be inspected are aligned to each other and are compared to conduct defect inspection.例文帳に追加

被検査物（３）上の異なる２ヵ所の対応するパターン部分を位置合わせし、パターンを比較することにより欠陥検査を行う。 - 特許庁

To provide a method and device for converting pattern data never causing the unexpected increase in data capacity even in the conversion of CAD data for a drawing machine to pattern data for a defect inspecting machine or the reduction in processing speed of the defect inspecting machine by an unnecessary region division.例文帳に追加

描画機用のＣＡＤデータを欠陥検査機用の図形データに変換してもデータ容量が不用意に増大したり不要な領域分割によって欠陥検査機の処理速度が低下したりすることのない図形データ変換方法およびデータ変換装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a visual inspection device and a visual inspection method capable of defect detection even in a domain other than a repeated pattern domain without generating a reference image, when detecting a defect appearing in the appearance of a substrate on whose surface an electric pattern is to be formed or has been formed.例文帳に追加

表面に電気的パターンが形成される、又は形成された基板の外観に現れる欠陥を検出する際に、基準画像を生成することなく、繰り返しパターン領域以外の領域においても欠陥検出が可能な外観検査装置及び外観検査方法を提供する。 - 特許庁

A correction similar to the correction of irradiated region with respect to the pattern matching processing from the usual secondary ion image or secondary electron image of the ion beam defect correcting device is performed and a defect region 3b which is extracted by the AFM and is subjected to fine adjustment by the conformation of the pattern for alignment is corrected by ion beams 8.例文帳に追加

イオンビーム欠陥修正装置の通常の二次イオン像もしくは二次電子像からのパターンマッチング加工に対する照射領域の補正と同様な補正を行い、AFMで抽出し、位置合わせ用のパターンの合わせ込みで微調整された欠陥領域3bをイオンビーム8で修正する。 - 特許庁

When exposure of patterns are performed in order using the split masks MDM of the main mask MM and a pattern is exposed using the split mask MDM having the defect of the mask MM, the exposure is performed using the split mask CDM, which corresponds to the mask MDM having the defect and has no defect, of the mask CM.例文帳に追加

主マスクＭＭの分割マスクＭＤＭにより順次露光を行い、かつ主マスクＭＭの欠陥がある分割マスクＭＤＭを露光する際に、当該欠陥がある分割マスクＭＤＭに対応する欠陥のない補償マスクＣＭの分割マスクＣＤＭを用いて露光を行う。 - 特許庁

To provide a printing method having an inspecting and modifying technique which does not require a high-level defect discrimination system, can easily correct a high-precision defect and hardly causes the loss of a substrate to be printed when forming a defect-free image pattern on the substrate to be printed by using a printing process.例文帳に追加

印刷法を用いて被印刷基板に欠陥のない画像パターンを形成するに当たり、高度な欠陥識別システムが不要で、容易に高精度な欠陥修正が可能で、被印刷基板のロスが少ない検査・修正技術を備える印刷方法を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection method discovering early a VA pattern formation defective substrate by detecting a partial VA deficiency of VA having a line width of 5-10 μm, and improving a line production efficiency, and also to provide a defect inspection device to which the defect inspection method is adapted.例文帳に追加

線幅５μｍ〜１０μｍのＶＡの、部分ＶＡ欠損を検出することで、ＶＡパターン形成不良基板を早期に発見し、ラインの生産効率を向上させることが可能な欠陥検査方法、および、この欠陥検査方法を適応した欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

The disconnection and appearance defect of a wiring pattern in a printed circuit board 1 enabling multiple semiconductor devices 5 to be mounted are checked, and then a defect recognition mark 2 that can be identified by image recognition is added to a semiconductor device mount area corresponding to the defect location on the printed circuit board 1.例文帳に追加

複数の半導体素子５が搭載可能なプリント基板１の配線パターンの断線および外観不良のチェックを行い、プリント基板１の不良箇所に対応して該当する半導体素子搭載領域に画像認識などによって識別可能な不良認識マーク２を付与する。 - 特許庁

To provide a method and a detector for detecting a surface defect capable of detecting an uneven stripe-like defect even in any position on a surface of a belt-like body, and capable of visualizing the uneven stripe-like defect as a pattern easy to be recognized by the human being.例文帳に追加

凹凸性筋状欠陥が帯状体の表面のどの位置に存在してもその検出が可能となり、かつ、凹凸性筋状欠陥を人間が認知することが容易なパタンとして可視化することが可能な表面欠陥検出方法及び装置を提供する。 - 特許庁