「pattern defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

Also, by having both a low resolution optical system and a high resolution optical system, both a circular or a rectangular pattern defect and a defect of fine line width such as an CD error can be detected simultaneously.例文帳に追加

さらに、低解像度光学系と高解像度光学系の両方を具えることにより、円形又は矩形のパターン欠陥とＣＤエラーのような微細線幅の欠陥の両方を同時に検出することができる。 - 特許庁

To provide an imaging condition determination method for finding an area where the luminance difference becomes maximum in unit patterns of a periodic pattern, and to provide a defect inspection method that uses the same, and a defect inspecting device.例文帳に追加

周期性パターンの単位パターンにおいて輝度差が最大となる領域を求めるための周期性パターンの撮像条件決定方法、これを用いた欠陥検査方法、および欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method and a system for preferentially analyzing a defect with the possibility of becoming an electrical failure in the inspection of the foreign matter and pattern defect of a work forming an electronic device such as a semiconductor integrated circuit.例文帳に追加

半導体集積回路などの電子デバイスを形成するワークの異物やパターン欠陥の検査において、電気的に不良になる可能性の欠陥を優先的に解析する方法とシステムを提供する。 - 特許庁

To provide a defect correcting method of photomask by which the operability of correction of black defect in a circular transmission pattern is largely improved and the correction almost just as design can be performed in the precision of correction too.例文帳に追加

円形の透過パターン内の黒欠陥の修正の作業性が飛躍的に向上するとともに、修正精度においてもほぼ設計通りの修正が可能であるフォトマスクの欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

Similarly, an automatic test pattern generation tool may use the defect location information to generate test data custom-tailored to check for faults corresponding to the identified defect in the specified portions of the microcircuit.例文帳に追加

同様に、自動試験パターン生成ツールは、欠陥位置情報を用い、微小回路の指定部分内の同定された欠陥に対応する故障を検査するために特別に作成された試験データを生成し得る。 - 特許庁

After the wafer 5 is positioned, pattern dimensions at a specified inspecting part are measured and then the wafer 5 is mounted on a defect detecting function section 17 and a defect sorting function section 18 where defects are detected and sorted.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は複数台のＳＥＭの内少なくとも一部が、寸法測定，パターン欠陥検査、及びレビューの内少なくとも２以上の機能を有する検査システムを提供する。 - 特許庁

After the optical image and the reference image of the entire mask 101 are stored, a pattern defect inspection of the mask 101 is conducted by a defect inspection section 124 using the optical image and the reference image of the entire mask.例文帳に追加

マスク１０１全体の光学画像及び参照画像が格納された後、欠陥検査部１２４によりこのマスク全体の光学画像及び参照画像を用いてマスク１０１のパターン欠陥検査が実行される。 - 特許庁

In this method, a means of synchronization with detection of defects to calculates amount of image features of the defect, and a means for classifying defects into clusters, depending on the calculated amount of image features are added to the high-speed pattern defect inspection system.例文帳に追加

高速のパターン欠陥検査装置に、欠陥の検出に同期して欠陥の画像的特徴量を計算する手段と、計算された特徴量によって欠陥をクラスタに分類する手段とを付加する。 - 特許庁

To provide a member for a plasma display panel, surely repairing a broken-wire defect part of an electrode having a minute pattern, thereby eliminating a broken-wire defect in the electrode, so that a sharp and high- quality picture image can be obtained when it is assembled into the panel.例文帳に追加

微細パターンを有する電極の断線欠陥部を確実に修復し、パネル化した状態で鮮明かつ高品質な画像が得られるような、電極断線欠陥のないプラズマディスプレイパネル用部材の提供。 - 特許庁

By using laser annealing which is a relatively low temperature process, only the minute defect of the surface of the mold can be annealed, so that only the minute defect can be corrected without deforming the pattern shape of the mold.例文帳に追加

比較的低温プロセスであるレーザアニールを用いることで、モールド表面の微小欠陥のみをアニールが可能となり、モールドのパターン形状を変形させることなく、微小欠陥のみを修復することが出来る。 - 特許庁

To provide a print pattern inspection method and an inspection device capable of suppressing pseudo defect detection by reducing an influence of meandering or expansion/contraction of a base material to be printed, and detecting a defect growing little by little.例文帳に追加

被印刷基材の蛇行や伸縮の影響を小さくして擬似不良検出を抑え、少しずつ成長するような不良の検出も可能な印刷絵柄検査方法及び検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a repair method for a paste pattern in which the line width of the paste pattern is kept constant in a repair section of the paste pattern where a defect occurs by applying paste by a dot coating system by an amount corresponding to the repair section.例文帳に追加

ペーストパターンの欠陥が発生したリペア区間に対して、リペア区間に対応する量のペーストを点形塗布方式により塗布することで、リペア区間でペーストパターンの線幅を一定に維持し得るペーストパターンのリペア方法を提供すること。 - 特許庁

To overcome the problem in a circuit pattern inspection apparatus using an electrode contactlessly or capacitively coupled to the conductor pattern, wherein it is difficult to determine a defect since an obtained inspection signal value is small if a conductor pattern to be inspected is microfabricated.例文帳に追加

導体パターンに非接触で容量結合した電極を用いた回路パターン検査装置においては、検査対象の導電パターンの微細化が進むと共に、得られる検査信号値が小さくなり、欠陥の判定が難しくなっている。 - 特許庁

To prevent occurrence of a side lobe and occurrence of a resist defect even when an enhancer mask with which both of a fine isolated contact pattern and a dense contact pattern can be simultaneously formed is provided with an accessory pattern or the like comprising a large aperture.例文帳に追加

微細な孤立コンタクトパターン及び密集コンタクトパターンの同時形成が可能なエンハンサマスクに大開口部からなるアクセサリパターン等を設けている場合にも、サイドローブの発生及びレジスト欠陥の発生を同時に防止できるようにする。 - 特許庁

To easily, speedily and accurately repair a defect (wire breaking, detect in conduction, etc.), generated on a microcircuit pattern such as an address electrode pattern of a flat panel display (plasma display panel, liquid crystal display, etc.), and an LSI circuit pattern on a silicon wafer.例文帳に追加

フラットディスプレイパネル（プラズマディスプレイパネル、液晶ディスプレイ等）のアドレス電極パターンやシリコンウェハ上のＬＳＩ回路パターン等の微細回路パターン上に生じた欠陥（断線、導通不良等）を、簡単、迅速かつ正確に修復することができる。 - 特許庁

When performing detection/automatic classification of a defect of the inspection object 1 having a repeated pattern such as a liquid crystal display device or a semiconductor wafer, the repeated pattern is divided beforehand into a plurality domains, and databases 71, 72, 73 for automatic classification differentiated by a domain on the repeated pattern to which a defect portion detected from an inspection image belongs are created.例文帳に追加

液晶表示装置や半導体ウェハ等の繰り返しパターンを持つ検査対象物１の欠陥を検出・自動分類する際、繰り返しパターンを予め複数の領域に分割し、被検査画像から検出された欠陥部位が上記繰り返しパターンのどの領域に属するによって異なった自動分類用データベース７１，７２，７３を作成しておく。 - 特許庁

To provide a pattern inspection device and a pattern inspection method capable specifying a defect shape precisely without being affected by the spattering of copper, and to provide a printed circuit board inspected by the method.例文帳に追加

銅の飛び散りに影響されず，欠陥形状について高精度に特定できるパターン検査装置およびパターン検査方法およびその方法により検査されたプリント配線板を提供すること。 - 特許庁

When drying by vacuum heating is carried out after forming a pattern 3 of the organic layer of the organic EL element by using a non-vacuum process, the defect inspection of the pattern is carried out by using optical means 19 and 11.例文帳に追加

非真空プロセスを用いて有機ＥＬ素子の有機層のパターン３を形成した後の真空加熱乾燥を行う際に、光学的手段１９、１１を用いてパターンの欠陥検査を行うこと。 - 特許庁

In this repair method, irradiation of charged particle beam is selectively performed at least two times to a black defect part 13 generated on the transfer pattern, and correction of the transfer pattern is performed.例文帳に追加

このリペア方法は、該転写パターンに生じた黒欠陥部１３に少なくとも２回の荷電粒子線の照射を選択的に行うことにより該転写パターンの修正を行うものである。 - 特許庁

To provide an inspection device for pattern defects, capable of realizing high reliability stable pattern defect inspection, having high resolution relative to minute patterns by using an ultraviolet laser beam as the light source.例文帳に追加

紫外レーザ光を光源として微細パターンを高解像度で、しかも安定したパターン欠陥検査を高信頼性で実現するようにしたパターン欠陥検査装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a liquid crystal display element that can prevent a defect of a print pattern by forming a print pattern formed on a cliche so that its depth varies with the line width.例文帳に追加

クリシェに形成される印刷パターンを、その線幅によって深さが異なるように形成することによって、印刷パターンの不良を防止できる液晶表示素子の製造方法を提供しようとする。 - 特許庁

To efficiently separate a signal from a pattern from a signal from a defect, in a technique for inspecting a micro circuit pattern using an image formed by irradiation with a white light, a laser beam or an electron beam.例文帳に追加

白色光・レーザ光・あるいは電子線を照射して形成された画像を用いて微細な回路パターンを検査する技術において、パターンからの信号と欠陥からの信号を効率的に分離する。 - 特許庁

Thereby, in the each pixel 20R1, 20G1, 20B1 for R, G, B; pixel pattern density of corresponding pixel circuit become equal one another, and a pattern defect rate is reduced as a whole pixel circuit.例文帳に追加

これにより、Ｒ，Ｇ，Ｂ用の各画素２０Ｒ１，２０Ｇ１，２０Ｂ１において、対応する画素回路の画素パターン密度が互いに均等となり、画素回路全体としてのパターン欠陥率が低減する。 - 特許庁

This reticle repair method has a pattern transfer section comprising an electron beam scattering body and is a method of correction processing of the pattern defect of the reticle 13 used in exposure by electron beams.例文帳に追加

本発明に係るレチクルリペア方法は、電子線散乱体から構成されたパターン転写部を有し、電子線で露光する時に用いるレチクル１３のパターン欠陥を修正加工する方法である。 - 特許庁

In a pattern data processing part 40, pattern data used for mask design is converted to image data for inspection by FIR filter processing, and the image for defect detection and the image data for inspection are collated with each other.例文帳に追加

また、パターンデータ処理部４０で、マスクの設計に用いたパターンデータにＦＩＲフィルタ処理を行って検査用画像データに変換し、欠陥検出用画像と検査用画像データとを照合する。 - 特許庁

The accuracy defect of the drawing is prevented from affecting the stitching of the pattern transfer by surely avoiding the coincidence of the places where the accuracy of the mask drawing is poor with the places of the stitching of the pattern transfer.例文帳に追加

マスク描画の精度の悪い場所とパターン転写のつなぎの場所を確実に一致させないようにして、描画の精度不良がパターン転写のつなぎに影響を与えないようにする。 - 特許庁

To provide a solder resist layer excellent in adhesion with a marking pattern formed by using an ink jet printer, which can inhibit defect such that the marking pattern is likely to be fragile and broken.例文帳に追加

インクジェットプリンターを用いて形成されるマーキングパターンとの密着性が良く、当該マーキングパターンが脆くなり割れやすくなるといった不具合を抑制することができるソルダーレジスト層を提供すること。 - 特許庁

To provide a pattern defect correcting device which can be used effectively for a correction object having a large variety of pattern shapes like a photomask used in a manufacturing process of a shadow mask.例文帳に追加

シャドウマスクの製造過程で用いるフォトマスクのように、多種多様なパターン形状を有する修正対象に対しても有効に利用することができるパターン欠陥修正装置を提供する。 - 特許庁

To provide a magnetic transfer apparatus and a method by which a magnetic pattern of a master disk can be accurately transferred to a slave disk without causing defect or the like.例文帳に追加

マスターディスクの磁気パターンを欠陥等を生じずに、正確にスレーブディスクに転写できる磁気転写装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To carry out the evaluation of the defect inspection or the like of a test piece having a pattern of a minimum line width of 0.2 μ or less by using a multiple beam at high throughput.例文帳に追加

最小線幅０．２ミクロン以下のパターンを有する試料の欠陥検査等の評価を、マルチビームを用いて高スループットで行なう。 - 特許庁

Consequently, generation of pattern defect is retarded at the time of manufacture and an excellent performance for discharging bubbles in ink is provided as one structural advantage.例文帳に追加

したがって、製造時のパターン欠陥が発生しにくく、また、その構造上の利点として、インク中の気泡の排出性に優れている。 - 特許庁

Further, if ink jet shading-off coating is performed, the feeling of physical disorder of the defect part of the printing pattern can be eliminated even if a gravure printing approximate color is not applied.例文帳に追加

また、インクジェットぼかし塗装を行えば、グラビア印刷近似色にしなくても、印刷柄抜け部の違和感をなくすことができる。 - 特許庁

The defect inspection apparatus is characterized by the direction of a pattern; the direction of the projection of illumination light to a sample, and the polarization of the illumination light.例文帳に追加

本発明の特徴は、パターンの方向と、照明光の試料への射影の方向と照明光の偏光に着目したことにある。 - 特許庁

To provide a method for heating a billet, applying the optimum heat pattern to the pipe-making of a high Cr-based seamless steel pipe having a little defect in the internal surface.例文帳に追加

内面欠陥の少ない高Ｃｒ系継目無鋼管の製管に最適なヒートパターンを適用するビレット加熱方法を提供する。 - 特許庁

To realize a pattern inspection method and an inspection apparatus with a simple structure, which surely detect killer defects but do not detect one being not the killer defect.例文帳に追加

キラー欠陥は確実に検出するが、非キラー欠陥は検出しない簡単な構成のパターン検査方法及び検査装置の実現。 - 特許庁

A plurality of terminals are provided for one electrode pattern to prevent the continuity defect and an operation check before a fastening operation is made possible.例文帳に追加

また、端子は一電極パターンに対して複数個設け導通不良の防止を図り、加締め前に動作確認が可能な構成としている。 - 特許庁

In this manner, the scattering of the fine particles forms the pseudo defect 5 with the fine particle as the base in the mask pattern 4 on the mask substrate.例文帳に追加

このように微粒子を散布することで、前記マスク基板上のマスクパターン４に前記微粒子を基にした擬似欠陥５を形成する。 - 特許庁

To obtain fail pattern data in a spare area on a must repair line without spending much time in the process of the defect relief and analysis processing of a memory.例文帳に追加

メモリの不良救済解析処理の過程において、マストリペアライン上のスペア領域のフェイルパターンデータを時間を掛けることなく取得する。 - 特許庁

To correct a defect of a pattern formed on a surface of a resin substrate with high quality by laser beam irradiation without damaging the resin substrate.例文帳に追加

樹脂基板の面上に形成されたパターンの欠陥を樹脂基板にダメージを与えることなく、レーザ光照射により高品位に修正する。 - 特許庁

Then the command value of the laser apparatus is adjusted on the basis of the operating information items so as to prevent a pattern defect on the integrated circuit chip.例文帳に追加

そしてこれらの動作情報に基づいて集積回路チップにパターン不良が生じないようにレーザ装置の指令値を調整する。 - 特許庁

To realize a new method for accurately detecting the defect and distortion of the mask pattern of an electron beam exposure device relatively in a short time.例文帳に追加

電子ビーム露光装置に使用するマスクパターンの欠陥及び歪みを、実際の露光電子パターンを比較的短時間に正確に測定できる。 - 特許庁

To solve a problem of dependency caused by a pattern length and a bias position of a Mach-Zhender modulator by removing defect of existing duobinary optical transmitters.例文帳に追加

既存のデュオバイナリー光送信機の短所を除去し、パターン長さ及びマッハツェンダー変調器のバイアス位置による依存性問題を解決する。 - 特許庁

To provide a reticle repair method which can exactly and easily detect the end point of repair processing in repair processing of the pattern defect of a reticle.例文帳に追加

レチクルのパターン欠陥を修正加工する際に的確且つ容易に修正加工の終点を検出できるレチクルリペア方法を提供する。 - 特許庁

A flat silicon-on-insulator(SOI) substrate having no transition defect containing an SOI region with a pattern and a bulk area is formed.例文帳に追加

パターン付きのＳＯＩ領域およびバルク領域を含み、遷移欠陥のない平坦なシリコン・オン・インシュレータ（ＳＯＩ）基板を形成する方法。 - 特許庁

To provide a shape measurement device capable of highly precisely measuring the pattern shape and defect on a substrate applied with microfabrication.例文帳に追加

高い精度で、微細加工処理が施された基板上のパタン形状ならび欠陥を測定することが可能な形状測定装置を提供する。 - 特許庁