「pattern formation」に関連した英語例文の一覧と使い方(38ページ目) - Weblio英語例文検索

Concretely, the emission ratio determination means determines emission ration of emission component to reduce ozone formation quantity by referring ozone forming pattern.例文帳に追加

具体的には、排出比率決定手段は、オゾン生成パターンを参照することによって、オゾン生成量が低減されるような排気成分の排出比率を決定する。 - 特許庁

Variations in the thickness of the circuit pattern are averaged out, by preventing the locations of the nozzles of the head part 100b in the formation of a plurality of layers of circuit patterns from superimposing.例文帳に追加

複数層の回路パターンを形成するときのヘッド部１００ｂのノズル位置が重ならないようにすることで、回路パターンの厚みのばらつきを平均化する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which is concurrently equipped with high planarization performance and high sensitivity and has high visible light transmittance, in the formation of a cured resin pattern.例文帳に追加

硬化樹脂パターンの形成において、高い平坦化性能や高い感度等を兼ね備え、高い可視光透過性を有する感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

After the formation of an interlayer insulation film 6, the interlayer insulation film 8 is etched by reactive ion etching with a resist pattern 8 as a mask so as to form the connection hole (Figure 1 (a)).例文帳に追加

層間絶縁膜６の形成後、接続孔を形成すべくレジストパターン８をマスクとして、反応性イオンエッチングにより層間絶縁膜８のエッチングを行なう（図１（ａ））。 - 特許庁

Metal-contained resin particles 16 are transferred to the substrate 11 by electrophotography according to a formation pattern of a wiring layer 13 to form a plating base layer 12.例文帳に追加

基板１１上に電子写真方式を適用して金属含有樹脂粒子１６を、配線層１３の形成パターンに応じて転写して、メッキ下地層１２を形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a printed wiring board with which a circuit pattern is formed inexpensively and accurately without performing metallize treatment such as seed layer formation or removal.例文帳に追加

シード層の形成や除去といったメタライズ処理を実行することなく、安価に精度よく回路パターンを形成するプリント配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a formation method of pixel pattern by which, if a dye or a lake pigment is used as a colorant, the excellent chromaticity characteristic of the dye is sufficiently exhibited.例文帳に追加

着色剤として染料やレーキ顔料を用いた場合に、染料の優れた色度特性を存分に発現させるための画素パターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁

The manufacturing method desirably has a process for attaching the catalytic core of the electroless plating film 5 before the process for performing the pattern formation of the plated resist 2.例文帳に追加

そして、これらの製造方法は、めっきレジスト２をパターン形成する工程の前に無電解めっき膜５の触媒核を付与する工程を有していることが好ましい。 - 特許庁

To contribute to improvement in exposure accuracy of EUV exposure or the like by inhibiting degradation in surface flatness caused by reflective pattern formation or degradation in surface flatness in electrostatic chucking.例文帳に追加

反射パターン形成による表面平坦度の劣化や静電チャック時の表面平坦度劣化を抑制することができ、ＥＵＶ露光などの露光精度の向上に寄与する。 - 特許庁

To provide an image forming material, suitable for direct pattern formation using blue-violet semiconductor laser of 390-430 nm wavelength and which is superior in sensitivity and resolution.例文帳に追加

本発明の画像形成材により、波長390〜430nmの青紫半導体レーザーによる直接描画に適した感度、及び解像性に優れた画像形成材を提供する。 - 特許庁

To provide a photocatalyst-containing layer exhibiting a high activity in a short time, and a pattern formation body or the like using the photocatalyst-containing layer.例文帳に追加

本発明は、短時間で、高い活性を示す光触媒含有層、およびこの光触媒含有層を用いたパターン形成体等を提供することを主目的としている。 - 特許庁

To manufacture an optical circuit member higly precisely and inexpensively by forming an alignment marker to a lens forming pattern substrate simultaneously with the formation of a diffraction grating for optical coupling in a waveguide.例文帳に追加

導波路に光結合用の回折格子を形成すると同時にレンズ形成用型基板とのアライメントマーカを形成して、高精度で低コストで製造するようにする。 - 特許庁

By adjusting the remaining film percentage of the photoresist pattern, a photolithography process can be provided which can secure the doping angle which enables the formation of an uneven doping region.例文帳に追加

フォトレジストパターンの残膜率を調節することによって、不均一なドーピング領域を形成できるドーピング角を確保するフォトリソグラフィー工程を提供できる。 - 特許庁

To provide a photocatalyst-containing layer exhibiting a high activity in a short time, and a pattern formation body using the photocatalyst-containing layer.例文帳に追加

本発明は、短時間で、高い活性を示す光触媒含有層、およびこの光触媒含有層を用いたパターン形成体を提供することを主目的としている。 - 特許庁

To provide a charged powder for circuit formation capable of filling conductive metal particles densely in a wiring pattern, and a multilayer wiring board using the same.例文帳に追加

配線パターンにおいて導電性金属粒子の充填を密にすることができる回路形成用荷電性粉末及びそれを用いた多層配線基板を提供する。 - 特許庁

To provide a formation method of an inorganic substance layer by which the inorganic substance layer having a prescribed concavo-convex pattern can be formed with a high precision even by one calcination.例文帳に追加

１回の焼成であっても、所定の凹凸パターンを有する無機物層を十分に高い精度で形成することができる無機物層の形成方法を提供すること。 - 特許庁

At the time of dry etching of an interconnection layer M1 (indicated by a dashed line) for formation of the interconnection pattern 21, the dummy plug member 19d serves for a path for discharging plasma charge.例文帳に追加

配線パターン２１形成のために配線層Ｍ１（破線）をドライエッチングしている最中において、ダミープラグ部材１９ｄは、プラズマチャージを放電させる経路となる。 - 特許庁

A transfer plate 1 of releasability is formed, which has recessed parts 14 for spacer formation and a black matrix pattern as a translucent part, and also has the flat surface except for the recessed parts 14.例文帳に追加

スペーサ形成用凹部１４を有し、ブラックマトリクスパターンを透光部として有し、凹部１４以外の表面が平坦である離型性の転写用版１を作成する。 - 特許庁

The waterless lithographic printing plate original has at least a thermosensitive layer or a photosensitive layer and a silicone rubber layer on a substrate, wherein a center-line-average roughness Ra on the surface of the silicone rubber layer is 0.4 μm or less and is used for the formation of the display pattern and the formation of the wiring pattern.例文帳に追加

基板上に、少なくとも感熱層あるいは感光層とシリコーンゴム層とを有する水なし平版印刷版原版であって、該シリコーンゴム層表面の中心平均粗さ（Ｒａ）が０．４μｍ以下であり、ディスプレイパターン形成用または配線パターン形成用であることを特徴とする水なし平版印刷版原版により達成される。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus which allows execution of image formation condition control by forming the most suitable toner sticking pattern according to an apparatus state of the image forming apparatus and is capable of shortening an execution time of generation and detection of the toner sticking pattern for use in the image formation condition control, when employing a multi-sensor array system.例文帳に追加

センサ複数配列方式を採用した場合に、画像形成装置の装置状態に応じた最適なトナー付着パターンを形成して作像条件制御を実行できるとともに、その作像条件制御に用いるトナー付着パターンの作成及び検知の実行時間の短縮を図ることが可能になる画像形成装置を提案する。 - 特許庁

In the image formation device for writing an image to an image carrier according to output data by irradiating laser beams emitted from two light sources onto the image carrier, the sensor pattern for processing is recorded by either of a first laser beam and a second laser beam or by alternately using the first laser beam and the second laser beam for every formation of the sensor pattern for processing.例文帳に追加

２つの光源から出射したレーザビームを像担持体に照射して出力データに応じて像担持体に画像を書き込む画像形成装置において、プロセス用センサパターンを第１レーザビーム若しくは第２レーザビームの一方で記録するか、あるいはプロセス用センサパターン形成毎に第１レーザビームと第２レーザビームを交互に使用して記録する。 - 特許庁

A fine pattern formation method for semiconductor elements facilitates the pattern formation stage by implementing at least part of photoresist trimming by atomic layer vapor deposition together with spacer oxide film vapor deposition, thereby enabling the precision of trimming to be enhanced and photoresist footing, which may occur during the trimming, to be reduced.例文帳に追加

本発明の実施形態に係る半導体パターン形成方法によれば、フォトレジストのトリミングの少なくとも一部を原子層蒸着方法によってスペーサ酸化膜蒸着と共に実施することにより、段階が容易となり、トリミングの精密度を高めることができ、トリミング中に発生し得るフォトレジストフーチング（ｆｏｏｔｉｎｇ）を減らすことができる。 - 特許庁

In the antenna for reader 15 with an antenna pattern 31, formed on the antenna formation object member 11, such as, the shelf board of the bookstand, a conductive and porous sheet-like member 41, is provided on the antenna formation object member 11 so as to extend in a loop shape, substantially along the outer periphery of the antenna pattern 31 in planar view.例文帳に追加

書架の棚板などのアンテナ形成対象部材１１に形成されているアンテナパターン３１を有するリーダ用アンテナ１５において、導電性で多孔性のシート状部材４１が、平面的に見て上記アンテナパターン３１の外周囲にほぼ沿ってループ形状に延在するように、上記アンテナ形成対象部材１１に設けられている。 - 特許庁

The manufacturing method of the element substrate 100 includes: a process for forming a sacrifice layer having a first pattern on a substrate 10; a process for forming a metal layer at the upper portion of the formation and non-formation regions of the sacrifice layer; and a process for forming a metal layer 34 having a second pattern by removing the sacrifice layer by heating.例文帳に追加

本発明にかかる素子基板１００の製造方法は、基板１０上に第１のパターンの犠牲層を形成する工程と、前記犠牲層の形成領域および非形成領域の上方に金属層を形成する工程と、加熱することにより、前記犠牲層を除去して、第２のパターンの金属層３４を形成する工程と、を含む。 - 特許庁

A plurality of polarity pattern tables for setting a pixel voltage polarity of the pixel formation part on a display screen are stored in LUT5 beforehand, and each table is set in such a way that positive polarity and negative polarity are generated the same number of times for each pixel formation part when the plurality of polarity pattern tables are selected once for each.例文帳に追加

表示画面上の画素形成部の画素電圧の極性を設定するための極性パターンテーブルをあらかじめＬＵＴ５に複数個格納し、その複数個の極性パターンテーブルがそれぞれ１回ずつ選択されると各画素形成部につきプラスの極性とマイナスの極性とが同回数発生するように各テーブルを設定する。 - 特許庁

The method for forming the protective layer on the photomask comprises a process of overlapping the photomask having a pattern formation layer with a laminated film having the protective layer and a temporary substrate so as to bring the pattern formation layer into contact with the protective layer, a process of heat-pressurizing the body overlapped by the above described process under the reduced pressure and a process of stripping the temporary substrate.例文帳に追加

パターン形成層を有するフォトマスクと、保護層と仮支持体を有する積層フィルムを、パターン形成層と保護層が接するように重ね合わせる工程、前記工程により重ね合わせたものを減圧下加熱圧着する工程および仮支持体を剥離する工程を有する、フォトマスクに保護層を形成する方法。 - 特許庁

The method for forming a film pattern includes the steps of (a) positioning an energy-cure material for film formation on a substrate, and (b) applying energy to the film forming material with the pattern and the film-forming material being contacted with each other, with the use of a template having a pattern having raised and recessed portions.例文帳に追加

本発明の膜パターンの形成方法は、（ａ）エネルギー硬化型の膜形成用材料を基体上に配置する工程と、（ｂ）凸部および凹部を含むパターンを有するテンプレートを使用して、前記パターンと前記膜形成用材料とを接触させた状態で、該膜形成用材料にエネルギーを付与する工程と、を含む。 - 特許庁

This resist pattern formation method includes a process for forming a lower-layer film (103) having polymer containing fluorine on a wafer substrate (101), a process for forming a resist film (104) on the lower-layer film, and a process for allowing the resist film to be subjected to pattern exposure and processing for obtaining the resist pattern (105).例文帳に追加

ウェハー基板（１０１）上に、フッ素含有ポリマーを含む下層膜（１０３）を形成する工程と、前記下層膜上にレジスト膜（１０４）を形成する工程と、前記レジスト膜に対しパターン露光および現像処理を施して、レジストパターン（１０５）を得る工程とを具備するレジストパターン形成方法である。 - 特許庁

In the production method of a semiconductor device including a process of transferring a specified pattern by overlapping two photomasks and exposing to light, one photomask 3 having a phase shifter 3d has a shading region 3B3 which functions as the auxiliary pattern to correct the pattern to prevent formation of a constriction.例文帳に追加

２枚のフォトマスクを用いた重ね合わせ露光処理によって、所定のパターンを転写する工程を有する半導体装置の製造方法において、位相シフタ３ｄを有する一方のフォトマスク３に、パターンのくびれが生じるのを補正するための補助パターンとして機能する遮光領域３Ｂ3 を設けたものである。 - 特許庁

To provide a negative resist composition having high sensitivity and capable of achieving an excellent pattern shape and excellent temporal stability, in pattern formation by irradiation with light such as an electron beam, a method for producing a relief pattern using the negative resist composition, and a method for producing a photomask using the negative resist composition.例文帳に追加

電子線等の光照射によるパターン形成において、高感度、且つ、優れたパターン形状、及び経時安定性を達成可能なネガ型レジスト組成物、及び当該ネガ型レジスト組成物を用いたレリーフパターンの製造方法、及び当該ネガ型レジスト組成物を用いたフォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

CPU 1020 variably displays patterns by changing the pattern variation direction and the pattern stop order according to signal formation by variation direction change button 1500 and a stop order change button 1510 so that the player can intervene therein and change the pattern variation display direction in rich change modes.例文帳に追加

ＣＰＵ１０２０は変動方向変更ボタン１５００や停止順変更ボタン１５１０による信号生成に応じて、図柄変動表示方向、図柄停止順を変更して図柄変動表示を行うので遊技者が介入し豊富な変更態様で図柄変動表示方向を変更可能とすることができる。 - 特許庁

At a forwarding base 16A, a group conversion part 22 groups automobiles 12 which desire to be loaded, a pattern formation part 24 generates a combination pattern according to the groups, and an inquiry part 26 inquires of a centralized management part 18 whether or not specific carrier cars can be loaded on the basis of the combination pattern.例文帳に追加

発送拠点１６Ａは、グループ変換部２２で積載を所望する自動車１２のグループ化を行い、パターン形成部２４で前記グループに基づいて、組合せパターンを作り、問い合わせ部２６が所定のキャリアカーに対する前記組合せパターンによる積載の可否を集中管理部１８に問い合わせる。 - 特許庁

Using the i-th transformed model pattern, pattern matching is carried out (S4) and a maximum showing a similarity equal to or greater than a preset value is retrieved; if there is the maximum, image coordinates at the maximum are extracted and stored along with information on a three-dimensional relative attitude used in the formation of the transformed model pattern (S5).例文帳に追加

ｉ番目の変換モデルパターンを使ってパターンマッチングを行い（Ｓ４）、予め設定された値以上の類似度を示す極大点を探し、極大点があれば、その点の画像座標を抽出すると共に、その変換モデルパターンを作成するのに使った３次元的な相対姿勢の情報と共に記憶する（Ｓ５）。 - 特許庁

The winning flag formation of a winning pattern (61) is informed to a player when two conditions of a stop of the specified pattern (61) of a rotary reel (40) at a specified stop position by a stop pattern information control means (170) and the generation of a special direction by a special direction informing means (120) are satisfied.例文帳に追加

停止図柄報知制御手段(170)による回転リール(40)の特定図柄(61)の特定の停止位置での停止と、特殊演出報知手段(120)による特殊演出の発生との二つの条件を満足することにより、入賞図柄(61)の入賞フラグ成立を遊技者に向かって報知することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a developer for circuit formation which achieves sharpness of line edges of a circuit pattern, narrowing of the minimum line width of the circuit pattern, image density capable of imparting satisfactory conductivity to the circuit pattern, and perfect prevention of toner scattering by an electrophotographic process, and to provide a circuit forming method using the same.例文帳に追加

本発明は、電子写真法により、回路パターンのラインエッジのシャープさ、回路パターンの最少ライン幅の狭幅化、回路パターンに十分な導電性を付与し得る画像濃度、トナー飛散の完全防止を実現する回路形成用現像剤及びそれを用いた回路形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In a pattern formation method having a process for pattern exposing the whole face of a positive photoresist on a substrate, a positive photoresist 2 is formed on a substrate 1, and pattern exposure is carried out to the whole face of the substrate, and the photoresist at the outer peripheral part of the substrate is insolubilized in developer, and development is carried out.例文帳に追加

基板上のポジ型フォトレジストを全面パターン露光する工程を有するパターン形成方法において、ポジ型フォトレジスト２を基板１上に成膜し、基板全面にパターン露光を行った後、基板外周部におけるフォトレジストを現像液に不溶化させる処理を行い、その後現像を行うパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a surface treatment method which enables the formation of an emboss pattern selectable from various variations on the surface of a molded product by a simple process without depending on working a mold and a three-dimensional pattern having a high-quality feel on the surface of the resin by further providing the emboss pattern with metallic decoration.例文帳に追加

本発明は、金型加工によることなく、簡単な工程で、多様なバリエーションの模様を選択可能に成形品の表面に凹凸模様を形成し、さらにはこの凹凸模様にメタリック加飾して樹脂表面に高級感を有する立体的な模様を形成する表面処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In a formation process of an absorption layer pattern of the method of manufacturing the laminated feedthrough capacitor 1, precursors of a step absorption layer 22 for grounding and a step absorption layer 24 for grounding are formed on an electrode pattern 43 for grounding, and a precursor of a step absorption layer 32 for grounding is formed on an electrode pattern 44 for grounding.例文帳に追加

積層貫通コンデンサ１の製造方法では、吸収層パターンの形成工程において、接地用電極パターン４３上に接地用段差吸収層２２及び接地用段差吸収層２４の前駆体を形成し、また、接地用電極パターン４４上に接地用段差吸収層３２の前駆体を形成する。 - 特許庁

The image forming apparatus, which forms an image on a recording medium by adding a specific pattern to inputted image data, comprises: a mask generation section which generates a mask region wherein addition of the specific pattern is inhibited; and a control section which performs image formation upon the mask region so as to inhibit the addition of the specific pattern.例文帳に追加

入力された画像データに特定パターンを付加して記録媒体上に画像形成を行う画像形成装置において、特定パターンの付加を禁止するマスク領域を生成するマスク生成部と、マスク領域に特定パターンの付加を禁止するよう画像形成を行う制御部と、を有する。 - 特許庁

The positions of base patterns formed on a substrate are detected, pattern data on patterns to be formed on the substrate are corrected on the basis of information on the positions of the base patterns, mask patterns based on the corrected pattern data are displayed in a liquid crystal panel and pattern formation is carried out by lithography using this liquid crystal panel as a mask.例文帳に追加

基板上に形成された下地パターンの位置を検出し、下地パターンの位置情報に基づいて基板上に形成すべきパターンのパターンデータを補正し、液晶パネルに補正パターンデータに基づくマスクパターンを表示し、この液晶パネルをマスクに用いてリソグラフィーによりパターン形成を行う。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive composition used for fine pattern formation such as a semiconductor production, etc. and having higher sensitivity than those of conventional ones and improved with pattern collapse, a polymer compound used for the positive type photosensitive composition, a method for producing the polymer compound and a method for forming the pattern by using the positive type photosensitive composition.例文帳に追加

半導体製造等の微細なパターン形成に用いられる、従来品よりも、高感度で、パターン倒れが改良されたポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物に使用される高分子化合物、該高分子化合物の製造方法及びポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming material capable of pattern formation without carrying out a developing step after exposure and capable of forming definite two regions having a great difference between hydrophilicity and hydrophobicity by a polarity change and to provide an image forming material using the pattern forming material and capable of forming a high resolution image.例文帳に追加

露光後、現像工程を行うことなくパターン形成が可能であり、かつ、極性変化により親水性と疎水性の差が大きく明確な２つの領域を形成することが可能であるパターン形成材料、及びそれを用いた高解像度の画像形成が可能な画像形成材料を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, capable of forming a pattern which simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, proper pattern profile and satisfactory line edge roughness, particularly in an electron beam, X-ray or EUV lithography in an ultrafine region, and to provide a pattern formation method that uses the composition.例文帳に追加

超微細領域での、特に、電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光リソグラフィーにおける、高感度、高解像性、良好なパターン形状、および良好なラインエッジラフネスを同時に満足するパターンを形成可能な感活性光線または感放射線性樹脂組成物、それを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

By the configuration, in the formation of a desired three-dimensional structure pattern on the substrate, the hard mask layer is the material of a high etching selection ratio to the substrate, so that the step of the hard mask layer corresponding to the three-dimensional structure pattern to be formed can be made smaller than the desired three-dimensional structure pattern.例文帳に追加

本発明の構成によれば、所望する３次元構造パターンを基板に形成する場合、ハードマスク層は基板に対してエッチング選択比が高い材料であるため、形成する３次元構造パターンに対応するハードマスク層の段差は、所望する３次元構造パターンよりも小さくすることが出来る。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition for colored layer formation which gives a pattern free of pattern defects such as a chip and undercut and excellent in adhesion to a substrate, and allows production of a color filter excellent in reliability in electrical characteristics, etc.例文帳に追加

パターンに欠けやアンダーカット等のパターン不良が無く、基板との密着性に優れ、加えて電気特性等における信頼性に優れたカラーフィルタを作製することが可能な着色層形成用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁