「pattern formation」に関連した英語例文の一覧と使い方(36ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a positive resist composition having superior lithographic characteristics and suppressing film reduction during pattern formation, a polymer compound useful as a base component of the positive resist composition, a compound which is useful as a monomer, as well as, a method for forming a pattern.例文帳に追加

リソグラフィー特性に優れ、パターン形成時の膜減りが抑制されたポジ型レジスト組成物、ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な高分子化合物、モノマーとして有用な化合物及びパターン形成方法の提供。 - 特許庁

After a wiring pattern 32 is formed, an Al wiring pattern 32 and an oxide film 31 on a silicon board 30 are treated with resist peeling liquid consisting of organic solvent, water and fluorine compound before the formation of O3-TEOS-NSG film 33.例文帳に追加

配線パターン３２の形成後、Ｏ_3 −ＴＥＯＳ−ＮＳＧ膜３３の形成前に、有機溶剤、水およびフッ素系化合物で成るレジスト剥離液でシリコン基板３０上のＡｌ配線パターン３２及び酸化膜３１を処理する。 - 特許庁

In the patterns 51, a conductive layer 5, formed in the entire wall surface of the opening 73, is formed by etching non-formed portions of the side patterns, with the side pattern formation portions covered with a side pattern resist film.例文帳に追加

側面パターン５１は、搭載用開口部７３の壁面全体に形成した導体層５を、側面パターン用レジスト膜により側面パターン形成部分を被覆した状態で側面パターン非形成部分をエッチングして形成したものである。 - 特許庁

To provide: a photoresist composition useful for photolithography pattern formation by negative tone development; a method of forming a photolithography pattern by a negative tone development process; and a base substance coated with the photoresist composition.例文帳に追加

ネガティブトーン現像によるフォトリソグラフィパターン形成に有用なフォトレジスト組成物の提供、及び、ネガティブトーン現像プロセスによってフォトリソグラフィパターンを形成する方法、並びに当該フォトレジスト組成物でコーティングされた基体の提供。 - 特許庁

After forming a third silicon oxide film on top of the silicon substrate 1 by film formation via the second silicon nitride film pattern 11, the third silicon oxide film is plasma-nitrided via the second silicon nitride film pattern 11.例文帳に追加

次いで、第２のシリコン窒化膜パターン１１を介した成膜によって、シリコン基板１の上に第３のシリコン酸化膜を形成した後、第２のシリコン窒化膜パターン１１を介してこの第３のシリコン酸化膜に対しプラズマ窒化処理を行う。 - 特許庁

To provide an organic anti-reflective coating polymer for use in ultrafine pattern formation during fabrication of a semiconductor device, an organic anti-reflective coating composition containing the same and a method for forming a photoresist pattern using the same.例文帳に追加

半導体素子の製造工程のうち、超微細パターン形成工程で使われる有機反射防止膜重合体、これを含む有機反射防止膜組成物及びこれを用いたフォトレジストのパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition, which uses a low molecular material as a base component and can form a high-resolution resist pattern, and a method for resist pattern formation, a compound suitable for the positive resist composition, and a dissolution inhibitor.例文帳に追加

基材成分として低分子材料を用いた、高解像性のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法、該ポジ型レジスト組成物用として好適な化合物および溶解抑制剤を提供する。 - 特許庁

To provide a dye-containing negative curable composition which suppresses heat sagging due to high-temperature bake, after pattern formation and has superior pattern forming properties, to provide a color filter obtained using the composition, and to provide a method for manufacturing the color filter.例文帳に追加

パターン形成後、高温ベーク処理による熱ダレの発生を抑制し、パターン形成性に優れた染料含有ネガ型硬化性組成物、及び該組成物を用いてなるカラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

Then, after a magnetic film 17a' for formation of an upper pole chip is formed so as to cover the photoresist pattern 31 and the recording gap layer 9, the film is applied to anisotropic etching to form a side wall on the side end face of the photoresist pattern 31.例文帳に追加

次に、フォトレジストパターン３１および記録ギャップ層９を覆うようにして上部ポールチップ形成用磁性膜１７ａ′を形成したのち、異方性エッチングを施し、フォトレジストパターン３１の側端面にサイドウォールを形成する。 - 特許庁

To realize a liquid discharging device which efficiently carries out a forming process and a reading process of a pattern for correction to correct a dot formation position deviation in a main scanning direction, to realize a pattern reading method, and to realize a liquid discharging system.例文帳に追加

主走査方向のドット形成位置のズレを補正するための補正用パターンの形成処理及び読み取り処理を効率的に行う液体吐出装置、パターン読み取り方法、及び、液体吐出システムを実現することにある。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for a resist film, which can suppress generation of bridge defects and scum, has an excellent LWR (line width roughness) performance and allows formation of a favorable fine pattern, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

ブリッジ欠陥及びスカムの発生を抑制でき、かつＬＷＲ性能に優れ、良好な微細パターンを形成することが可能なレジスト膜用の感放射線性樹脂組成物、及びこれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

When an image is present on the image formation allowable surface (Yes in S5), the image pattern is formed (S6); and when the image is not present (No in S5), the recording material P is made to pass through the image forming part, and after flipping over the material P (S7), the image pattern is formed (S6).例文帳に追加

画像形成可能面に画像がある場合（Ｓ５のＹｅｓ）は画像パターンを形成し（Ｓ６）、ない場合（Ａ５のＮｏ）は画像形成部を通過させて表裏反転した後（Ｓ７）、画像パターンを形成する（Ｓ６）。 - 特許庁

When image formation is performed, a first light quantity correction signal and a second light quantity correction signal are generated by using the first reference pattern and the second reference pattern for every station to correct a driving signal in each light emitting part.例文帳に追加

そして、画像形成が行われる際に、ステーション毎に、第１基準パターン及び第２基準パターンを用いて、第１光量補正信号及び第２光量補正信号を生成し、各発光部の駆動信号を補正する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a pattern formation body by an ink jet system which can form a high-definition pattern and has a wide selection range of the film thickness of a functional part, and a manufacturing apparatus for the same.例文帳に追加

本発明は、高精細なパターンの形成が可能であり、機能性部の膜厚の選択範囲が広いインクジェット方式によるパターン形成体の製造方法およびその製造装置を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

To provide a pattern formation method enhancing a shape control property of a pattern comprising a liquid drop by enhancing an irradiation strength and an irradiation position accuracy of a laser light irradiation on the liquid drop deposited on a substrate, and a liquid drop delivery apparatus.例文帳に追加

基板に着弾した液滴に照射するレーザ光の照射強度や照射位置精度を向上して、液滴からなるパターンの形状制御性を向上したパターン形成方法及び液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁

A semiconductor chip 11 includes an element formation region 12 and a chip position identification pattern 13 outside the region 12, and the pattern 13 consists of the position information in an exposure shot 14 and the exposure shot position information 15.例文帳に追加

半導体チップ１１には素子形成領域１２とその素子形成領域１２外にチップ位置識別パターン１３があり、このチップ識別パターン１３は露光ショット内位置情報１４と、露光ショット位置情報１５とからなっている。 - 特許庁

Thus, the pattern is developed with a toner other than toner used for developing images, so that inexpensive toner is usable as the pattern formation toner, even when a special type toner is used as the image forming toner.例文帳に追加

これにより、画像を現像するトナーとは異なるトナーを用いて、パターンを現像することができるので、画像形成用のトナーとして特殊タイプのものが用いられていても、パターン形成用のトナーは安価なものを用いることができる。 - 特許庁

Since the p-methylcalix [7] arene has about 1 nm molecular size and low molecular symmetry, pattern roughness which occurs in the formation of a fine pattern of ≤100 nm can be reduced to a very low level.例文帳に追加

ｐ−メチルカリックス［７］アレーンは分子の大きさが１ｎｍ程度であり、しかも分子の対称性が低いため、１００ｎｍ以下の微細パターン形成時に生成されるパターンラフネスを極めて低いレベルまで低減することが可能となる。 - 特許庁

To provide a pattern formation method by which the direction of bulges formed in a linear pattern is controlled as compared with that in the case linear patterns are formed by applying droplets of a composition without forming patterns for inducing bulges on the surface of a substrate.例文帳に追加

基材の表面にバルジを誘導するためのパターンを形成せずに組成物の液滴を付与して線状パターンを形成する場合に比べ、線状パターンに生じるバルジの方向が制御されるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a droplet discharging apparatus controlling the profile of a composition for formation of a pattern by drying droplets to give a desired composition profile, a pattern forming method, a method of manufacturing an electro-optic device and the electro-optic device.例文帳に追加

液滴を乾燥することによって形成するパターンの組成プロファイルを所望の組成プロファイルに制御する液滴吐出装置、パターン形成方法、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置を提供する。 - 特許庁

The display body formation pattern for paved surfaces includes: a body part 3 composed of easily-cuttable and flexible paper and/or plastics; and a through-hole pattern 4 formed on the body part 3 and for forming the display body.例文帳に追加

容易に切断可能で且つ柔軟性の有る、紙及び／またはプラスチックにより構成され本体部３と、本体部３に形成され、表示体を形成するための貫通穴パターン４とから成る舗装面用表示体形成型。 - 特許庁

To provide a photomask such as a gray tone mask capable of suppressing generation of dielectric breakdown in a pattern which can occur, upon handling a mask during being used, and preventing influencing the mask pattern to be used for formation of a device, even in the event of an occurrence of a dielectric breakdown.例文帳に追加

マスク使用時のハンドリング中に起こり得るパターンの静電破壊の発生を抑制でき、万一静電破壊が起きてもデバイス形成に使用されるマスクパターンには影響が及ばないグレートーンマスクなどのフォトマスクを提供する。 - 特許庁

A mask includes an exposure pattern area corresponding to one exposure for forming the element formation area by divided exposure and a mark formed on a joint part of divided exposure in the exposure pattern area.例文帳に追加

また、本発明は、素子形成領域を分割露光によって形成するための一露光分に対応した露光パターン領域と、露光パターン領域における分割露光の継ぎ目部分に設けられるマークとを有するマスクである。 - 特許庁

The method has a process for forming a resist pattern on a film formed on a semiconductor substrate, performing the dry etching using the resist pattern as a mask to form the micro pattern, a process for supplying a resist removing liquid to the micro pattern formation plane of the semiconductor substrate to remove the resist pattern by single wafer processing, and a process for performing rinsing on the semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板に設けられた膜上にレジストパターンを形成し、このレジストパターンをマスクに用いてドライエッチングを行い、前記膜の微細パターンを形成する工程と、前記半導体基板の微細パターン形成面にレジスト除去液を供給し、枚葉式処理により前記レジストパターンを除去する工程と、前記半導体基板をリンス処理する工程と、を有する半導体装置の製造方法。 - 特許庁

A pattern formation method includes the steps of: placing a target object on the substrate; bringing the uneven pattern 21 into contact with the target object using the imprinting template 110 made of a resin having the uneven pattern formed on the pedestal base 10; and releasing the imprinting template 110 from the target object and imprinting the pattern shape of the uneven pattern 21 onto the object after the object is cured.例文帳に追加

基板上に被転写物を設ける工程と、台座基板１０に形成された樹脂による凹凸パターンを有するインプリント用テンプレート１１０を用い、凹凸パターン２１を被転写物に接触させる工程と、被転写物を硬化させた後、インプリント用テンプレート１１０を被転写物から離型し、被転写物に凹凸パターン２１の形状を転写する工程と、を備えたパターン形成方法である。 - 特許庁

A first metal layer 5 is formed on the surface of the silicon substrate 2 so that the first metal layer 5 faces a protective layer non-formation area where the protective layer 4 is not formed and a part of the protective layer non-formation area is exposed after the protective layer 4 is pattern-formed.例文帳に追加

シリコン基板２の表面上に、保護層４がパターン形成された後、保護層４が形成されていない保護層非形成領域と対向し、その保護層非形成領域の一部が露出するように、第１金属層５が形成される。 - 特許庁

Regarding a code pattern image having an image structure 1, dots D are formed on the surface of the recording paper, and transparent toner images TF are formed in a dot formation area where the dots D are formed and in a surrounding area contacting with the dot formation area on the surface of the recording paper.例文帳に追加

画像構造１のコードパターン画像において、記録用紙の表面にドットＤが形成され、記録用紙の表面においてドットＤが形成される領域と接する周囲の領域に透明トナー像ＴＦが形成される。 - 特許庁

Before starting a transfer and exposure operation on a reticle R circuit pattern on a wafer W, the stationary image formation characteristics and scanning image formation characteristics are measured, at least when one of a stop of illumination 68 and the reticle R is replaced.例文帳に追加

ウエハＷ上へのレチクルＲの回路パターンの転写露光に先立って、照明絞り６８及びレチクルＲの少なくとも一方が交換されたときには、静止状態での静止結像特性と走査状態での走査結像特性とを測定する。 - 特許庁

At the time of both side image formation after transfer to one side, a toner consumption pattern is formed on a part having oil deposited on an intermediate transfer drum 102 at intervals of a fixed image formation period, and toner and oil are simultaneously removed by a cleaning means.例文帳に追加

片面転写済みの両面画像形成時に中間転写ドラム１０２上に付着するオイル付着部分に、一定作像周期毎に、トナー消費パターンを重ねて画像形成し、クリーニング手段によりトナーとオイルを同時に除去する。 - 特許庁

To prevent unwanted pattern fragments remaining in a region, except for the formation region for a cylinder type stacked capacitor from causing various defects at its formation.例文帳に追加

シリンダ型スタックドキャパシタを形成する際に、その形成領域以外の領域に不要なパターン片が残存して種々の欠陥を発生させる原因となることを防止することが可能な半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the inspection process, whenever formation of each elongated hole 7a-7d is finished, or when the formation of the circuit pattern is finished, it is inspected whether the resultant processed portion of the punched hole 4 in each of the elongated holes 7a-7d is perforated or not.例文帳に追加

検査工程では、各長孔７ａ〜７ｄの形成が終了する毎に、または回路図柄の形成が終了したときに、長孔７ａ〜７ｄにおける打ち抜き孔４の最終加工箇所が穿孔されているか否かを検出する。 - 特許庁

In this electric wiring formation system, a magnesium alloy is used as a conductive metal for the wiring pattern formation and the magnesium alloy chips 15 are kneaded and heated in a cylinder (supply unit) 7 with a built-in screw and dissolved into alloy slurry in a thixotropy state.例文帳に追加

本電気配線形成システムは、配線パターン形成用導電性金属としてマグネシウム合金を使用し、そのマグネシウム合金チップ１５をスクリュー内蔵のシリンダ（供給ユニット）７にて混錬，加熱してチクソトロピー状態の合金スラリーに溶解する。 - 特許庁

An oblique pattern indication part is provided which relates and superimposes a detailed formation structure illustration illustrating in detail the formation structure of the characteristic part of a fiber product with the illustration of a human body part illustrating the part of the human body for wearing the product.例文帳に追加

繊維製品の特徴部分の組織構造を明細に図示した組織構造明細図と、装着する人体の部位を図示した人体部位図とを関連付けし、重合させて斜視的に表示する図柄表示部が設けられている。 - 特許庁

To provide a resist pattern formation method, restraining the occurrence of a droplet blot originating from a liquid for liquid dipping in liquid dipping exposure using a liquid for liquid dipping having a high refractive index, and a radiation-sensitive resin composition used in the formation method.例文帳に追加

高屈折率の液浸用液体を用いた液浸露光において、液浸用液体由来の液滴痕の発生を抑制できるレジストパターン形成方法、及びその形成方法に用いられる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

Then, an opening 7 for the through- holes is made simultaneously as with the formation of openings 6 for the formation of connecting terminal parts 9 of the pattern 3, and subsequently the conductor piece 4 is removed in a final step to made the required through-holes.例文帳に追加

そして、回路配線パタ−ン３の接続用端子部９を形成する為の開口部６の形成と同時に貫通孔の為の開口部７を形成した後、最終工程で導体片４を除去して所要の貫通孔を形成する。 - 特許庁

Wiring 105 to be measured is placed at the center, and wiring width W, wiring interval S, wiring formation region X/Y, and data ratio D of wiring to be actually wired in the wiring formation region X×Y are variably changed so that the test pattern of wiring can be prepared.例文帳に追加

被測定配線１０５を中心に置き、配線幅Ｗ、配線間隔Ｓ、配線の形成領域Ｘ、Ｙ、配線形成領域Ｘ×Ｙに実際に配線される配線のデータ率Ｄを種々変えた配線のテストパターンを作成する。 - 特許庁

The method of manufacturing a laminated ceramic electronic part includes a pattern formation step to form a plurality of conductor patterns and a connection pattern for connecting the conductor patterns on the same layer with each other by using thin-film formation method, a lamination step to stack ceramic green sheets wherein the conductor patterns and the connection pattern are formed, and a cutting step to cut a laminated body formed in the lamination step.例文帳に追加

複数の導体パターンと、同一層上の各導体パターンどうしを連結する連結パターンとを、薄膜形成法を用いてセラミックグリーンシート上に形成するパターン形成ステップと、前記導体パターン及び前記連結パターンが形成されたセラミックグリーンシートを積層する積層ステップと、前記積層ステップで得られる積層体を切断する切断ステップとを含む積層セラミック電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method by which lowering of contrast is solubility can be prevented and lowering of resolution can be suppressed even when the thickness of a resist film is made smaller than 250 nm.例文帳に追加

レジスト膜の厚さを２５０ｎｍよりも薄くしても、溶解性のコントラストが低下しないようにして、解像度の低下を抑制できるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new compound, to provide an acid generator consisting of the same, to provide a resist composition containing the acid generator, and to provide a method of resist pattern formation using the resist composition.例文帳に追加

新規な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

Because of the dummy patterns 7, the problem of the residual caused by the loading effect of dry etching for pattern formation, which occurs in the inter-wiring spaces 6, is resolved.例文帳に追加

ダミーパターン７によって配線間スペース６で発生していたパターン形成のためのドライエッチングによるローディング効果に起因する残さの問題を解決できる。 - 特許庁

To provide a new polymeric compound usable for lithographic application and a resist composition containing the polymeric compound and to provide a method for formation of a resist pattern.例文帳に追加

リソグラフィー用途に使用可能な新規高分子化合物、及びこの高分子化合物を含有するレジスト組成物、並びにレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a formation material of an original plate for fine pattern transfer giving a film having excellent adhesiveness, releasability, mechanical properties, and solvent, heat and moisture resistances.例文帳に追加

接着性、離型性、機械的特性、耐溶剤性、耐熱性及び耐湿性に優れた被膜を与える微細パターン転写用原版の形成材料を提供する。 - 特許庁

Then, a density difference of the pattern formation material, which corresponds to the existence of the conductive primer layer 7 due to a surface resistance difference between the conductive primer layer 7 and the base coat layer 6, is created.例文帳に追加

すると、導電プライマー層７とベースコート層６の表面抵抗値の差により、導電プライマー層７の有無に対応した模様形成材料の密度差が生じる。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition that find applications in formation of microscopic patterns for semiconductor production and that is superior to conventional products in exposure latitude, LWR (line width roughness) and pattern collapse performance.例文帳に追加

半導体製造の微細なパターン形成に用いられ、従来品よりも露光ラチチュード、ＬＷＲ、パターン倒れ性能に優れた感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

To improve visibility of a side area in front side road face of a vehicle without adverse influence on formation of a light distribution pattern for a low beam in a head lamp for vehicle.例文帳に追加

車両用前照灯において、ロービーム用配光パターンの形成に悪影響を及ぼすことなく、車両前方路面における側方領域の視認性を高める。 - 特許庁