「pattern-formation」に関連した英語例文の一覧と使い方(16ページ目) - Weblio英語例文検索

The color filter pattern 31 of the first color having an arrangement that surrounds a pattern non-formation region is formed on a substrate 1 to be treated.例文帳に追加

被処理基板１上に、パターン非形成領域を取り囲む配置をもつ１色目のカラーフィルタパターン３１を形成する。 - 特許庁

A resist pattern 35a is formed in a region other than an opening formation region, and the core material film 31 is etched using the pattern as a mask.例文帳に追加

開口の形成領域以外の領域にレジストパターン３５ａを形成し、これをマスクに芯材膜３１をエッチングする。 - 特許庁

To provide a formation method of a wiring pattern of a printed wiring board and a manufacturing method of the printed wiring board capable of reducing a material cost for resist pattern formation in a resist pattern formation process of forming a resist pattern on the copper foil of a copper clad laminate and manufacturing an inexpensive and high-quality printed wiring board.例文帳に追加

銅張積層板の銅箔上にレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程でレジストパターン形成用の材料費を削減し、廉価で高品質のプリント配線板が作製可能なプリント配線板の配線パターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In other words, the speed of toner pattern image formation not accompanied with printing on paper is made higher than the speed of image formation accompanied with printing on paper.例文帳に追加

換言すれば、紙印刷を伴わないトナーパターン作像時の作像速度を、紙印刷作像時の作像速度よりも速くする。 - 特許庁

To provide a pattern formation method and a pattern formation device capable of forming a conductor on a hole part by modifying only an inner face of hole parts such as a via hole, a contact hole, and a through hole.例文帳に追加

ビアホール、コンタクトホール、スルーホール等の穴部の内面のみを改質して、穴部に導体を形成することができるパターン形成方法およびパターン形成装置を提供する。 - 特許庁

NEAR-FIELD EXPOSURE MASK, RESIST PATTERN FORMATION METHOD, DEVICE MANUFACTURING METHOD, NEAR-FIELD EXPOSURE METHOD, PATTERN FORMATION METHOD, NEAR-FIELD LIGHT LITHOGRAPHY MEMBER, AND NEAR-FIELD NANOIMPRINT METHOD例文帳に追加

近接場露光用マスク、レジストパターン形成方法、デバイスの製造方法、近接場露光方法、パターン形成方法、近接場光リソグラフィ部材、および近接場ナノインプリント方法 - 特許庁

Further, by conducting each element examination before flying surface pattern formation to perform quality decision and by using its information, the location of a flying surface pattern formation and the cutting location of each head are decided.例文帳に追加

さらに浮上面パタン形成前で個々の素子検査を行い良・不良の判定をその情報を用いて浮上面パタン形成位置及び、個々のヘッドの切断位置を決定する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method for enlarging freedom of design regarding a formation material and an object of a thick film pattern and for enhancing its productivity, and a droplet ejection apparatus.例文帳に追加

厚膜パターンの形成材料や対象物に関する設計の自由度を拡大して、かつ、その生産性を向上させたパターン形成方法及び液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition that allows formation of an excellent contact hole pattern even in a substrate in which illumination reflection remains, and a resist film and a negative pattern formation method using the same.例文帳に追加

照明光反射が残る基板にも、良好なコンタクトホールパターンを形成可能とするレジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びネガ型パターン形成方法の提供。 - 特許庁

The internal electrode pattern for additional stacking is printed right after the internal-electrode non-formation portion 3c in the same shape as the internal electrode pattern right before the internal-electrode non-formation portion 3c.例文帳に追加

追加積層用の内部電極パターンは、内部電極非形成部３ｃの直後に印刷し、形状を内部電極非形成部３ｃの直前の内部電極パターンと同じにする。 - 特許庁

To provide a substrate processing method in which a partial erase of a pattern in a pattern formation region can be prevented, a projected portion which projects from the pattern formation region can be easily removed, and to provide a production method of a member having a pattern region.例文帳に追加

パターン形成領域におけるパターンの部分的消失を防ぐことができ、パターン形成領域からはみ出した、はみ出し部分を容易に除去することが可能となる基板の加工方法、パターン領域を有する部材の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern capable of responding to formation of various types of resist patterns, and forming a resist pattern excellent in focus depth, a pattern profile, resolution, CDU and pattern collapse resistance.例文帳に追加

種々のレジストパターンの形成に対応でき、焦点深度、パターン形状、解像性、ＣＤＵ及びパターン倒れ耐性に優れるレジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法の提供を目的とする。 - 特許庁

To record a pattern which inhibits the change in density measured about the pattern even if the recording position gap of the dot composing the pattern occurs in the formation of a recording density detecting pattern.例文帳に追加

記録濃度検出用パターンの形成において、パターンを構成するドットの記録位置ずれを生ずることがあっても、パターンについて測定される濃度の変化を抑制するパターンを記録する。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern in a way that a fine pattern on an HSQ film is maintained even at a high temperature and a pattern formation object having the fine pattern fabricated in a way that it is maintained event at a high temperature.例文帳に追加

ＨＳＱ膜上の微細パターンが高温度でも維持されるようにするパターン形成方法、および高温度でも維持されるように微細パターンが形成されたパターン形成体を提供する。 - 特許庁

To form a rugged pattern having different height of lines (the rugged pattern of forming differences in the line itself and making the height different from that of the other line) in the partition formation of a printed circuit board and a plasma display panel (PDP), the electrode formation and the pattern formation for the fabrication of an electroforming product, etc., on the same substrate.例文帳に追加

プリント配線板、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の隔壁形成、電極形成、電鋳法製品等の製造のためのパターン形成において、ラインの高さが異なる凹凸模様（ライン自体に段差をつけたり、他のラインとの間で高さを異ならせた凹凸模様）を同一基板に形成させる。 - 特許庁

To provide metal toner for conductor pattern formation having a high charge level and excellent in image properties, a method for manufacturing a metal toner for conductor pattern formation by which such a metal toner can be efficiently manufactured, and usage of a metal toner in which such the metal toner is used in formation of a conductor pattern.例文帳に追加

帯電レベルが高く、画像特性に優れた導体パターン形成用金属トナー、このような金属トナーを効率的に製造可能な導体パターン形成用金属トナーの製造方法、およびこのような金属トナーを導体パターンの形成に用いた金属トナーの使用方法を提供する。 - 特許庁

An image forming apparatus identifies the occurrence of wave formation based on a detection output after the detection of an edge of a misregistration detection pattern by a sensor; if the occurrence of wave formation is identified, the image forming apparatus corrects an image pattern of the misregistration detection pattern, corrects the wave formation, and carries out misregistration correction control.例文帳に追加

レジずれ検出パターンの端部をセンサで検知した際の検知出力に基づき、掃き寄せが発生しているかどうかを判断し、掃き寄せが発生している場合、レジずれ検出パターンの画像パターンを補正し、掃き寄せ補正し、レジずれ補正制御を実行する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method and a pattern forming device, capable of forming a pattern on a substrate at a target position with accuracy, while heating the substrate.例文帳に追加

基板を加熱しながら基板上に形成されるパターンを目的の位置に精度良く形成することが可能となるパターン形成方法及パターン形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a system and a method for pattern defect inspection which can speed up detailed analysis of detected pattern defect in semiconductor circuit pattern formation process, by skipping visual reinspection through a review device.例文帳に追加

半導体回路パターン形成工程において、レビュー装置による目視再検査を省略して、検出したパターン欠陥の詳細な解析を迅速化する。 - 特許庁

To provide an exposure defective area calculating method of accurately calculating a pattern formation detective area, caused by a step pattern in a step pattern layout plane, in a short time.例文帳に追加

段差パターンに起因するパターン形成不良領域を、段差パターンレイアウト面内で正確かつ短時間に算出する露光不良領域算出方法を得ること。 - 特許庁

To provide a pattern coating method which can form a pattern on a surface of a resin base material without necessitating a special device, even if a single pattern formation material is used.例文帳に追加

樹脂基材の表面に、単一の模様形成材料を用いても図柄の形成ができ、特別な装置を必要としない模様塗装方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming apparatus which alleviates degradation in accuracy for forming a pattern due to a variation in manufacturing accuracy of the nozzle hole of a head and facilitates pattern formation of high accuracy.例文帳に追加

ヘッドのノズル孔製造精度のばらつきに起因する形成パターンの精度低下を緩和し、高精度なパターン形成を実現するパターン形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method and a pattern forming device capable of forming a pattern formed on a substrate at an aimed position precisely while heating the substrate.例文帳に追加

基板を加熱しながら基板上に形成されるパターンを目的の位置に精度良く形成することが可能となるパターン形成方法及パターン形成装置を提供する。 - 特許庁

To improve DOF of both a fine dense pattern and an isolated space pattern, while avoiding generation of a side lobe in a photo mask and a pattern formation method with the photo mask.例文帳に追加

フォトマスク及びそれを用いたパターン形成方法において、サイドローブの発生を避けつつ微細な密集パターン及び孤立スペースパターンの両方のＤＯＦを向上する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition which exhibits good sensitivity and enables formation of a fine pattern of good pattern shape, and a pattern forming method using the negative resist composition.例文帳に追加

感度が良好で、良好なパターン形状の微細パターンを形成可能なネガ型レジスト組成物、該ネガ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法、を提供する。 - 特許庁

The control unit switches between the light distribution pattern for the right side high beam and the light distribution pattern for the left side high beam via a formation state of a light distribution pattern for a low beam.例文帳に追加

制御部は、右片ハイ用配光パターンおよび左片ハイ用配光パターン間で切り替えを実行する際、ロービーム用配光パターンの形成状態を経由させる。 - 特許庁

Since a part, wherein the wiring pattern 35 becomes dense, is eliminated so that the wiring pattern 35 can have a simple shape, the costs required for the formation of the wiring pattern 35 can be reduced.例文帳に追加

配線パターン３５が密になる部分がなくなり、配線パターン３５が単純な形状となるため、配線パターン３５の形成に掛かるコストを削減させることができる。 - 特許庁

The pattern forming device performs the pattern formation by simultaneously irradiating the pattern with a plurality of beams of varying intensity through a plurality of channel light valves, a plurality of irradiation heads, etc.例文帳に追加

パターン形成装置は、複数チャンネルライトバルブ、複数の照射ヘッド等を介して、異なる強度の複数のビームを同時に照射することによりパターン形成を行う。 - 特許庁

To provide a waterless planographic printing original plate showing preferable reproducibility of a wiring pattern, allowing formation of a pattern with uniform line width in printing a wiring pattern.例文帳に追加

配線パターンの印刷において、均一な線幅のパターンを形成することができ、配線パターン再現性が良好な水なし平版印刷版原版を提供すること - 特許庁

To provide a method for forming a color pattern by which formability of a corner of a color pattern is improved, limitation of pattern formation for forming a pattern with a preferable corner shape is improved, and a finer pattern can be formed.例文帳に追加

着色パターンの角（コーナー）の形成性が向上し、角（コーナー）の形状が良好なパターンを形成できるパターン形成限界が向上し、より微細なパターンの形成が可能となる着色パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a forming method for a minute pattern with a narrowed pattern interval of a resist pattern, which can form a minute pattern formation material surely on a surface of the resist pattern.例文帳に追加

本発明は、レジストパターンのパターン間隔を狭小化させた微細パターンの形成方法に関し、微細パターン形成材料を確実にレジストパターン表面に形成できる微細パターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a thin-film pattern formation apparatus and its formation process, which simplify a formation step of a metal thin-film line, shorten the time required for the process, and also simplify its production equipment.例文帳に追加

金属薄膜ラインの成形工程を簡単にし、その作業時間を短縮し、かつ、製造装備を簡素化する薄膜パターン成形装置及びその成形方法を提供する。 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMATION OF ANTIREFLECTION FILM, ANTIREFLECTION FILM FORMED OF THE COMPOSITION FOR FORMATION OF ANTIREFLECTION FILM, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING THE COMPOSITION FOR FORMATION OF ANTIREFLECTION FILM例文帳に追加

反射防止膜形成用組成物、該反射防止膜形成用組成物からなる反射防止膜、および該反射防止膜形成用組成物を用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide a gradation pattern formation method and a formation device thereof capable of forming a light diffusion face preventing the occurrence of bright unevenness and luminescent point on a light guiding plate or a light guiding plate formation mold.例文帳に追加

導光板又は導光板成形型に光輝むらや輝点の発生しない光拡散面を形成できるグラデーションパターン形成法及びその形成装置を提供すること。 - 特許庁

The signal electrode 3 may have a direct pattern formation in the tube axis direction of the tube body 1t of the gas discharge tube 1, or the pattern formation may be previously conducted in the back substrate 2, and the tube body 1t may be positioned to the formed pattern and press-bonded.例文帳に追加

信号電極３はガス放電管１の管体１ｔの管軸方向に直接パターン形成しても良いし、背面基板２に予めパターン形成し、それに対して管体１ｔを位置合わせして圧着しても良い。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a pattern formation body, capable of obtaining the pattern formation body with a high-definition pattern formed on a plastic substrate whose dimension is easily changeable due to a change in temperature/humidity.例文帳に追加

本発明は、温湿度の変化によって寸法が変化しやすいプラスチック基板上に、高精細なパターンが形成されたパターン形成体を得ることができるパターン形成体の製造方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁

To provide a pattern formation method capable of forming a highly accurate pattern having no shortcircuit between conductive patterns at a high degree of freedom in pattern formation using an energy beam and a colloidal material containing ultrafine particles.例文帳に追加

エネルギービームと超微粒子を含むコロイド材料を用いたパターン形成において、導電パターン間の短絡の無い高精細なパターンを自由度高く形成することが出来るパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A patch pattern that is discretely formed in a conventional manner is formed as a continuous pattern over the entire variable range of an image formation condition by making the image formation condition for forming a pattern for image density control continuously variable.例文帳に追加

画像濃度制御用パターンを形成する画像形成条件を連続的に可変とすることにより、従来では離散的に形成していたパッチパターンを、画像形成条件の可変レンジ全域に亘って連続パターンとして形成する。 - 特許庁

To provide a pattern forming material having good strippability after pattern formation, excellent in resolution and tenting property, having large development latitude, providing a high-definition pattern, and excellent in adhesion to a substrate such as a substrate for printed wiring formation, and to provide a pattern forming apparatus equipped with the pattern forming material and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加

パターン形成後の剥離性が良好であり、解像度及びテント性に優れ、しかも現像ラチチュードが広く、高精細なパターンが得られ、しかもプリント配線形成用基板等の基体との密着性に優れるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

The width w of the dummy pattern 23 is made 1/10-1/3 of one side of the wiring pattern formation block or made in 10 mm or more.例文帳に追加

ダミーパターン２３の幅Ｗは、配線パターン形成ブロック２２の一辺Ｌの１／１０〜１／３又は１０ｍｍ以上に形成する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for the formation of a pattern onto a panel substrate, where a process is simple and a fine pattern is formed with satisfactory accuracy.例文帳に追加

工程が簡単で、しかも微細パターン形成の精度も良い、パネル基材へのパターン形成方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method suitable for the formation of a fine three-dimensional structure pattern including a plurality of level differences.例文帳に追加

複数の段差を備えた微細な３次元構造パターンの形成に好適なパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for forming a conductive pattern which is excellent in insulation quality of a non pattern formation part and has a uniform and extremely small width or thickness.例文帳に追加

非パターン形成部の絶縁性に優れ、微細かつ均一な幅又は厚みの導体パターンを形成できる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern suitable for formation of a fine three-dimensional structural pattern having a plurality of level differences.例文帳に追加

複数の段差を備えた微細な３次元構造パターンの形成に好適なパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the first resist patterning step, a first resist pattern 11 having an opening pattern 111 is formed in a contact hole formation region.例文帳に追加

第１のレジストパターン形成工程では、コンタクトホール形成領域に、開口パターン１１１を有する第１のレジストパターン１１を形成する。 - 特許庁